3-(2-hydroxyethoxy)-adamantyl 2-methylacrylate

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 英文名称: 3-(2-hydroxyethoxy)-adamantyl 2-methylacrylate
• 英文别名: 3-(2-hydroxyethoxy)-1-adamantyl methacrylate；3-(2-Hydroxyethoxy)adamantan-1-yl methacrylate；[3-(2-hydroxyethoxy)-1-adamantyl] 2-methylprop-2-enoate
• 化学式: C₁₆H₂₄O₄
• 分子量: 280.364
• InChiKey: JNMDSVAPEKNHQF-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.2
• 重原子数：
  20
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.81
• 拓扑面积：
  55.8
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  三氟乙酰氯 、 3-(2-hydroxyethoxy)-adamantyl 2-methylacrylate 在 吡啶 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 反应 1.75h， 生成 [3-[2-(2,2,2-Trifluoroacetyl)oxyethoxy]-1-adamantyl] 2-methylprop-2-enoate
  参考文献：
  名称：

  COMPOUND, RESIN, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN

  摘要：

  化合物的化学式为（I），包括从该化合物衍生的结构单元的树脂和包括该树脂的抗蚀组合物： 其中R 1 代表氢原子、卤素原子或C 1 到C 6 烷基基团，其中氢原子可以被卤素原子取代，R 2 代表C 1 到C 6 全氟烷基基团或*—CHR f1 R f2 ，*代表与羰基结合位点，R f1 和R f2 各自独立代表C 1 到C 4 全氟烷基基团或R f1 和R f2 可以与结合在一起的碳原子形成环，A 1 代表单键，C 1 到C 6 烷二基基团或**-A 3 -X 1 -(A 4 -X 2 ) a -(A 5 ) b -，**代表与氧原子结合位点，A 2 、A 3 、A 4 和A 5 各自独立代表C 1 到C 6 烷二基基团，X 1 和X 2 各自独立代表—O—、—CO—O—或—O—CO—，a和b各自代表0或1，W 1 代表C 5 到C 18 的二价脂环烃基团。

  公开号：

  US20160130210A1
• 作为产物：
  描述：

  3-methanesulfonyloxy-1-adamantyl methacrylate 、 乙二醇 在 三乙胺 作用下， 反应 2.0h， 生成 3-(2-hydroxyethoxy)-adamantyl 2-methylacrylate
  参考文献：
  名称：

  EP1712542

  摘要：

  公开号：

文献信息

• MONOMERS, POLYMERS AND PHOTORESIST COMPOSITIONS
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials Korea Ltd.

  公开号：US20180059545A1

  公开（公告）日：2018-03-01

  In one preferred embodiment, polymers are provided that comprise a structure of the following Formula (I): Photoresists that comprises such polymers also are provided.

  在一个首选实施例中，提供了包含以下化学式（I）结构的聚合物： 还提供了包含这种聚合物的光刻胶。
• NON-IONIC ARYL KETONE BASED POLYMERIC PHOTO-ACID GENERATORS
  申请人：International Business Machines Corporation

  公开号：US20180044459A1

  公开（公告）日：2018-02-15

  Non-ionic photo-acid generating (PAG) polymerizable monomers were prepared that contain a side chain sulfonate ester of an alpha-hydroxy aryl ketone. The aryl ketone group has a perfluorinated substituent alpha to the ketone carbonyl. The sulfur of the sulfonate ester is also directly linked to a fluorinated group. PAG polymers prepared from the PAG monomers release a strong sulfonic acid when exposed to high energy radiation such as deep UV or extreme UV light. The photo-generated sulfonic acid has a low diffusion rate in an exposed resist layer subjected to a post-exposure bake (PEB) at 100° C. to 150° C., resulting in formation of good line patterns after development.

  制备了含有α-羟基芳基酮的侧链磺酸酯的非离子光酸发生（PAG）可聚合单体。芳基酮基团在酮基团的α位有全氟取代基。磺酸酯的硫也直接连接到氟化基团。从这些PAG单体制备的PAG聚合物在暴露于高能辐射（如深紫外或极紫外光）时释放出强磺酸。在经过后曝光烘烤（PEB）处理（100°C至150°C）的暴露光刻胶层中，光生成的磺酸扩散速率较低，结果在显影后形成良好的线型图案。
• PHOTORESIST COMPOSITIONS AND METHODS
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials Korea Ltd.

  公开号：US20170090283A1

  公开（公告）日：2017-03-30

  New photoresists are provided that are useful in a variety of applications, including negative-tone development processes. Preferred resists comprise a first polymer comprising first units comprising a reactive nitrogen-containing moiety spaced from the polymer backbone, wherein the nitrogen-containing moiety produces a basic cleavage product during lithographic processing of the photoresist composition.

  提供了新的光阻剂，可用于各种应用，包括负调色剂开发过程。首选光阻剂包括第一聚合物，其中包括与聚合物骨架间隔的含有反应性氮基团的第一单元，其中氮基团在光刻处理光阻剂组合物期间产生碱性裂解产物。
• OVERCOAT COMPOSITIONS AND METHODS FOR PHOTOLITHOGRAPHY
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials Korea Ltd.

  公开号：US20170090287A1

  公开（公告）日：2017-03-30

  Topcoat compositions are provided that are suitably applied above a photoresist composition. Preferred topcoat compositions comprise a first polymer comprising first units comprising a reactive nitrogen-containing moiety spaced from the polymer backbone, wherein the nitrogen-containing moiety produces a basic cleavage product during lithographic processing of the photoresist composition.

  提供了适合应用在光阻剂组合物上方的面漆组合物。首选的面漆组合物包括第一聚合物，其中第一单元包括与聚合物主链相距的含反应性氮基团，氮基团在光刻加工光阻剂组合物时产生碱性裂解产物。
• Adamantane derivatives and process for producing the same
  申请人：Hatakeyama Naoyoshi

  公开号：US20070129532A1

  公开（公告）日：2007-06-07

  The present invention provides an adamantane derivative (I) having a structure represented by the general formula (I); an adamantane derivative (II) having a structure represented by the general formula (II); and a process for producing those adamantane derivatives. An alcohol form of an adamantane compound is reacted with a sulfonyl compound to obtain the adamantane derivative (II), which is then reacted with an alcohol to obtain the adamantane derivative (I). The adamantane derivative (I) and adamantane derivative (II) each having the structure represented by the general formula (I) and general formula (II), respectively, is a novel adamantyl(meth)acrylate compound and useful as a monomer for functional resins such as a photosensitive resin in the field of photolithography.

  本发明提供了一种具有通式（I）所表示的结构的金刚烷衍生物（I）；一种具有通式（II）所表示的结构的金刚烷衍生物（II）；以及用于制备这些金刚烷衍生物的方法。将金刚烷化合物的醇形式与磺酰化合物反应，以获得金刚烷衍生物（II），然后将其与醇反应以获得金刚烷衍生物（I）。具有通式（I）和通式（II）所表示的金刚烷衍生物分别是一种新的金刚烷基（甲基）丙烯酸酯化合物，并且在光刻领域的光敏树脂等功能性树脂的单体中有用。