di-tert-butyl 5-methylisophthalate

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: di-tert-butyl 5-methylisophthalate
• 英文别名: ditert-butyl 5-methylbenzene-1,3-dicarboxylate
• 化学式: C₁₇H₂₄O₄
• 分子量: 292.375
• InChiKey: HXICJOAQNAPAAG-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4
• 重原子数：
  21
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.53
• 拓扑面积：
  52.6
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  di-tert-butyl 5-methylisophthalate 在 N-溴代丁二酰亚胺(NBS) 、 偶氮二异丁腈 、 二乙基亚磷酸氢酯 、 N,N-二异丙基乙胺 作用下， 以 四氯化碳 、 四氢呋喃 为溶剂， 反应 40.0h， 以70%的产率得到3,5-di(tert-butoxycarbo)benzylbromide
  参考文献：
  名称：

  金属-有机多面体核作为发散和收敛星形聚合物合成的多功能支架

  摘要：

  我们在此报告了使用金属有机多面体 (MOP) 作为多功能核心的配位星形聚合物 (CSP) 的发散和收敛合成。对于发散路线，设计了在外围装饰有二硫代苯甲酸酯或三硫酯链转移基团的铜基大菱形八面体 MOP。随后由 MOP 介导的单体的可逆加成断裂链转移 (RAFT) 聚合得到星形聚合物，其中 24 个聚合物臂从 MOP 核心接枝。另一方面，会聚路线通过简单混合大配体和铜离子提供相同的 CSP 架构。间苯二甲酸封端的聚合物（所谓的大分子配体）通过与铜（II）离子的配位反应立即形成相应的 CSP。这种收敛途径使我们能够通过单独的配体混合获得具有可调链组成的 miktoarm CSP。这种强大的方法可以立即获得各种通常需要高度熟练和多步合成的多组分星形聚合物。MOP-core CSPs 是一种新型星形聚合物，可以通过使用配位纳米笼作为构建组件，为高度可加工的多孔软材料提供设计策略。

  DOI：

  10.1021/jacs.6b01758
• 作为产物：
  描述：

  5-甲基间苯二酸 、 叔丁醇 在 1,8-二氮杂双环[5.4.0]十一碳-7-烯 、 N,N'-羰基二咪唑 作用下， 以 N,N-二甲基甲酰胺 为溶剂， 反应 24.0h， 以84%的产率得到di-tert-butyl 5-methylisophthalate
  参考文献：
  名称：

  枯草杆菌芽孢杆菌中单个氨基酸位点的多个负电荷的受控引入。

  摘要：

  在定点诱变和化学修饰相结合的策略中，使用甲硫基磺酸盐作为硫醇特异性修饰试剂，几乎可以创造出新的蛋白质表面环境。由于我们有兴趣将静电操作作为一种调节酶活性和特异性的手段，因此我们采用了这种方法来控制代表性丝氨酸蛋白酶枯草杆菌枯草芽孢杆菌（SBL）中单个位点的多个负电荷的掺入。合成了一系列的单，二和三酸性甲硫基磺酸盐，并用于修饰S2位点62，S1位点156和166，S1'位点217的SBL的半胱氨酸突变体。这些化学修饰的突变体（CMM）酶的动力学参数是在pH值为8的条件下确定的。在确保引入的非天然氨基酸侧链完全电离的条件下进行图6所示的操作。在SBL的S1，S1'和S2亚位中最多存在三个负电荷会导致活性降低多达11倍，这可能是由于干扰了催化水解反应过渡态的氧阴离子的稳定性。每单位负电荷的增加导致K（M）的增加和k（cat）的减少。但是，未观察到K（M）增加的上限，而k（cat）的减少达到极限值

  DOI：

  10.1016/s0968-0896(99)00167-4

文献信息

• Metal–Organic Polyhedral Core as a Versatile Scaffold for Divergent and Convergent Star Polymer Synthesis
  作者：Nobuhiko Hosono、Mika Gochomori、Ryotaro Matsuda、Hiroshi Sato、Susumu Kitagawa

  DOI：10.1021/jacs.6b01758

  日期：2016.5.25

  star polymers (CSP) by using metal-organic polyhedrons (MOPs) as a multifunctional core. For the divergent route, copper-based great rhombicuboctahedral MOPs decorated with dithiobenzoate or trithioester chain transfer groups at the periphery were designed. Subsequent reversible addition-fragmentation chain transfer (RAFT) polymerization of monomers mediated by the MOPs gave star polymers, in which

  我们在此报告了使用金属有机多面体 (MOP) 作为多功能核心的配位星形聚合物 (CSP) 的发散和收敛合成。对于发散路线，设计了在外围装饰有二硫代苯甲酸酯或三硫酯链转移基团的铜基大菱形八面体 MOP。随后由 MOP 介导的单体的可逆加成断裂链转移 (RAFT) 聚合得到星形聚合物，其中 24 个聚合物臂从 MOP 核心接枝。另一方面，会聚路线通过简单混合大配体和铜离子提供相同的 CSP 架构。间苯二甲酸封端的聚合物（所谓的大分子配体）通过与铜（II）离子的配位反应立即形成相应的 CSP。这种收敛途径使我们能够通过单独的配体混合获得具有可调链组成的 miktoarm CSP。这种强大的方法可以立即获得各种通常需要高度熟练和多步合成的多组分星形聚合物。MOP-core CSPs 是一种新型星形聚合物，可以通过使用配位纳米笼作为构建组件，为高度可加工的多孔软材料提供设计策略。
• Chemically modified enzymes with multiple charged variants
  申请人：GenenCor International, Inc.

  公开号：US20020127695A1

  公开（公告）日：2002-09-12

  This invention provides modified enzymes comprising one or more amino acid residues replaced by cysteine residues, where the cysteine residues are modified by replacing the thiol hydrogen in the cysteine residues with a substituent group providing a thiol side chain comprising a multiply charged moiety. The enzymes show improved interaction and/or specificity and/or activity with charged substrates.

  这项发明提供了一种改良酶，其中一个或多个氨基酸残基被半胱氨酸残基取代，半胱氨酸残基被替换为含有多重带电基团的硫醇侧链取代基，从而改良了酶与带电底物的相互作用和/或特异性和/或活性。
• The controlled introduction of multiple negative charge at single amino acid sites in subtilisin Bacillus lentus
  作者：Benjamin G. Davis、Xiao Shang、Grace DeSantis、Richard R. Bott、J.Bryan Jones

  DOI：10.1016/s0968-0896(99)00167-4

  日期：1999.11

  Bacillus lentus (SBL). A series of mono-, di- and triacidic acid methanethiosulfonates were synthesized and used to modify cysteine mutants of SBL at positions 62 in the S2 site, 156 and 166 in the S1 site and 217 in the S1' site. Kinetic parameters for these chemically modified mutant (CMM) enzymes were determined at pH 8.6 under conditions which ensured complete ionization of the unnatural amino acid side-chains

  在定点诱变和化学修饰相结合的策略中，使用甲硫基磺酸盐作为硫醇特异性修饰试剂，几乎可以创造出新的蛋白质表面环境。由于我们有兴趣将静电操作作为一种调节酶活性和特异性的手段，因此我们采用了这种方法来控制代表性丝氨酸蛋白酶枯草杆菌枯草芽孢杆菌（SBL）中单个位点的多个负电荷的掺入。合成了一系列的单，二和三酸性甲硫基磺酸盐，并用于修饰S2位点62，S1位点156和166，S1'位点217的SBL的半胱氨酸突变体。这些化学修饰的突变体（CMM）酶的动力学参数是在pH值为8的条件下确定的。在确保引入的非天然氨基酸侧链完全电离的条件下进行图6所示的操作。在SBL的S1，S1'和S2亚位中最多存在三个负电荷会导致活性降低多达11倍，这可能是由于干扰了催化水解反应过渡态的氧阴离子的稳定性。每单位负电荷的增加导致K（M）的增加和k（cat）的减少。但是，未观察到K（M）增加的上限，而k（cat）的减少达到极限值
• PATTERN FORMING METHOD, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM, MANUFACTURING METHOD OF ELECTRONIC DEVICE, ELECTRONIC DEVICE AND COMPOUND
  申请人：FUJIFILM CORPORATION

  公开号：US20160070167A1

  公开（公告）日：2016-03-10

  There is provided a pattern forming method comprising (i) a step of forming a film containing an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition containing (A) a compound represented by the specific formula, (B) a compound different from the compound (A) and capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, and (P) a resin that does not react with the acid generated from the compound (A) and is capable of decreasing the solubility for an organic solvent-containing developer by the action of the acid generated from the compound (B), (ii) a step of exposing the film, and (iii) a step of developing the exposed film by using an organic solvent-containing developer to form a negative pattern; the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition above; a resist film using the composition.

  提供了一种图案形成方法，包括（i）形成一种薄膜，其中包含一种感光树脂组成物，该组成物包含（A）一种特定化学式代表的化合物，（B）一种不同于化合物（A）的化合物，在接受光辐射后能够产生酸，并且（P）一种树脂，该树脂不会与从化合物（A）产生的酸发生反应，并且能够通过来自化合物（B）产生的酸的作用降低有机溶剂含有的显影剂的溶解度，（ii）曝光薄膜，（iii）使用有机溶剂含有的显影剂对曝光后的薄膜进行显影，形成负图案；上述感光树脂组成物；使用该组成物的抗蚀膜。
• Actinic-Ray- or Radiation-Sensitive Resin Composition, Compound and Method of Forming Pattern Using the Composition
  申请人：Yamaguchi Shuhei

  公开号：US20120237874A1

  公开（公告）日：2012-09-20

  According to one embodiment, an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition includes any of the compounds (A) of general formula (I) below that when exposed to actinic rays or radiation, generates an acid and a resin (B) whose rate of dissolution into an alkali developer is increased by the action of an acid. (The characters used in general formula (I) have the meanings mentioned in the description.)

  根据一种实施例，一种感光射线或辐射敏感的树脂组合物包括以下任何一种化合物（A），该化合物在暴露于感光射线或辐射时会产生酸和树脂（B），其溶解速度在碱性显影剂的作用下会增加。 （通式（I）中使用的字符具有描述中提到的含义。）