triphenylsulfonium 4-oxo-1-adamantyloxycarbonyl difluoromethanesulfonate

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: triphenylsulfonium 4-oxo-1-adamantyloxycarbonyl difluoromethanesulfonate
• 英文别名: Triphenylsulfonium 4-oxo-1-adamantyloxycarbonyldifluoromethanesulfonate；1,1-difluoro-2-oxo-2-[(4-oxo-1-adamantyl)oxy]ethanesulfonate;triphenylsulfanium
• 化学式: C₁₂H₁₃F₂O₆S*C₁₈H₁₅S
• 分子量: 586.678
• InChiKey: BAHMOGUQNNDZRT-UHFFFAOYSA-M

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  5.6
• 重原子数：
  40
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  7.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.33
• 拓扑面积：
  110
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  8

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  triphenylsulfonium 4-oxo-1-adamantyloxycarbonyl difluoromethanesulfonate 在 吡啶 、 硫酸 作用下， 以 氯仿 为溶剂， 反应 7.0h， 生成
  参考文献：
  名称：

  SALT AND PHOTORESIST COMPOSITION CONTAINING THE SAME

  摘要：

  一种盐，其具有由公式（aa）表示的基团：其中Xa和Xb独立地代表一个氧原子或一个硫原子，环W代表一个具有酯键或硫酯键的C3-C36杂环环，该杂环环还可以进一步具有一个氧原子、一个硫原子、一个羰基或一个磺酰基，其中每个都已被一个亚甲基取代，该杂环环还可以具有一个羟基、一个氰基、一个羧基、一个C1-C12烷基、一个C1-C12烷氧基、一个C2-C13烷氧羰基、一个C2-C13酰基、一个C2-C13酰氧基、一个C3-C12脂环烃基、一个C6-C10芳香烃基或任何组合，其中每个都已被氢原子取代，*表示一个结合位置。

  公开号：

  US20170247323A1
• 作为产物：
  描述：

  5-羟基-2-金刚烷酮 在 硼烷四氢呋喃络合物 、 硫酸 、 三乙胺 作用下， 以 四氢呋喃 、 氯仿 、 水 、 1,2-二氯乙烷 为溶剂， 反应 33.1h， 生成 triphenylsulfonium 4-oxo-1-adamantyloxycarbonyl difluoromethanesulfonate
  参考文献：
  名称：

  JP5821582

  摘要：

  公开号：

文献信息

• Salt suitable for an acid generator and a chemically amplified resist composition containing the same
  申请人：Yoshida Isao

  公开号：US20070027336A1

  公开（公告）日：2007-02-01

  The present invention provides a salt of the formula (L) A salt of the formula (L): wherein Q represents —CO— group or —C(OH)— group; ring X represents monocyclic or polycyclic hydrocarbon group having 3 to 30 carbon atoms in which a hydrogen atom is substituted with a hydroxyl group at Q position when Q is —C(OH)— group or in which two hydrogen atoms are substituted with ≡O group at Q position when Q is —CO— group, and at least one hydrogen atom in the monocylic or polycyclic hydrocarbon group may optionally be substituted with alkyl group having 1 to 6 carbon atom, alkoxy group having 1 to 6 carbon atom, perfluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms, hydroxyalkyl group having 1 to 6 carbon atoms, hydroxyl group or cyano group; R 10 and R 20 each independently represent fluorine atom or perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms; and A + represents organic counter ion. The present invention also provides a chemically amplified resist composition comprising the salt of the formula (L).

  本发明提供了一种具有公式(L)的盐：其中Q代表—CO—基团或—C(OH)—基团；环X代表具有3至30个碳原子的单环或多元环烃基团，当Q是—C(OH)—基团时，在Q位置的氢原子被羟基取代，或者当Q是—CO—基团时，在Q位置的两个氢原子被≡O基团取代，并且单环或多元环烃基团中的至少一个氢原子可以可选地被具有1至6碳原子的烷基、具有1至6碳原子的烷氧基、具有1至4碳原子的全氟烷基、具有1至6碳原子的羟基烷基、羟基或氰基取代；R10和R20各自独立地代表氟原子或具有1至6碳原子的全氟烷基；A+代表有机反离子。本发明还提供了一种包含公式(L)的盐的化学放大抗蚀剂组合物。
• 塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
  申请人：住友化学株式会社

  公开号：JP2016047815A

  公开（公告）日：2016-04-07

  【課題】良好なラインエッジラフネス（ＬＥＲ）のレジストパターンを製造することができる塩を提供することを目的とする。【解決手段】式（ａ）で表される基を有する塩。 ［式（ａ）中、 Ｘa及びＸbは、それぞれ独立に、酸素原子又は硫黄原子を表す。 Ｘ1は、脂環式炭化水素基を有する２価の基を表し、該脂環式炭化水素基を有する２価の基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよく、該脂環式炭化水素基を有する２価の基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基又はフッ素原子で置換されていてもよい。＊は、結合手を表す。］【選択図】なし

  旨在提供能够制造出良好线条边缘粗糙度（LER）的盐的目的。具有由式（a）表示的基团的盐。[在式（a）中，Xa和Xb分别独立表示氧原子或硫原子。X1表示具有脂环烃基的二价基团，其中包含脂环烃基的二价基团中的亚甲基可以被氧原子或羰基取代，脂环烃基的二价基团中的氢原子可以被羟基或氟原子取代。*表示连接手。][选择图]无
• 염 및 이를 포함하는 포토레지스트 조성물
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL CO., LTD. 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤(519980961735)

  公开号：KR20150088738A

  公开（公告）日：2015-08-03

  본 발명은, 광 조사에 의해 산을 발생시키는 염으로서, 상기 염은, 아세탈 구조를 갖는 산-불안정성 그룹을 포함하고, 상기 산과의 접촉이 발생함에 의해 상기 그룹으로부터, 불소-함유 염기-불안정성 그룹을 갖는 모이어티(moiety)가 제거되는, 염을 제공한다.

  This text appears to be a technical description related to a patent or invention. Here is the translation in Chinese: 本发明是一种通过光照射产生酸的盐，所述盐包括具有缩醛结构的酸-不稳定性基团，通过与所述酸接触而从所述基团中去除含氟碱-不稳定性基团的物质提供了该盐。
• カルボン酸塩、カルボン酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
  申请人：住友化学株式会社

  公开号：JP2018135324A

  公开（公告）日：2018-08-30

  【課題】良好なフォーカスマージン（ＤＯＦ）でレジストパターンを製造することができる塩及びレジスト組成物を提供することを目的とする。【解決手段】式（Ｉ）で表されるカルボン酸塩、該塩を含む酸発生剤及びレジスト組成物。［式中、Ｘa及びＸbは、それぞれ独立に、酸素原子又は硫黄原子を表す。Ｘ１は、置換基を有してもよい炭素数１〜２４の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる−ＣＨ2−は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−又は−Ｓ（Ｏ）２−に置き換わっていてもよい。Ｘ２は、脂環式炭化水素基を有するアルカンジイル基（該脂環式炭化水素基及び該アルカンジイル基は置換基を有してもよい）を表し、該脂環式炭化水素基及びアルカンジイル基に含まれる−ＣＨ2−は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−又は−Ｓ（Ｏ）２−に置き換わっていてもよい。Ｚ１＋は、有機カチオンを表す。］【選択図】なし

  这项技术旨在提供一种含有盐和光刻胶组合物，可用于在良好的焦深（DOF）下制造光刻图案。解决方案包括由式（I）表示的羧酸盐、含有该盐的酸发生剂和光刻胶组合物。【式中，Xa和Xb分别独立表示氧原子或硫原子。X1表示具有取代基的碳数为1~24的烃基，该烃基中的-CH2-可以被替换为-O-、-S-、-CO-或-S（O）2-。X2表示带有脂环烃基的烷基（该脂环烃基和烷基可以带有取代基），其中包含的-CH2-可以被替换为-O-、-S-、-CO-或-S（O）2-。Z1+表示有机阳离子。】【选择图：无】
• Chemically amplified positive resist composition, (meth)acrylate derivative and a process for producing the same
  申请人：Takemoto Ichiki

  公开号：US20050266351A1

  公开（公告）日：2005-12-01

  The present invention provides a chemically amplified positive resist composition comprising (A) a resin which comprises (i) a structural unit of the formula (I) and (ii) at least one structural unit selected from the group consisting of structural units of the formulas (II), (III), (IV) and (V) and (B) an acid generator. The present invention further provides a novel monomers useful for the resist composition, and process for the monomers and the compositions.

  本发明提供了一种化学增感正性光阻组合物，包括(A)树脂，该树脂包括(i)公式(I)的结构单元和(ii)选自结构单元组的至少一个结构单元，所述结构单元组包括公式(II)、(III)、(IV)和(V)的结构单元，以及(B)酸发生剂。本发明还提供了一种新型单体，可用于制备光阻组合物，以及单体和组合物的制备方法。