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triphenylsulfonium 1,1-difluoro-2-(1H-imidazol-1-yl)-2-oxoethane-1-sulfonate | 1311403-44-7

中文名称
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中文别名
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英文名称
triphenylsulfonium 1,1-difluoro-2-(1H-imidazol-1-yl)-2-oxoethane-1-sulfonate
英文别名
——
triphenylsulfonium 1,1-difluoro-2-(1H-imidazol-1-yl)-2-oxoethane-1-sulfonate化学式
CAS
1311403-44-7
化学式
C5H3F2N2O4S*C18H15S
mdl
——
分子量
488.536
InChiKey
LBDVGLUENPVQDF-UHFFFAOYSA-M
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    4.44
  • 重原子数:
    33.0
  • 可旋转键数:
    5.0
  • 环数:
    4.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.04
  • 拓扑面积:
    92.09
  • 氢给体数:
    0.0
  • 氢受体数:
    6.0

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    triphenylsulfonium 1,1-difluoro-2-(1H-imidazol-1-yl)-2-oxoethane-1-sulfonate草酸 作用下, 以 氯仿乙腈 为溶剂, 反应 22.0h, 生成
    参考文献:
    名称:
    SALT, PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING PHOTORESIST PATTERN
    摘要:
    一种光刻胶组合物,包含一种树脂,该树脂几乎不溶解或不溶解,但在酸的作用下可溶解于水性碱溶液中,并且包含由式(I)表示的盐:其中Q1、Q2、L1、W1、W2、R1、R2、t1和t2在规范中定义,Z+代表有机阳离子。
    公开号:
    US20130052588A1
  • 作为产物:
    参考文献:
    名称:
    塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
    摘要:
    本发明旨在提供一种含有盐和所述盐的光刻胶组合物,可以制造具有良好CD均一性(CDU)的光刻图案。所述盐由式(I)表示。在式(I)中,Q1和Q2分别独立地表示氟原子等。R1和R2分别独立地表示氢原子、氟原子等。z表示0~6中的任一整数。X1表示*−CO−O−、*−O−CO−、*−O−CO−O−或*−O−,其中*表示与C(R1)(R2)或C(Q1)(Q2)的结合位。A1表示具有取代基的2-36碳原子的二价碳氢基等。R3和R4分别独立地表示氢原子或1-6碳原子的饱和碳氢基。R5表示具有氟原子的1-24碳原子的碳氢基等。Z+表示有机阳离子。【选定图】无
    公开号:
    JP2018203711A
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文献信息

  • SALT AND PROCESS FOR PRODUCING ACID GENERATOR
    申请人:YOSHIDA Isao
    公开号:US20110201823A1
    公开(公告)日:2011-08-18
    A salt represented by the formula (I0): wherein Q 1 and Q 2 each independently represent a fluorine atom or a C1-C6 perfluoroalkyl group, L 1 represents a divalent C1-C17 hydrocarbon group in which one or more —CH 2 — can be replaced by —O— or —CO—, m represents 1 or 2, and Z m+ represents m-valent organic or inorganic cation.
    根据您提供的化学公式(I0),其翻译成中文为: 其中Q1和Q2各自独立代表一个原子或一个C1-C6全氟烷基团,L1代表一个二价的C1-C17碳氢化合物基团,在该基团中,一个或多个—CH2—可以被—O—或—CO—所替换,m代表1或2,而Zm+代表m价有机或无机阳离子。
  • 염 및 이를 포함하는 포토레지스트 조성물
    申请人:SUMITOMO CHEMICAL CO., LTD. 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤(519980961735)
    公开号:KR20150069543A
    公开(公告)日:2015-06-23
    화학식 I로 나타내어지는 염. 화학식 I 상기 화학식 I에서, Q 및 Q는 각각 독립적으로, 불소 원자 또는 C-C 퍼플루오로알킬 그룹을 나타내고; L은 C-C 2가 포화 탄화수소 그룹 등을 나타내고; R, R, R 및 R는 각각의 경우 독립적으로, C-C 지방족 탄화수소 그룹 등을 나타내고; Z는 유기 짝이온을 나타낸다.
    这是您提供的文本的中文翻译: 化学式I表示的盐。在化学式I中,Q和Q分别独立表示原子或C-C全氟烷基基团;L表示C-C 2饱和烃基团等;R、R、R和R分别独立表示C-C脂肪族烃基团等;Z表示有机离子。
  • PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING PHOTORESIST PATTERN
    申请人:SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
    公开号:US20160195809A1
    公开(公告)日:2016-07-07
    A photoresist composition comprising a resin having an acid-labile group; a salt represented by the formula (I); and a salt represented by the formula (B1).
    一种包括具有酸敏基团的树脂、由化学式(I)表示的盐以及由化学式(B1)表示的盐的光刻胶组合物。
  • 塩、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
    申请人:住友化学株式会社
    公开号:JP2015063472A
    公开(公告)日:2015-04-09
    【課題】良好なCD均一性のレジストパターンを製造することができる塩及びレジスト組成物を提供する。【解決手段】式(I)で表される塩。[式(I)中、Q1及びQ2は、それぞれ独立に、フッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表す。Lb1は、炭素数1〜24の2価の飽和炭化水素基を表す。Aは、環を構成する構造として−S−CO−を有する炭素数2〜36の複素環基を表す。該複素環基の水素原子はハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数1〜12の飽和炭化水素基、炭素数6〜24の芳香族炭化水素基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数2〜4のアシル基又は炭素数2〜4のアシルオキシ基で置換されていてもよい。Z+は、有機対イオンを表す。]【選択図】なし
    提供可以制造良好CD均一性的盐和光刻胶组合物。盐由式(I)表示。在式(I)中,Q1和Q2分别独立表示原子或含有1-6个碳原子的全氟烷基。Lb1表示含有1-24个碳原子的二价饱和烷基。A表示构成环的结构,是含有2-36个碳原子的复杂环基,该复杂环基的氢原子可以被卤原子、羟基、含有1-12个碳原子的饱和烷基、含有6-24个碳原子的芳香族烷基、含有1-12个碳原子的烷氧基、含有2-4个碳原子的酰基或含有2-4个碳原子的酰氧基取代。Z+表示有机阳离子。【选择图】无
  • SALT, PHOTORESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR PRODUCING PHOTORESIST PATTERN
    申请人:ANRYU Yukako
    公开号:US20120328986A1
    公开(公告)日:2012-12-27
    A salt represented by formula (I): wherein Q 1 and Q 2 independently each represent a fluorine atom or a C1-C6 perfluoroalkyl group, n represents 0 or 1, L l represents a single bond or a C1-C10 alkanediyl group in which a methylene group may be replaced by an oxygen atom or carbonyl group, provided that L l is not a single bond when n is 0, ring W represents a C3-C36 aliphatic ring in which a methylene group may be replaced by an oxygen atom, a sulfur atom, a carbonyl group or a sulfonyl group and in which a hydrogen atom may be replaced by a hydroxyl group, a C1-C12 alkyl group or a C1-C12 alkoxy group, R l represents a hydroxyl group or a hydroxyl group protected by a protecting group, and Z + represents an organic cation.
    一种用化学式(I)表示的盐:其中Q1和Q2分别表示原子或C1-C6全氟烷基基团,n表示0或1,Ll表示单键或C1-C10脂肪二基团,其中一个亚甲基基团可被氧原子或羰基取代,但当n为0时,Ll不是单键,环W表示C3-C36脂肪环,其中一个亚甲基基团可被氧原子、原子、羰基或磺酰基取代,氢原子可被氢氧基、C1-C12烷基基团或C1-C12烷氧基取代,Rl表示氢氧基或受保护的氢氧基,Z+表示有机阳离子。
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