5,6-dihydroxy-7-oxabicyclo[2.2.1]heptane-2-carboxylic acid

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: 5,6-dihydroxy-7-oxabicyclo[2.2.1]heptane-2-carboxylic acid
• 化学式: C₇H₁₀O₅
• 分子量: 174.153
• InChiKey: ZZTJOHOETCDWML-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -1.6
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.86
• 拓扑面积：
  87
• 氢给体数：
  3
• 氢受体数：
  5

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  艾沙佐米 、 5,6-dihydroxy-7-oxabicyclo[2.2.1]heptane-2-carboxylic acid 以 乙酸乙酯 为溶剂， 以64%的产率得到2-((R)-1-(2-(2,5-dichlorobenzamido)acetamido)-3-methylbutyl)hexahydro-4,7-epoxybenzo[d][1,3,2]dioxaborolane-5-carboxylic acid
  参考文献：
  名称：

  一种硼酸酯类化合物及其药学上可接受的盐、其制备方法及其用途

  摘要：

  如式(1)所示硼酸酯类化合物及其药学上可接受的盐、其制备方法及其用途，该硼酸酯类化合物结构新颖且具有抑制蛋白酶体功能。本发明的硼酸酯类化合物在溶液中的稳定性远远高于Ixazomib。特别是在pH1.2和pH6.8时，本发明的化合物稳定性更有优势。此外，微粒体稳定性结果表明，本发明的化合物在5种不同肝微粒体具有较好的稳定性，而Ixazomib在食蟹猴中的微粒体半衰期太长，药物基本不代谢，会引起严重的毒性，可用于在制备治疗炎症、免疫相关性疾病、癌症或者过度增殖性疾病、改变生物体中蛋白酶体产生的抗原肽的药物方面的用途。

  公开号：

  CN113105486B
• 作为产物：
  描述：

  7-噁双环[2.2.l]-5-庚烯 在 吡啶 、 四氧化锇 、 十二/十四烷基二甲基氧化胺 、 水 作用下， 以 叔丁醇 为溶剂， 以50%的产率得到5,6-dihydroxy-7-oxabicyclo[2.2.1]heptane-2-carboxylic acid
  参考文献：
  名称：

  一种硼酸酯类化合物及其药学上可接受的盐、其制备方法及其用途

  摘要：

  如式(1)所示硼酸酯类化合物及其药学上可接受的盐、其制备方法及其用途，该硼酸酯类化合物结构新颖且具有抑制蛋白酶体功能。本发明的硼酸酯类化合物在溶液中的稳定性远远高于Ixazomib。特别是在pH1.2和pH6.8时，本发明的化合物稳定性更有优势。此外，微粒体稳定性结果表明，本发明的化合物在5种不同肝微粒体具有较好的稳定性，而Ixazomib在食蟹猴中的微粒体半衰期太长，药物基本不代谢，会引起严重的毒性，可用于在制备治疗炎症、免疫相关性疾病、癌症或者过度增殖性疾病、改变生物体中蛋白酶体产生的抗原肽的药物方面的用途。

  公开号：

  CN113105486B

文献信息

• Universal building blocks and support media for synthesis of oligonucleotides and their analogs
  申请人：——

  公开号：US20040152905A1

  公开（公告）日：2004-08-05

  Compounds for the synthesis of oligomeric compounds, particularly oligonucleotides and chemically modified oligonucleotide analogs, are provided. In addition, methods for functionalization of a support medium with a first monomeric subunit and methods for the synthesis of oligomeric compounds utilizing the novel compounds bound to support media are provided.

  提供用于合成寡聚化合物，特别是寡核苷酸和化学修饰的寡核苷酸类似物的化合物。此外，还提供了将支持介质功能化为第一单体亚基的方法，以及利用与支持介质结合的新化合物合成寡聚化合物的方法。
• RESIST COMPOSITION, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN, COMPOUND AND ACID GENERATOR
  申请人：Kawaue Akiya

  公开号：US20120009521A1

  公开（公告）日：2012-01-12

  A resist composition including: a base component (A) which exhibits changed solubility in an alkali developing solution under action of acid; and an acid-generator component (B) which generates acid upon exposure, wherein said acid-generator component (B) comprises an acid generator (B1) including a compound represented by general formula (b1-11) shown below: wherein R 7″ to R 9″ each independently represent an aryl group or an alkyl group, wherein two of R 7″ to R 9″ may be bonded to each other to form a ring with the sulfur atom, and at least one of R 7″ to R 9″ represents a substituted aryl group having a group represented by general formula (I) shown below as a substituent; X − represents an anion; and R f represents a fluorinated alkyl group.

  一种抗蚀组合物，包括：一种基础组分（A），在酸的作用下在碱性显影液中表现出改变的溶解度；以及一种酸发生剂组分（B），在暴露后生成酸，其中所述酸发生剂组分（B）包括一种酸发生剂（B1），该酸发生剂（B1）包括下式（b1-11）所示的化合物：其中R7''至R9''各自独立地表示芳基或烷基，其中R7''至R9''中的两个可以结合形成带有硫原子的环，并且至少一个R7''至R9''表示带有下式（I）所表示的基团作为取代基的取代芳基；X-表示阴离子；Rf表示氟化烷基。
• US8206890B2
  申请人：——

  公开号：US8206890B2

  公开（公告）日：2012-06-26
• US8367299B2
  申请人：——

  公开号：US8367299B2

  公开（公告）日：2013-02-05