2-Methyl-3-methyliminobutan-2-ol | 51839-95-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: 2-Methyl-3-methyliminobutan-2-ol
• 英文别名: 2-methyl-3-methyliminobutan-2-ol
• CAS: 51839-95-3
• 化学式: C₆H₁₃NO
• 分子量: 115.175
• InChiKey: XYEBQHJJXMIGFT-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.1
• 重原子数：
  8
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.83
• 拓扑面积：
  32.6
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-Methyl-3-methyliminobutan-2-ol 、 copper(II) methoxide 以 四氢呋喃 、 甲苯 为溶剂， 反应 11.0h， 以50%的产率得到
  参考文献：
  名称：

  METAL ALKOXIDE COMPOUND, THIN-FILM-FORMING MATERIAL, METHOD FOR PRODUCING THIN FILM, AND ALCOHOL COMPOUND

  摘要：

  揭示了一种具有适合用于CVD形成薄膜材料的物理性质的金属烷氧化物化合物，特别是一种具有适合用于形成金属铜薄膜材料的金属烷氧化物化合物。金属烷氧化物化合物由通式（I）表示。还描述了包括金属烷氧化物化合物的薄膜形成材料。（在公式中，R1代表甲基基团或乙基基团，R2代表氢原子或甲基基团，R3代表C1-3直链或支链烷基基团，M代表金属原子或硅原子，n代表金属原子或硅原子的价。

  公开号：

  US20150175642A1
• 作为产物：
  描述：

  N,2,2,5-tetramethylfuran-3-imine 在 甲胺 作用下， 生成 2-Methyl-3-methyliminobutan-2-ol
  参考文献：
  名称：

  Reaction of diacetylenic glycols with amines

  摘要：

  DOI：

  10.1007/bf00922344

文献信息

• Photochemische Untersuchungen an vicinal-substituierten terti�ren Alkylaziden
  作者：Sonja Solar、E. Koch、J. Leitich、P. Margaretha、O. E. Polansky

  DOI：10.1007/bf00911163

  日期：——
• ALCOHOL COMPOUND
  申请人：ADEKA CORPORATION

  公开号：US20180134739A1

  公开（公告）日：2018-05-17

  Disclosed is a metal alkoxide compound having physical properties suitable for a material for forming thin films by CVD, and particularly, a metal alkoxide compound having physical properties suitable for a material for forming metallic-copper thin films. A metal alkoxide compound is represented by general formula (I). A thin-film-forming material including the metal alkoxide compound is described as well. (In the formula, R 1 represents a methyl group or an ethyl group, R 2 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 3 represents a C 1-3 linear or branched alkyl group, M represents a metal atom or a silicon atom, and n represents the valence of the metal atom or silicon atom.
• Reaction of diacetylenic glycols with amines
  作者：B. P. Gusev、V. F. Kucherov

  DOI：10.1007/bf00922344

  日期：1974.1
• METAL ALKOXIDE COMPOUND, THIN-FILM-FORMING MATERIAL, METHOD FOR PRODUCING THIN FILM, AND ALCOHOL COMPOUND
  申请人：ADEKA CORPORATION

  公开号：US20150175642A1

  公开（公告）日：2015-06-25

  Disclosed is a metal alkoxide compound having physical properties suitable for a material for forming thin films by CVD, and particularly, a metal alkoxide compound having physical properties suitable for a material for forming metallic-copper thin films. A metal alkoxide compound is represented by general formula (I). A thin-film-forming material including the metal alkoxide compound is described as well. (In the formula, R 1 represents a methyl group or an ethyl group, R 2 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 3 represents a C 1-3 linear or branched alkyl group, M represents a metal atom or a silicon atom, and n represents the valence of the metal atom or silicon atom.

  揭示了一种具有适合用于CVD形成薄膜材料的物理性质的金属烷氧化物化合物，特别是一种具有适合用于形成金属铜薄膜材料的金属烷氧化物化合物。金属烷氧化物化合物由通式（I）表示。还描述了包括金属烷氧化物化合物的薄膜形成材料。（在公式中，R1代表甲基基团或乙基基团，R2代表氢原子或甲基基团，R3代表C1-3直链或支链烷基基团，M代表金属原子或硅原子，n代表金属原子或硅原子的价。