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辛烷-1,4,7-三醇 | 5432-79-1

中文名称
辛烷-1,4,7-三醇
中文别名
——
英文名称
1,4,7-Octantriol
英文别名
Octantriol-(1,4,7);octane-1,4,7-triol;Octan-1,4,7-triol;1,4,7-Octanetriol
辛烷-1,4,7-三醇化学式
CAS
5432-79-1
化学式
C8H18O3
mdl
——
分子量
162.229
InChiKey
VPJIDASIZYCWGX-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
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  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

物化性质

  • 沸点:
    148 °C(Press: 0.16 Torr)
  • 密度:
    1.051 g/cm3

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    0.1
  • 重原子数:
    11
  • 可旋转键数:
    6
  • 环数:
    0.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    1.0
  • 拓扑面积:
    60.7
  • 氢给体数:
    3
  • 氢受体数:
    3

安全信息

  • 海关编码:
    2905499000

SDS

SDS:19b9275c0f750766993db2dc9961a42b
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反应信息

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文献信息

  • Polyhydroxyalkanes from Furfural Condensation Products
    作者:Charles R. Russell、Kliem Alexander、W. O. Erickson、L. S. Hafner、L. E. Schniepp
    DOI:10.1021/ja01138a025
    日期:1952.9
  • US4956017A
    申请人:——
    公开号:US4956017A
    公开(公告)日:1990-09-11
  • [EN] PROCESS LIQUID COMPOSITION FOR PHOTOLITHOGRAPHY AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME<br/>[FR] COMPOSITION LIQUIDE DE TRAITEMENT POUR PHOTOLITHOGRAPHIE ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF L'UTILISANT<br/>[KO] 포토 리소그래피용 공정액 조성물 및 이를 이용한 패턴 형성 방법
    申请人:YOUNG CHANG CHEMICAL CO LTD
    公开号:WO2021060672A1
    公开(公告)日:2021-04-01
    본원 발명은 포토레지스트 패턴 공정에 있어서 포토레지스트 표면의 물에 대한 접촉각이 75° 이상의 소수성을 가지는 포토레지스트 패턴의 리프팅 결함 개선용 공정액 조성물에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 불소계 계면활성제 0.00001 내지 0.1중량%; 트리올 유도체, 테트라올 유도체 또는 이들의 혼합물로 구성된 군에서 선택되는 물질 0.00001 내지 1.0중량%; 및 잔량의 물;로 이루어지고 표면장력 45mN/m 이하, 접촉각 65° 이하인 것을 특징으로 하는 포토레지스트 패턴의 리프팅 결함 개선용 공정액 조성물 및 이를 이용한 패턴의 형성방법에 관한 것이다.
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