1,1,2,2,3,3-hexafluoropropane-1,3-disulfonyl difluoride | 82727-16-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机卤素化合物 - 磺酰卤
• 英文名称: 1,1,2,2,3,3-hexafluoropropane-1,3-disulfonyl difluoride
• 英文别名: 1,1,2,2,3,3-Hexafluoropropane-1,3-disulfonyldifluoride；1,1,2,2,3,3-hexafluoropropane-1,3-disulfonyl fluoride
• CAS: 82727-16-0
• 化学式: C₃F₈O₄S₂
• 分子量: 316.15
• InChiKey: JHHBILFKAVPGAP-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  105.5 °C
• 密度：
  1.7868 g/cm3

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.3
• 重原子数：
  17
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  85
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  12

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1,1,2,2,3,3-hexafluoropropane-1,3-disulfonyl difluoride 在 sodium tetrahydroborate 、 硫酸 作用下， 以 异丙醇 为溶剂， 反应 4.0h， 生成 perfluoropropane-1,3-disulfonic acid
  参考文献：
  名称：

  [EN] FLUOROIODO COMPOUNDS FOR FLUOROPOLYMERS
  [FR] COMPOSÉS FLUORO-IODO POUR FLUOROPOLYMÈRES

  摘要：

  本文描述了一种组合物，其中包括从以下群组中选择的部分氟化化合物：I（CF2）XCH = CH2（公式III）; 和I（CF2）XCH2CH2I（公式II），其中x是从3到11选择的奇数整数。

  公开号：

  WO2014062469A1
• 作为产物：
  描述：

  1,3-propanesdisulfonyl difluoride 在 氢氟酸 作用下， 以 乙腈 为溶剂， 反应 288.0h， 以36%的产率得到1,1,2,2,3,3-hexafluoropropane-1,3-disulfonyl difluoride
  参考文献：
  名称：

  全氟烷磺酰亚胺及其锂盐：中间体和目标化合物的合成与表征

  摘要：

  自1970年代初以来，帕多瓦大学氟化学实验室在ECF工艺方面已有广泛的经验和发展：已经获得了几类全氟化的惰性和功能化合物，特别是全氟杂环化合物和全氟化的酸性氟化物。

  DOI：

  10.1016/j.jfluchem.2003.07.003
• 作为试剂：
  描述：

  辛酰氯 在 fluorine 、 1,1,2,2,3,3-hexafluoropropane-1,3-disulfonyl difluoride 、 六氟苯 作用下， 以 全氟己烷 为溶剂， 反应 6.0h， 生成 全氟辛氟
  参考文献：
  名称：

  EP2221292

  摘要：

  公开号：

文献信息

• 着色组合物、硬化膜、彩色滤光片及其应用、彩 色滤光片的制造方法
  申请人：富士胶片株式会社

  公开号：CN105358628B

  公开（公告）日：2018-08-24

  本发明提供一种着色组合物、硬化膜、彩色滤光片及其应用、彩色滤光片的制造方法。本发明的着色组合物含有色素化合物、硬化性化合物以及溶剂，其中所述色素化合物具有含有下述通式(A1)所表示的结构、下述通式(A2)所表示的结构及含硼原子的结构的至少一个的阴离子部位与含有阳离子部位的色素结构，且所述阴离子部位及阳离子部位经由共价键进行键结而存在于同一分子内。通式(A1)中，R1及R2分别独立地表示‑SO2‑或‑CO‑通式(A2)中，R3表示‑SO2‑或‑CO‑；R4及R5分别独立地表示‑SO2‑、‑CO‑或‑CN。本发明可提供一种耐热性优异的着色组合物。
• PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD USING THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND COMPOUND FOR USE IN THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION
  申请人：Wada Kenji

  公开号：US20100233617A1

  公开（公告）日：2010-09-16

  A photosensitive composition includes: (A) a resin containing a repeating unit corresponding to a compound represented by the following formula (I); the resin being capable of producing an acid group upon irradiation with an actinic ray or radiation: Z-A-X—B—R   (I) wherein Z represents a group capable of becoming an acid group resulting from leaving of a cation upon irradiation with an actinic ray or radiation; A represents an alkylene group; X represents a single bond or a heteroatom-containing divalent linking group; B represents a single bond, an oxygen atom or —N(Rx)-; Rx represents a hydrogen atom or a monovalent organic group; R represents a monovalent organic group substituted by Y; when B represents —N(Rx)-, R and Rx may combine with each other to form a ring; and Y represents a polymerizable group.

  一种感光组合物包括：（A）含有与下式（I）所表示的化合物对应的重复单元的树脂；该树脂能够在受到光敏射线或辐射照射后产生酸基团：Z-A-X—B—R   （I）其中Z代表一个能够在受到光敏射线或辐射照射后由阳离子离去而形成酸基团的基团；A代表一个烷基基团；X代表一个单键或含杂原子的二价连接基团；B代表一个单键、一个氧原子或—N（Rx）-；Rx代表一个氢原子或一个一价有机基团；R代表一个通过Y取代的一价有机基团；当B代表—N（Rx）-时，R和Rx可以结合在一起形成一个环；Y代表一个可聚合的基团。
• Pattern forming method, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and resist film
  申请人：FUJIFILM CORPORATION

  公开号：US10248019B2

  公开（公告）日：2019-04-02

  A pattern forming, method, includes: (i) forming a film from an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition that contains (A) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation and decomposing by an action of an acid to decrease a solubility of the compound (A) for an organic solvent; (ii) exposing the film; and (iii) performing development by using a developer containing an organic solvent.

  一种形成图案的方法包括：(i) 使用一种含有（A）一种能够在受到光或辐射照射时生成酸并通过酸的作用分解以降低该化合物（A）对有机溶剂的溶解度的光敏或辐射敏感树脂组合物形成薄膜；(ii) 曝光薄膜；和(iii) 使用含有有机溶剂的显影剂进行显影。
• 反応性含フッ素スルホニルイミドとその重合体並びにそれを含有する帯電防止剤
  申请人：三菱マテリアル電子化成株式会社

  公开号：JP2019189545A

  公开（公告）日：2019-10-31

  【課題】樹脂からのブリードアウトを防止でき、優れた帯電防止作用を有する新規な化合物およびこれを含有する帯電防止剤を提供する。【解決手段】下記の一般式（１）で表され反応性含フッ素スルホニルイミドおよびこれに基づく繰り返し単位を有する重合体。ただし、下記の一般式（１）において、Ｒ１は水素原子、炭素数１〜１０の直鎖状あるいは分岐状のアルキル基、アルカリ金属イオンまたはオニウムカチオンを表し、Ｒ２はメチル基またはエチル基を表し、Ｒｆ１はフッ素原子または炭素数１〜４の直鎖状あるいは分岐状のパーフルオロアルキル基を表し、Ｒｆ２は炭素数１〜４の直鎖状あるいは分岐状のパーフルオロアルキレン基を表し、Ｘは２価の有機基である連結基を表し、Ａ＋はアルカリ金属イオンまたはオニウムカチオンを表す。［化１］【選択図】なし

  这项技术提供了一种能够防止树脂中的滴出现象，并具有优秀的防静电作用的新化合物以及包含该化合物的防静电剂。解决方案是具有以下通用式（1）所示的含有反应性氟磺酰亚胺和基于其的重复单元的聚合物。在通用式（1）中，R1代表氢原子、直链或支链的碳数为1~10的烷基、碱金属离子或离子型阳离子，R2代表甲基或乙基，Rf1代表氟原子或碳数为1~4的直链或支链全氟烷基，Rf2代表碳数为1~4的直链或支链全氟烷基，X代表双价有机基连接基，A+代表碱金属离子或离子型阳离子。【化1】【选择图】无
• Die elektrochemische Fluorierung von Alkansulfonamiden und Alkandisulfonamiden
  作者：P. Satori、C. Jünger

  DOI：10.1016/0022-1139(96)03478-1

  日期：1996.7

  Alkane sulphonylamides and disulphonylamides are stable in anhydrous (HF)x and undergo quantitative fission of S-N bonds during electrochemical fluorination. Besides NF3, the corresponding perfluoroalkane sulphonyl fluorides and disulphonyl fluorides are formed.

  烷烃磺酰胺和二磺酰胺在无水（HF）x中稳定，并且在电化学氟化过程中经历SN键的定量裂变。除了NF 3以外，还形成了相应的全氟烷烃磺酰氟和二磺酰氟。