二丁基巯基硼烷 | 27484-95-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物
• 中文名称: 二丁基巯基硼烷
• 英文名称: Dibutylthioborsaeure
• 英文别名: dibutyl-mercapto-borane；Dibutyl-thioborinsaeure；Dibutyl-mercapto-boran；Di-n-butylthioborinic acid；dibutylborinothioic acid
• CAS: 27484-95-3
• 化学式: C₈H₁₉BS
• 分子量: 158.116
• InChiKey: ZUFAKHANRAJDRM-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  82-83 °C(Press: 21 Torr)
• 密度：
  0.8175 g/cm3

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.51
• 重原子数：
  10
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  1
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  二丁基巯基硼烷 生成 Tributyl-borthiin
  参考文献：
  名称：

  Thio- und selenoborsäuren

  摘要：

  DOI：

  10.1016/s0022-328x(00)91607-3
• 作为产物：
  描述：

  (butane-1-sulfenyl)-dibutyl-borane 在 硫化氢 作用下， 生成 二丁基巯基硼烷
  参考文献：
  名称：

  Michailow; Bubnow, Doklady Akademii Nauk SSSR, 1959, vol. 127, p. 571,572

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Redox-untersuchungen an jodboranen VI. Zur kenntnis von diborylsulfanen, R2B-Sx-BR2
  作者：Walter Siebert、Eduard Gast、Max Schmidt

  DOI：10.1016/s0022-328x(00)92946-2

  日期：1970.7

  with H2S2 or Na2S2 leads to the formation of bis-(dialkylboryl)disulfanes,R2B-S-S-BR2(VI). This new class of compounds exhibits a high thermal, but a low hydrolytical, stability. Attempts to obtain diborylsulfanes, R2B-S-BR2(V), by removing one sulfur atom from (VI) result in products formed by the rearrangement of (V). The reaction of disilthiane with dialkylhaloborane yields (V), stable only in solution

  二烷基碘硼烷与硫之间的氧化还原反应以及二烷基卤硼烷与H 2 S 2或Na 2 S 2的反应导致形成双-（二烷基硼基）二硫醚R 2 B-SS-BR 2（VI）。这类新化合物显示出高的热稳定性，但水解性却很低。尝试获得二硼烷基硫烷，R 2 B-S-BR 2（V），通过从（VI）中除去一个硫原子得到由（V）的重排形成的产物。二甲噻吩与二烷基卤硼烷的反应产生（V），仅在溶液中稳定。稳定的二硼烷基硫烷是由二苯基碘硼烷和甲硅烷基或硫，以及通过合适的硼烷基硫醚的热缩合而获得的。
• Metallorganische lewis-basen III. Thio-dimethylborane
  作者：Heinrich Vahrenkamp

  DOI：10.1016/s0022-328x(00)84565-9

  日期：1971.4

  basicity of the sulfur atom in (CH3)2B-S-B(CH3)2 and (CH3)3Sn-S-B(CH3)2 leads to slow polymerisation of these compounds. (C6H5)2P-S-B(CH3)2 probably is a dimer with a six-membered B-S-P ring. [(CO)4Mn-S-B(CH3)2]2 is the first thermally stable transition metal complex of a boron-sulfur compound. The Lewis acidity of the thio dimethylboranes is responsible for adduct formation with Lewis bases. Their Lewis

  R n X = H，CH 3，C 6 H 5，B（CH 3）2，Sn（CH 3）3，P（C 6 H 5）的硫代二甲基硼烷R n X-SB（CH 3）2的制备）2中描述了As（CH 3 2和Mn（CO）4。）（CH 3）2 B-SB（CH 3）2和（CH 3）3 Sn-SB（CH ）中硫原子的高路易斯碱性3）2导致这些化合物的缓慢聚合。（C 6 H 5）2 P-SB（CH 3）2可能是带有六元BSP环的二聚体。[（CO）4 Mn-SB（CH 3）2 ] 2是硼-硫化合物的第一热稳定过渡金属络合物。硫代二甲基硼烷的路易斯酸度负责与路易斯碱形成加合物。他们的路易斯碱度不足以锍盐的形成[（R 2 B）2-正SR Ñ 1 ] + X - 。相反，亲电试剂会裂解硼-硫键。
• Gmelin Handbuch der Anorganischen Chemie, Gmelin Handbook: B: B-Verb.3, 2.5.1.2, page 17 - 18
  作者：

  DOI：——

  日期：——
• Siebert, W.; Gast, E.; Riegel, F., unveroeffentlich (1975)
  作者：Siebert, W.、Gast, E.、Riegel, F.、Schmidt, M.

  DOI：——

  日期：——
• Gmelin Handbuch der Anorganischen Chemie, Gmelin Handbook: B: B Comp.SVol.1/3, 10.7.2.3, page 69 - 70
  作者：

  DOI：——

  日期：——