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2,2-二(烯丙基氧基甲基)丁基甲基丙烯酸酯 | 20241-99-0

中文名称
2,2-二(烯丙基氧基甲基)丁基甲基丙烯酸酯
中文别名
——
英文名称
trimethylolpropane diallyl ether monomethacrylate
英文别名
2,2-Bis(allyloxymethyl)butyl methacrylate;2,2-bis(prop-2-enoxymethyl)butyl 2-methylprop-2-enoate
2,2-二(烯丙基氧基甲基)丁基甲基丙烯酸酯化学式
CAS
20241-99-0
化学式
C16H26O4
mdl
——
分子量
282.38
InChiKey
DDZCXKJJOQTKQP-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

物化性质

  • 沸点:
    352.0±42.0 °C(Predicted)
  • 密度:
    0.960±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    3.1
  • 重原子数:
    20
  • 可旋转键数:
    13
  • 环数:
    0.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.56
  • 拓扑面积:
    44.8
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    4

安全信息

  • 海关编码:
    2916140000

SDS

SDS:2db23cd3d56bbbee134057b8dae0116c
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上下游信息

  • 上游原料
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    三甲氧基硅烷2,2-二(烯丙基氧基甲基)丁基甲基丙烯酸酯 在 dihydrogen hexachloroplatinate 、 4-甲氧基苯酚 作用下, 以 异丙醇 为溶剂, 生成 trimethylol propane methacrylate bis(propyltrimethoxysilane)
    参考文献:
    名称:
    ケイ素含有(メタ)アクリレート化合物
    摘要:
    本发明涉及含有式(I)中所述的含有硅元素的(甲基)丙烯酸酯化合物的组合物,其中,A代表C1-C12有机部分,例如烷基或芳基部分,B代表硅烷官能基,C代表(甲基)丙烯酸酯官能基,D代表烯丙基官能基,w = 0或1,z = 0,1或2,x = 1,2或3,y = 1,2或3,w + x + y + z = 4。该化合物适用于硬化组合物,例如过氧化物硬化性组合物或辐射硬化性组合物,可以应用于基材,例如涂层或密封剂。含有含有硅元素的(甲基)丙烯酸酯化合物的组合物可以改善粘附剂,提高交联密度和/或改善硬度,同时可以降低挥发性和气味问题。
    公开号:
    JP2015514122A
  • 作为产物:
    描述:
    甲基丙烯酸三羟甲基丙烷二烯丙基醚甲烷磺酸4-甲氧基苯酚 作用下, 以 正庚烷 为溶剂, 以808 g的产率得到2,2-二(烯丙基氧基甲基)丁基甲基丙烯酸酯
    参考文献:
    名称:
    ケイ素含有(メタ)アクリレート化合物
    摘要:
    本发明涉及含有式(I)中所述的含有硅元素的(甲基)丙烯酸酯化合物的组合物,其中,A代表C1-C12有机部分,例如烷基或芳基部分,B代表硅烷官能基,C代表(甲基)丙烯酸酯官能基,D代表烯丙基官能基,w = 0或1,z = 0,1或2,x = 1,2或3,y = 1,2或3,w + x + y + z = 4。该化合物适用于硬化组合物,例如过氧化物硬化性组合物或辐射硬化性组合物,可以应用于基材,例如涂层或密封剂。含有含有硅元素的(甲基)丙烯酸酯化合物的组合物可以改善粘附剂,提高交联密度和/或改善硬度,同时可以降低挥发性和气味问题。
    公开号:
    JP2015514122A
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文献信息

  • Functionalized Photoreactive Compounds
    申请人:Cherkaoui Mohammed Zoubair
    公开号:US20080274304A1
    公开(公告)日:2008-11-06
    The present invention concerns functionalized photoreactive compounds of formula (I), that are particularly useful in materials for the alignment of liquid crystals. Due to the adjunction of an electron withdrawing group to specific molecular systems bearing an unsaturation directly attached to two unsaturated ring systems, exceptionally high photosensitivities, excellent alignment properties as well as good mechanical robustness could be achieved in materials comprising said functionalized photoreactive compounds of the invention.
    本发明涉及式(I)的官能化光反应化合物,特别适用于液晶对准材料。由于在特定分子系统中的不饱和键直接连接到两个不饱和环系统上附加了一个电子受体基团,因此在包含本发明的这些官能化光反应化合物的材料中可以实现异常高的光敏性、优异的对准性能以及良好的机械稳健性。
  • [EN] CYANOSTILBENES<br/>[FR] CYANOSTILBÈNES
    申请人:ROLIC AG
    公开号:WO2014191292A1
    公开(公告)日:2014-12-04
    The present invention relates to novel compounds that are particularly useful for the alignment, especially photoalignment, of slave material, especially liquid crystals for optical or electro-optical applications, such as security applications, liquid crystal devices or optical or electro-optical films.
    本发明涉及一种新型化合物,特别适用于用于光学或电光应用的从材料,尤其是液晶的定向,特别是光定向,如安全应用、液晶器件或光学或电光薄膜。
  • SILICON-CONTAINING (METH) ACRYLATE COMPOUNDS
    申请人:ARKEMA FRANCE
    公开号:US20130266815A1
    公开(公告)日:2013-10-10
    The present invention includes silicon-containing (meth)acrylate compounds of formula (I) where A is a C 1 -C 12 organic moiety such as an alkyl or aryl moiety, B is a silane functional group, C is a (meth)acrylate functional group and D is an allyl functional group, with w=0 or 1, z=0, 1 or 2, x=1, 2 or 3, y=1, 2 or 3 and w+x+y+z=4. The compounds are suitable for use in curable compositions, such as peroxide-curable compositions or radiation-curable compositions and may be applied to a substrate as a coating or sealant, for example. Compositions containing the silicon-containing (meth)acrylate compounds may have reduced volatility and odor problems along with improved adhesion to substrates, increased crosslink density and/or improved hardness.
    本发明涉及公式(I)的含硅(甲基)丙烯酸酯化合物,其中A是C1-C12有机基团,例如烷基或芳基基团,B是硅烷官能团,C是(甲基)丙烯酸酯官能团,D是烯丙基官能团,其中w=0或1,z=0,1或2,x=1,2或3,y=1,2或3,且w+x+y+z=4。这些化合物适用于可固化组合物,例如过氧化物可固化组合物或辐射可固化组合物,并可作为涂层或密封剂应用于基材上。含有这些含硅(甲基)丙烯酸酯化合物的组合物可以具有降低挥发性和气味问题,同时具有改善对基材的附着力、增加交联密度和/或改善硬度的特点。
  • CYANOSTILBENES
    申请人:ROLIC AG
    公开号:US20160083655A1
    公开(公告)日:2016-03-24
    The present invention relates to novel compounds that are particularly useful for the alignment, especially photoalignment, of slave material, especially liquid crystals for optical or electro-optical applications, such as security applications, liquid crystal devices or optical or electro-optical films.
    本发明涉及新型化合物,特别适用于对从材料进行定向,尤其是光定向,特别是用于光学或电光应用的从材料,例如安全应用、液晶器件或光学或电光薄膜。
  • Photosensitive polymer compositions, electrophoretic deposition processes using same, and the use of same in forming films on substrates
    申请人:ROHM AND HAAS COMPANY
    公开号:EP0176356A2
    公开(公告)日:1986-04-02
    This invention is concerned with photosensitive polymer compositions useful in the preparation of printed circuit boards, lithographic printing plates, cathode ray tubes, as well as in chemical milling, solder resist and planarizing layer applications. The photosensitive polymer compositions comprise a crosslinkable photosensitive polymer composition, which comprises (a) photoinitiator, and (b) at least one polymer having one or more carrier groups per polymer molecule, and wherein the composition contains unsaturated groups so that it is capable, upon exposure to actinic radiation, of forming a film containing crosslinked polymer. The photosensitive polymer compositions, conveniently in the form of aqueous solutions or emulsions, are capable of being electrophoretically deposited as adherent, uniform, photosensitive films on conductive surfaces. Films formed from the photosensitive polymer compositions can be aqueous developable and resistant to strong inorganic acids and strong bases.
    本发明涉及可用于制备印刷电路板、平版印刷板、阴极射线管以及化学研磨、阻焊剂和平面化层应用的光敏聚合物组合物。光敏聚合物组合物包括一种可交联的光敏聚合物组合物,该组合物包含 (a) 光引发剂和 (b) 至少一种聚合物,每种聚合物分子具有一个或多个载体基团,其中该组合物包含不饱和基团,使其在暴露于光辐射后能够形成含有交联聚合物的薄膜。这种光敏聚合物组合物通常以水溶液或乳液的形式存在,能够以粘附、均匀、光敏薄膜的形式电泳沉积在导电表面上。 由光敏聚合物组合物形成的薄膜可在水溶液中显影,并可耐受强无机酸和强碱。
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