triphenylsulfonium hydroxycarbonyldifluoromethanesulfonate | 942619-42-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: triphenylsulfonium hydroxycarbonyldifluoromethanesulfonate
• 英文别名: Triphenylsulfonium hydroxycarbonyldifluoromethanesulfonate；1,1-difluoro-2-hydroxy-2-oxoethanesulfonate;triphenylsulfanium
• CAS: 942619-42-3
• 化学式: C₂HF₂O₅S*C₁₈H₁₅S
• 分子量: 438.473
• InChiKey: AMGXHWNGZFUDBJ-UHFFFAOYSA-M

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.99
• 重原子数：
  29
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.05
• 拓扑面积：
  104
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  7

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  triphenylsulfonium hydroxycarbonyldifluoromethanesulfonate 在 4-甲基苯磺酸吡啶 、 N,N'-羰基二咪唑 作用下， 以 氯仿 为溶剂， 反应 38.5h， 生成
  参考文献：
  名称：

  塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

  摘要：

  本发明旨在提供一种含有盐和所述盐的光刻胶组合物，可以制造具有良好CD均一性（CDU）的光刻图案。所述盐由式（I）表示。在式（I）中，Q1和Q2分别独立地表示氟原子等。R1和R2分别独立地表示氢原子、氟原子等。z表示0~6中的任一整数。X1表示*−CO−O−、*−O−CO−、*−O−CO−O−或*−O−，其中*表示与C（R1）（R2）或C（Q1）（Q2）的结合位。A1表示具有取代基的2-36碳原子的二价碳氢基等。R3和R4分别独立地表示氢原子或1-6碳原子的饱和碳氢基。R5表示具有氟原子的1-24碳原子的碳氢基等。Z+表示有机阳离子。【选定图】无

  公开号：

  JP2018203711A
• 作为产物：
  描述：

  difluorosulfoacetic acid sodium salt 、 氯化三苯基硫 以 水 为溶剂， 反应 20.0h， 生成 triphenylsulfonium hydroxycarbonyldifluoromethanesulfonate
  参考文献：
  名称：

  Salt suitable for an acid generator and a chemically amplified positive resist composition containing the same

  摘要：

  本发明提供了一种由公式(I)表示的盐：其中X代表含至少一个二价脂环烃基的C3-C30二价基团，并且C3-C30二价基团中的至少一个—CH2—可以被—O—或—CO—取代，Y代表一个C3-C30环烃基，该环烃基可以至少被选自C1-C6烷氧基、C1-C4全氟烷基、C1-C6羟基烷基、羟基和氰基的至少一个取代基取代，并且C3-C30环烃基中的至少一个—CH2—可以被—O—或—CO—取代，Q1和Q2各自独立地代表一个氟原子或一个C1-C6全氟烷基，以及A+代表一个有机反离子。

  公开号：

  US20080086014A1
• 作为试剂：
  描述：

  1-methyl-1,2,3,4-tetrahydronaphthalen-1-ol 、 triphenylsulfonium 2-((5-carboxyadamantan-2-yl)oxy)-1,1-difluoro-2-oxoethane-1-sulfonate 在 triphenylsulfonium hydroxycarbonyldifluoromethanesulfonate 作用下， 以 氯仿 为溶剂， 反应 5.5h， 生成
  参考文献：
  名称：

  塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

  摘要：

  这是一种旨在提供含有盐、酸发生剂和含有该酸发生剂的光刻胶组合物，可以制造具有良好CD均一性（CDU）的光刻图案的发明。解决方案涉及由式（I）表示的盐、酸发生剂和光刻胶组合物。【式中，Q1和Q2分别独立表示氟原子或全氟烷基。R1和R2分别独立表示氢原子、氟原子或全氟烷基。z表示0到6之间的任何整数。X1表示*−CO−O−、*−O−CO−、*−O−CO−O−或*−O−。L1表示可能具有取代基的碳氢基。R3表示氢原子或碳氢基。L2表示单键或烷基基。L3表示烷基基。Ar表示可能具有取代基的双价芳香烃基。Z+表示有机阳离子。】【选择图】无

  公开号：

  JP2021070692A

文献信息

• SALT AND PROCESS FOR PRODUCING ACID GENERATOR
  申请人：YOSHIDA Isao

  公开号：US20110201823A1

  公开（公告）日：2011-08-18

  A salt represented by the formula (I0): wherein Q 1 and Q 2 each independently represent a fluorine atom or a C1-C6 perfluoroalkyl group, L 1 represents a divalent C1-C17 hydrocarbon group in which one or more —CH 2 — can be replaced by —O— or —CO—, m represents 1 or 2, and Z m+ represents m-valent organic or inorganic cation.

  根据您提供的化学公式(I0)，其翻译成中文为： 其中Q1和Q2各自独立代表一个氟原子或一个C1-C6全氟烷基团，L1代表一个二价的C1-C17碳氢化合物基团，在该基团中，一个或多个—CH2—可以被—O—或—CO—所替换，m代表1或2，而Zm+代表m价有机或无机阳离子。
• 수지 및 레지스트 조성물
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL CO., LTD. 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤(519980961735)

  公开号：KR101766920B1

  公开（公告）日：2017-08-09

  본 발명의 수지는 하기 화학식 (aa)로 표시되는 화합물에서 유래하는 구조 단위를 갖는다. [식 중, T는 탄소수 4 내지 36의 지환식 탄화수소기를 나타내고, 이 지환식 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는 할로겐 원자, 수산기, 할로겐 원자 또는 수산기로 치환될 수도 있는 탄소수 1 내지 12의 알킬기, 탄소수 1 내지 12의 알콕시기, 탄소수 6 내지 12의 아릴기, 탄소수 7 내지 12의 아랄킬기, 글리시딜옥시기, 탄소수 2 내지 4의 아실기, 알콕시카르보닐기, 알카노일옥시알킬기 또는 시아노기로 치환될 수도 있으며, 상기 지환식 탄화수소기에 포함되는 -CH-는 적어도 하나의 -SO-로 치환되고, 추가로 -CO-, -O-, -S-, -SO- 또는 -N(R)-로 치환될 수도 있고, R는 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 6의 알킬기를 나타내고, R은 수소 원자, 할로겐 원자, 또는 할로겐 원자를 가질 수도 있는 탄소수 1 내지 6의 알킬기를 나타내며, Z은 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 1 내지 17의 포화 탄화수소기를 나타내고, 상기 포화 탄화수소기에 포함되는 -CH-는 -CO-, -O-, -S- 또는 -N(R)-로 치환될 수도 있음]

  本发明的树脂具有来自以下化学式（aa）表示的化合物的结构单元。[式中，T表示碳数为4至36的环烷基，该环烷基中包含的氢原子可以被卤素原子、羟基、卤素原子或羟基所取代的碳数为1至12的烷氧基、碳数为1至12的醇基、碳数为6至12的烯基、碳数为7至12的炔基、硅烷基、碳数为2至4的酰基、醇基卡宾基、醇基氰基烷氧基或硅基所取代，且上述环烷基中包含的-CH-至少有一个被-SO-取代，并且还可以被额外的-CO-、-O-、-S-、-SO-或-N(R)-取代；R表示氢原子或碳数为1至6的烷基；R表示氢原子、卤素原子或含卤素原子的碳数为1至6的烷基；Z表示碳数为1至17的饱和烃基，该饱和烃基中包含的-CH-可以被-CO-、-O-、-S-或-N(R)-所取代。]
• 염 및 이를 포함하는 포토레지스트 조성물
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL CO., LTD. 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤(519980961735)

  公开号：KR20150069543A

  公开（公告）日：2015-06-23

  화학식 I로 나타내어지는 염. 화학식 I 상기 화학식 I에서, Q 및 Q는 각각 독립적으로, 불소 원자 또는 C-C 퍼플루오로알킬 그룹을 나타내고; L은 C-C 2가 포화 탄화수소 그룹 등을 나타내고; R, R, R 및 R는 각각의 경우 독립적으로, C-C 지방족 탄화수소 그룹 등을 나타내고; Z는 유기 짝이온을 나타낸다.

  这是您提供的文本的中文翻译： 化学式I表示的盐。在化学式I中，Q和Q分别独立表示氟原子或C-C全氟烷基基团；L表示C-C 2饱和烃基团等；R、R、R和R分别独立表示C-C脂肪族烃基团等；Z表示有机离子。
• PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING PHOTORESIST PATTERN
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：US20160195809A1

  公开（公告）日：2016-07-07

  A photoresist composition comprising a resin having an acid-labile group; a salt represented by the formula (I); and a salt represented by the formula (B1).

  一种包括具有酸敏基团的树脂、由化学式（I）表示的盐以及由化学式（B1）表示的盐的光刻胶组合物。
• 塩、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
  申请人：住友化学株式会社

  公开号：JP2015063472A

  公开（公告）日：2015-04-09

  【課題】良好なＣＤ均一性のレジストパターンを製造することができる塩及びレジスト組成物を提供する。【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。［式（Ｉ）中、Ｑ1及びＱ2は、それぞれ独立に、フッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基を表す。Ｌb1は、炭素数１〜２４の２価の飽和炭化水素基を表す。Ａは、環を構成する構造として−Ｓ−ＣＯ−を有する炭素数２〜３６の複素環基を表す。該複素環基の水素原子はハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数１〜１２の飽和炭化水素基、炭素数６〜２４の芳香族炭化水素基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数２〜４のアシル基又は炭素数２〜４のアシルオキシ基で置換されていてもよい。Ｚ＋は、有機対イオンを表す。］【選択図】なし

  提供可以制造良好CD均一性的盐和光刻胶组合物。盐由式（I）表示。在式（I）中，Q1和Q2分别独立表示氟原子或含有1-6个碳原子的全氟烷基。Lb1表示含有1-24个碳原子的二价饱和烷基。A表示构成环的结构，是含有2-36个碳原子的复杂环基，该复杂环基的氢原子可以被卤原子、羟基、含有1-12个碳原子的饱和烷基、含有6-24个碳原子的芳香族烷基、含有1-12个碳原子的烷氧基、含有2-4个碳原子的酰基或含有2-4个碳原子的酰氧基取代。Z+表示有机阳离子。【选择图】无