1,1,2,2,3,3-Hexafluoropropane-1-sulfonylfluoride

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机卤素化合物 - 磺酰卤
• 英文名称: 1,1,2,2,3,3-Hexafluoropropane-1-sulfonylfluoride
• 英文别名: 1,1,2,2,3,3-hexafluoropropane-1-sulfonyl fluoride
• 化学式: C₃HF₇O₂S
• 分子量: 234.09
• InChiKey: MVFNNDLNWSUCKN-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.4
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  42.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  9

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  、 1,1,2,2,3,3-hexafluoropropane-1,3-disulfonyl difluoride 、 三乙胺 、 乙酸乙酯 在 碳酸氢钠 、 水 、 Sodium sulfate-III 、 甲醇 、 乙酸乙酯 、 Brine 、 3-((4-(2-methacrylamido)ethyl)phenoxy)sulfonyl 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 反应 10.3h， 以to obtain 15.7 g of 3-((4-(2-methacrylamido)ethyl)phenoxy)sulfonyl)-1,1,2,2,3,3-hexafluoropropane-1-sulfonylfluoride as a brown oil的产率得到1,1,2,2,3,3-Hexafluoropropane-1-sulfonylfluoride
  参考文献：
  名称：

  PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD USING THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND COMPOUND FOR USE IN THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION

  摘要：

  一种光敏感组合物包括：（A）含有与下式（I）所表示的化合物相应的重复单元的树脂；该树脂能够在接受光线或辐射照射后产生酸基：Z-A-X—B—R  （I），其中Z代表能够在接受光线或辐射照射后离开阳离子而形成酸基的基团；A代表烷基；X代表单键或含杂原子的双价连接基团；B代表单键、氧原子或—N（Rx）-；Rx代表氢原子或一价有机基团；R代表被Y取代的一价有机基团；当B代表—N（Rx）-时，R和Rx可以结合形成环；Y代表可聚合基团。

  公开号：

  US20100233617A1

文献信息

• PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD USING THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND COMPOUND FOR USE IN THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION
  申请人：Wada Kenji

  公开号：US20100233617A1

  公开（公告）日：2010-09-16

  A photosensitive composition includes: (A) a resin containing a repeating unit corresponding to a compound represented by the following formula (I); the resin being capable of producing an acid group upon irradiation with an actinic ray or radiation: Z-A-X—B—R   (I) wherein Z represents a group capable of becoming an acid group resulting from leaving of a cation upon irradiation with an actinic ray or radiation; A represents an alkylene group; X represents a single bond or a heteroatom-containing divalent linking group; B represents a single bond, an oxygen atom or —N(Rx)-; Rx represents a hydrogen atom or a monovalent organic group; R represents a monovalent organic group substituted by Y; when B represents —N(Rx)-, R and Rx may combine with each other to form a ring; and Y represents a polymerizable group.

  一种光敏感组合物包括：（A）含有与下式（I）所表示的化合物相应的重复单元的树脂；该树脂能够在接受光线或辐射照射后产生酸基：Z-A-X—B—R  （I），其中Z代表能够在接受光线或辐射照射后离开阳离子而形成酸基的基团；A代表烷基；X代表单键或含杂原子的双价连接基团；B代表单键、氧原子或—N（Rx）-；Rx代表氢原子或一价有机基团；R代表被Y取代的一价有机基团；当B代表—N（Rx）-时，R和Rx可以结合形成环；Y代表可聚合基团。
• Photosensitive composition, pattern forming method using the photosensitive composition and compound for use in the photosensitive composition
  申请人：Wada Kenji

  公开号：US09051403B2

  公开（公告）日：2015-06-09

  A photosensitive composition includes: (A) a resin containing a repeating unit corresponding to a compound represented by the following formula (I); the resin being capable of producing an acid group upon irradiation with an actinic ray or radiation: Z-A-X-B-R  (I) wherein Z represents a group capable of becoming an acid group resulting from leaving of a cation upon irradiation with an actinic ray or radiation; A represents an alkylene group; X represents a single bond or a heteroatom-containing divalent linking group; B represents a single bond, an oxygen atom or —N(Rx)-; Rx represents a hydrogen atom or a monovalent organic group; R represents a monovalent organic group substituted by Y; when B represents —N(Rx)-, R and Rx may combine with each other to form a ring; and Y represents a polymerizable group.

  一种光敏感组合物包括：（A）树脂，其含有与以下式（I）所代表的化合物相对应的重复单元；该树脂能够在被光致辐射后产生酸基：Z-A-X-B-R  （I），其中Z代表能够在被光致辐射后脱离阳离子而产生酸基的基团；A代表一个烷基链；X代表单键或含有杂原子的双价连接基团；B代表单键、氧原子或—N（Rx）-；Rx代表氢原子或单价有机基团；R代表被Y取代的单价有机基团；当B代表—N（Rx）-时，R和Rx可以结合形成环；而Y代表可聚合基团。