2-(Trichlormethyl-phenyl)-4-halogen-oxazol-Derivate, ein Verfahren zu ihrer Herstellung und sie enthaltende strahlungsempfindliche Massen
申请人:HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT
公开号:EP0041674A2
公开(公告)日:1981-12-16
2-(Halogenmethyl-phenyl)-4-halogen-oxazol-Derivate, ein Verfahren zu ihrer Herstellung und sie enthaltende strahlungsempfindliche Massen
Die Erfindung betrifft 2-(Halogenmethyl-phenyl)-4- halogenoxazol-Derivate der allgemeinen Formel l, in der bedeuten
Hall ein Halogenatom
Ha12 ein Chlor- oder Bromatom
m eine ganze Zahl von 1 bis 3
n eine ganze Zahl von 1 bis 4
R' ein Wasserstoffatom oder eine weitere Gruppe CH3-mHal2m, und
R2 einen n-wertigen, gegebenenfalls substituierten, ungesättigten organischen Rest
Sie betrifft außerdem ein Verfahren zur Herstellung dieser Verbindungen aus Halogenmethyl-benzaldehyden der allgemeinen Formel II und einem Carbonsäurecyanid der allgemeinen Formel III unter Einwirkung von HHal1, wobei die Reaktionsprodukte durch Hydrolyse freigesetzt werden. Diese Verbindungen können in strahlungsempfindlichen Massen eingesetzt werden, in denen sie beispielsweise Polymerisationsreaktionen, Vernetzungen, ionische Reaktionen, farbliche Veränderungen oder andersartige Folgereaktionen auslösen.
2-(卤甲基苯基)-4-卤恶唑衍生物、其制备方法和含有它们的辐射敏感性组合物
本发明涉及通式 l 的 2-(卤甲基苯基)-4-卤恶唑衍生物,其中
Hall是卤素原子
Ha12为氯原子或溴原子
m 是 1 至 3 的整数
n 是 1 至 4 的整数
R' 是氢原子或另一个基团 CH3-mHal2m,以及
R2 是 n 价、任选取代的不饱和有机基
本发明还涉及在 HHal1 的作用下,由通式 II 的卤代甲基苯甲醛和通式 III 的羧酸氰化物制备这类化合物的工艺,反应产物通过水解释放出来。这些化合物可用于对辐射敏感的组合物中,在这些组合物中,它们会引发聚合反应、交联反应、离子反应、颜色变化或其他类型的后续反应。