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2,2-difluoro-3-hydroxypropionic acid

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
2,2-difluoro-3-hydroxypropionic acid
英文别名
3,3-Difluoro-4-hydroxybutan-2-one
2,2-difluoro-3-hydroxypropionic acid化学式
CAS
——
化学式
C4H6F2O2
mdl
MFCD18813343
分子量
124.087
InChiKey
ABJVKQQWNODIQZ-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    -0.1
  • 重原子数:
    8
  • 可旋转键数:
    2
  • 环数:
    0.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.75
  • 拓扑面积:
    37.3
  • 氢给体数:
    1
  • 氢受体数:
    4

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    2-oxopropyl acrylate2,2-difluoro-3-hydroxypropionic acid对甲苯磺酸 作用下, 以 甲苯 为溶剂, 反应 16.0h, 以71.1%的产率得到
    参考文献:
    名称:
    一种含氟光刻胶酸敏树脂单体及其制备方法和应用
    摘要:
    本发明属于光刻胶树脂单体,公开了一种含氟光刻胶酸敏树脂单体及其制备方法和应用,涉及光刻胶领域,该树脂单体的结构为:其中R1为氢或者甲基;R2为C1‑C12的饱和烷烃基,且烃基结构中的亚甲基可以被酯基、醚基、碳酸酯基替代;R3为为C1‑C12的饱和烷烃基;R4为全氟代或者部分氟代的C1‑C12的饱和烷烃基。该树脂单体与其它树脂单体聚合后形成光刻胶树脂,可以改善光刻图案的线边缘粗糙度,提高分辨率,在193nm浸没式光刻中,增加光刻胶的疏水性,形成良好光刻图案。
    公开号:
    CN113402495A
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文献信息

  • 一种含氟光刻胶酸敏树脂单体及其制备方法和应用
    申请人:徐州博康信息化学品有限公司
    公开号:CN113402495A
    公开(公告)日:2021-09-17
    本发明属于光刻胶树脂单体,公开了一种含氟光刻胶酸敏树脂单体及其制备方法和应用,涉及光刻胶领域,该树脂单体的结构为:其中R1为氢或者甲基;R2为C1‑C12的饱和烷烃基,且烃基结构中的亚甲基可以被酯基、醚基、碳酸酯基替代;R3为为C1‑C12的饱和烷烃基;R4为全氟代或者部分氟代的C1‑C12的饱和烷烃基。该树脂单体与其它树脂单体聚合后形成光刻胶树脂,可以改善光刻图案的线边缘粗糙度,提高分辨率,在193nm浸没式光刻中,增加光刻胶的疏水性,形成良好光刻图案。
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