三甲基硅烷离子 | 54711-92-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 碳氢化合物衍生物
• 中文名称: 三甲基硅烷离子
• 英文名称: trimethylsilanide ion
• 英文别名: trimethyl-silyl anion；Trimethylsilanide
• CAS: 54711-92-1
• 化学式: C₃H₉Si
• 分子量: 73.19
• InChiKey: KAIYWUVPHGWYIE-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.37
• 重原子数：
  4
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  三甲基硅烷离子 在 二氧化碳 作用下， 生成 trimethylsiloxide anion
  参考文献：
  名称：

  甲硅烷基和三甲基甲硅烷基阴离子的气相反应。硅氧键和硅硫键的形成。流动的余辉和从头开始的研究

  摘要：

  Les 离子 H 3 Si - et Me 3 Si - reagissent CO 2 , COS, CS 2 , SO 2 , N 2 O, MeNCO et MeNCS共振峰 H 3 SiO - , Me 3 SiO - , Me 3 SiO - , H 3 SiS - ou Me 3 SiS - 。电影

  DOI：

  10.1021/ja00281a055
• 作为产物：
  描述：

  六甲基二硅烷 在 氢氟酸 作用下， 生成 三甲基氟硅烷 、 三甲基硅烷离子
  参考文献：
  名称：

  阴离子与取代硅烷的气相反应

  摘要：

  通过流动余辉技术研究了氟化物、酰胺、氢氧化物和甲醇离子与各种取代硅烷的气相反应。氟化物很容易与三甲基甲硅烷基衍生物反应以取代苄基、烯基和炔基阴离子。这些反应也已用于生成特定的结构异构体（CH3C=C" 和 CH2=C=CH"）。比苯阴离子更碱性的阴离子不能以这种方式产生，它们的母体三甲基硅烷通过更复杂的机制与氟化物相互作用。每当存在酸性氢时，酰胺、氢氧化物和甲醇离子通过置换和质子提取与取代的三甲基硅烷反应；在没有可置换基团和酸性氢的情况下，酰胺、氢氧化物和甲醇盐的反应与氟离子的反应平行。出现了。我们一直在使用流动的余辉系统进行此类实验。5,6 一个直接的问题涉及在气相中形成碳负离子的方法，因为只有相对少数的阴离子可以通过电子捕获有效地形成。因此，大多数有机阴离子是通过强气相碱（如 CH3O"、OH" 或 NH2"）从中性有机化合物中转移质子生成的。在许多情况下，这是一种有效且明确的方法，并

  DOI：

  10.1021/ja00535a031

文献信息

• Reactions of trimethylstannide and trimethylsiliconide anions with aromatic and heteroaromatic substrates
  作者：Al Postigo、Santiago E. Vaillard、Roberto A. Rossi

  DOI：10.1002/poc.570

  日期：2002.12

  irradiation, the SRN1 mechanism operates concurrently with the formation of the hypervalent tin species. Me3Si− ions, on the other hand, react with PhX (X = Cl, Br, I) to yield the ipso substitution product, presumably through the intermediacy of a hypervalent silicon species. PhF affords, upon reaction with Me3Si− ions, o- and p-fluorotrimethylsilylbenzenes together with the ipso substitution product PhSiMe3

  并行研究是对我的反应进行3的Sn -和Me 3硅-朝向在六甲基磷酰胺（HMPA）作为溶剂的芳族和杂芳族基片的离子。据发现，我3硅-离子是更具反应性的，并且因此选择性较低比我3的Sn -离子。在HMPA，披和PhBr与我反应3的Sn -通过HME路径离子。PhCl也通过HME反应发生反应，但是在光刺激下，S RN 1机制与HME过程竞争。与PHF作为底物中，Me 3 Sn的-离子可能通过高价锡物种提供了（4-氟苯基）三甲基锡烷。在辐射下，S RN 1机制与高价锡物种的形成同时进行。我3硅-离子，在另一方面，与PHX反应（X =氯，溴，I），得到本位取代产物，推测是通过一个高价硅物种的中间性。PHF得到，在反应时与我3硅-离子，ö -和p与一起-fluorotrimethylsilylbenzenes本位取代产物PhSiMe 3。一种新的类型的亲核取代机理发生与我3硅-在与芳族和杂芳族底物反应
• Mechanistic studies on the reactions of trimethylsilanide and trimethylstannylide ions with haloarenes in hexamethylphosphoramide
  作者：Al Postigo、Santiago E. Vaillard、Roberto A. Rossi

  DOI：10.1016/s0022-328x(02)01572-3

  日期：2002.8

  former, compared with the more reactive, and less selective Me3Si− ions. When 1-allyloxy-2-halobenzenes (X=Cl, I) are allowed to react with Me3Sn− ions in HMPA, an ipso substitution product 6 is obtained, in addition to stannylated products on the allylic moiety. This reaction proceeds by a HME process, as opposed to the same reaction carried out in liquid ammonia, where (2,3-dihydro-benzofuran-3-yl

  大的正ρ选自Me得到的值3中号-离子与适当取代的氯代芳烃（4.1±0.1，以及对于M = Sn和硅分别2.94±0.02）可占强的负电荷的存在下反应取代反应的过渡态。这些ρ为我值3的Sn -和Me 3硅- ARX的亲核攻击为前者的总体更大的选择性提供的证据，与更具反应性，并且选择性较差我比较3硅-离子。当1-烯丙氧基-2-卤代苯（X = Cl，I）与Me 3 Sn反应-离子HMPA，一个本位取代产物6获得，除了stannylated产品上的烯丙基基团。与在液氨中进行的相同反应相反，该反应通过HME方法进行，其中通过S RN 1机理高产率地提供了（2,3-二氢-苯并呋喃-3-基甲基）-三甲基锡烷（4）。。我的反应3硅-与1-烯丙氧基-2-碘苯在HMPA，得到仅离子本位取代产物，即2-（烯丙氧基-苯基） -三甲基硅烷（11）中，通过高价的硅物种的中间性。
• Regiocontrolled conversion of α,β-unsaturated ketones to olefins allylsilanes: synthesis of -9(0)-methano-Δ6(9α)-PGI1
  作者：Masakatsu Shibasaki、Hidemi Fukasawa、Shiro Ikegami

  DOI：10.1016/s0040-4039(00)86022-0

  日期：——
• Gas-phase reaction of silyl and trimethylsilyl anions. The formation of silicon-oxygen and silicon-sulfur bonds. A flowing afterglow and ab initio study
  作者：John C. Sheldon、John H. Bowie、Charles H. DePuy、Robert. Damrauer

  DOI：10.1021/ja00281a055

  日期：1986.10

  Les ions H 3 Si − et Me 3 Si − reagissent avec CO 2 , COS, CS 2 , SO 2 , N 2 O, MeNCO et MeNCS formant H 3 SiO − , Me 3 SiO − , Me 3 SiO − , H 3 SiS − ou Me 3 SiS − . Cinetique

  Les 离子 H 3 Si - et Me 3 Si - reagissent CO 2 , COS, CS 2 , SO 2 , N 2 O, MeNCO et MeNCS共振峰 H 3 SiO - , Me 3 SiO - , Me 3 SiO - , H 3 SiS - ou Me 3 SiS - 。电影
• Gas-phase reactions of anions with substituted silanes
  作者：C. H. DePuy、Veronica M. Bierbaum、L. A. Flippin、Joseph J. Grabowski、Gary K. King、Robert J. Schmitt、S. A. Sullivan

  DOI：10.1021/ja00535a031

  日期：1980.7

  fluoride, amide, hydroxide, and methoxide ions with a variety of substituted silanes have been studied by the flowing afterglow technique. Fluoride reacts readily with trimethylsilyl derivatives to displace benzyl, alkenyl, and alkynyl anions. These reactions have also been used to generate specific structural isomers (CH3C=C" and CH2=C=CH"). Anions more basic than phenide ion cannot be produced in this

  通过流动余辉技术研究了氟化物、酰胺、氢氧化物和甲醇离子与各种取代硅烷的气相反应。氟化物很容易与三甲基甲硅烷基衍生物反应以取代苄基、烯基和炔基阴离子。这些反应也已用于生成特定的结构异构体（CH3C=C" 和 CH2=C=CH"）。比苯阴离子更碱性的阴离子不能以这种方式产生，它们的母体三甲基硅烷通过更复杂的机制与氟化物相互作用。每当存在酸性氢时，酰胺、氢氧化物和甲醇离子通过置换和质子提取与取代的三甲基硅烷反应；在没有可置换基团和酸性氢的情况下，酰胺、氢氧化物和甲醇盐的反应与氟离子的反应平行。出现了。我们一直在使用流动的余辉系统进行此类实验。5,6 一个直接的问题涉及在气相中形成碳负离子的方法，因为只有相对少数的阴离子可以通过电子捕获有效地形成。因此，大多数有机阴离子是通过强气相碱（如 CH3O"、OH" 或 NH2"）从中性有机化合物中转移质子生成的。在许多情况下，这是一种有效且明确的方法，并