β-methacryloyloxy-β-methyl-γ-butyrolactone | 195000-63-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 内酯类
• 英文名称: β-methacryloyloxy-β-methyl-γ-butyrolactone
• 英文别名: γ-butyrolactone-3-methyl-3-ylmethacrylate；3-Methyl-5-oxooxolan-3-yl 2-methylprop-2-enoate；(3-methyl-5-oxooxolan-3-yl) 2-methylprop-2-enoate
• CAS: 195000-63-6
• 化学式: C₉H₁₂O₄
• 分子量: 184.192
• InChiKey: ALRKOZVWDDKMPA-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.9
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.56
• 拓扑面积：
  52.6
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  β-methacryloyloxymethyl-β-methyl-β-propiolactone 在 三氟化硼乙醚 、 4-甲氧基苯酚 作用下， 以 乙酸乙酯 为溶剂， 反应 2.0h， 生成 β-methacryloyloxy-β-methyl-γ-butyrolactone
  参考文献：
  名称：

  METHOD FOR MANUFACTRURING BETA-(METH)ACRYLOYLOXY-GAMMA-BUTYROLACTONES

  摘要：

  这项艺术涉及提供一种用于制造（甲基）丙烯酸酯聚合单体的方法，该单体可用于各种应用，如光学材料、抗蚀材料、涂料和层压材料，并通过应用该制造方法提供一种新的β-(甲基)丙烯酰氧基-γ-丁内酯化合物。描述了制造β-(甲基)丙烯酰氧基-γ-丁内酯化合物的方法，其中将具有羰基的（甲基）丙烯酸酯化合物与酮烯化合物进行缩合和异构化。此外，该制造方法应用于新的β-(甲基)丙烯酰氧基-γ-丁内酯化合物。

  公开号：

  US20150126753A1

文献信息

• MONOMERS, POLYMERS AND PHOTORESIST COMPOSITIONS
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials Korea Ltd.

  公开号：US20180059545A1

  公开（公告）日：2018-03-01

  In one preferred embodiment, polymers are provided that comprise a structure of the following Formula (I): Photoresists that comprises such polymers also are provided.

  在一个首选实施例中，提供了包含以下化学式（I）结构的聚合物： 还提供了包含这种聚合物的光刻胶。
• RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST PATTERN-FORMING METHOD, COMPOUND AND METHOD OF GENERATING ACID
  申请人：JSR CORPORATION

  公开号：US20200341376A1

  公开（公告）日：2020-10-29

  A radiation-sensitive resin composition contains: a polymer that includes a structural unit including an acid-labile group; and a radiation-sensitive acid generating agent. The radiation-sensitive acid generating agent includes a sulfonate anion and a radiation-sensitive cation. The sulfonate anion includes two or more rings, and an iodine atom and a monovalent group having 0 to 10 carbon atoms which includes at least one of an oxygen atom and a nitrogen atom bond to at least one of the two or more rings. The ring is preferably an aromatic ring. The radiation-sensitive acid generating agent is preferably a compound represented by formula (1). In the formula (1), A 1 represents a group obtained from a compound which includes a ring having 3 to 20 ring atoms by removing (p+q+r+1) hydrogen atoms on the ring.

  一种辐射敏感树脂组合物包含：包括含有酸敏感基团的结构单元的聚合物；和辐射敏感酸发生剂。辐射敏感酸发生剂包括磺酸根离子和辐射敏感阳离子。磺酸根离子包括两个或两个以上的环，以及一个碘原子和一个含有0至10个碳原子的一价基团，其中该基团至少包括一个氧原子和一个氮原子，与两个或两个以上的环中的至少一个结合。环最好是芳香环。辐射敏感酸发生剂最好是由式（1）表示的化合物。在式（1）中，A1表示通过去除环上（p+q+r+1）个氢原子而获得的由含有3至20个环原子的环的化合物得到的基团。
• HEMIACETAL COMPOUND, POLYMER, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US20160238930A1

  公开（公告）日：2016-08-18

  A polymer for resist use is obtainable from a hemiacetal compound having formula (1 a ) wherein R 1 is H, CH 3 or CF 3 , R 2 to R 4 each are H or a monovalent hydrocarbon group, X 1 is a divalent hydrocarbon group, ZZ designates a non-aromatic mono- or polycyclic ring of 4 to 20 carbon atoms having a hemiacetal structure, k 1 =0 or 1, and k 2 =0 to 3. A resist composition comprising the polymer displays controlled acid diffusion and low roughness during both positive and negative tone developments.

  从具有以下式（1a）的半缩醛化合物获得用于抗蚀的聚合物，其中R1为H、CH3或CF3，R2至R4分别为H或单价碳氢基团，X1为二价碳氢基团，ZZ表示具有半缩醛结构的非芳香性4至20个碳原子的单环或多环环，k1=0或1，k2=0至3。包含该聚合物的抗蚀组合物显示出在正片和负片显影过程中控制酸扩散和低粗糙度。
• MONOMER, POLYMER, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US20140045123A1

  公开（公告）日：2014-02-13

  A polymer comprising recurring units derived from a (meth)acrylate monomer of tertiary ester type having branched alkyl on alicycle is used to form a resist composition. When subjected to exposure, PEB and organic solvent development, the resist composition is improved in dissolution contrast.

  一种聚合物，包括由具有支链烷基的萜酸酯单体衍生的重复单元，用于形成抗蚀组合物。在经过曝光、PEB和有机溶剂显影处理后，抗蚀组合物在溶解对比度方面得到改善。
• BICYCLOHEXANE DERIVATIVE AND PRODUCTION METHOD FOR SAME
  申请人：Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.

  公开号：EP2524907A1

  公开（公告）日：2012-11-21

  A bicyclohexane derivative compound useful in the field of photoresist, the field of intermediate of drugs and pesticides, and the like, and a manufacturing method of the same are provided. A bicyclohexane derivative compound represented by the following general formula (II) is provided. (In formula (II), Y independently represents an alkyl group of 1 to 10 carbons, a halogen atom, an acyloxy group, an alkoxycarbonyl group or a hydroxyl group, X1 represents a halogen atom, m represents an integer of 0 to 11, and m' represents an integer of 0 to 10.)

  提供了一种在光刻胶领域、药物和杀虫剂的中间体领域等领域中有用的一种萜环己烷衍生物化合物，以及其制备方法。提供了由下述通用公式（II）表示的一种萜环己烷衍生物化合物。（在公式（II）中，Y独立表示1至10个碳原子的烷基、卤素原子、酰氧基、烷氧羰基或羟基，X1表示卤素原子，m表示0至11的整数，m'表示0至10的整数。）