tricyclodecyl methanol

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: tricyclodecyl methanol
• 英文别名: tri(cyclodecyl)methanol
• 化学式: C₃₁H₅₈O
• 分子量: 446.801
• InChiKey: UNXGGDOKJGKAKW-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  13
• 重原子数：
  32
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  20.2
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  tricyclodecyl methanol 在 sodium methylate 亚磷酸三苯酯 作用下， 反应 2.0h， 生成 tris(tricyclodecylmethyl) phosphite
  参考文献：
  名称：

  [EN] POLYMER COMPOSITIONS CONTAINING STABILIZER COMPOUNDS COMPRISING TRICYCLODECILMETHYL GROUPS
  [FR] COMPOSITIONS POLYMERES CONTENANT DES COMPOSES STABILISATEURS COMPRENANT DES GROUPES TRICYCLODECILMETHYLES

  摘要：

  公开号：

  WO2004108735A3
• 作为产物：
  描述：

  Fmoc-甘氨酸 、 在 1-羟基苯并三唑 、 N,N'-二异丙基碳二亚胺 作用下， 以 DMF (N,N-dimethyl-formamide) 为溶剂， 反应 4.0h， 生成 tricyclodecyl methanol
  参考文献：
  名称：

  Substituted hexahydropyrazino (1,2-a) pyrimidine-4,7-dione derivatives, processes for their preparation and their use as medicaments

  摘要：

  取代的六氢吡嗪[1,2-a]嘧啶-4,7-二酮衍生物，其制备方法及其用作药物。本发明涉及取代的六氢吡嗪[1,2-a]嘧啶-4,7-二酮衍生物以及其生理耐受盐和生理功能衍生物。描述了具有以下式I的化合物，其中基团具有所述含义，以及其生理耐受盐和制备它们的方法。这些化合物例如适用于作为厌食剂。

  公开号：

  US20050004131A1

文献信息

• Pattern forming method, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and resist film
  申请人：FUJIFILM CORPORATION

  公开号：US10248019B2

  公开（公告）日：2019-04-02

  A pattern forming, method, includes: (i) forming a film from an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition that contains (A) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation and decomposing by an action of an acid to decrease a solubility of the compound (A) for an organic solvent; (ii) exposing the film; and (iii) performing development by using a developer containing an organic solvent.

  一种形成图案的方法包括：(i) 使用一种含有（A）一种能够在受到光或辐射照射时生成酸并通过酸的作用分解以降低该化合物（A）对有机溶剂的溶解度的光敏或辐射敏感树脂组合物形成薄膜；(ii) 曝光薄膜；和(iii) 使用含有有机溶剂的显影剂进行显影。
• [EN] AMINE CO-INITIATOR MIXTURE<br/>[FR] MÉLANGE CO-INITIATEUR À BASE D'AMINE
  申请人：LAMBSON LTD

  公开号：WO2021074363A1

  公开（公告）日：2021-04-22

  The invention relates to a co-initiator comprising the aminobenzoate derivative according to Formula (I) and at least one ancillary amine, wherein the reactivity and solubility of said co-imitator in UV-curable resins is sufficiently high that the co-initiator can be used in UV radiation curing processes. Formula (I) wherein R1 and R2 independently represent methyl or ethyl groups; and j, k, l and m are independently 0 to 20.

  这项发明涉及一种共同引发剂，其包括按照式（I）中的氨基苯甲酸酯衍生物和至少一种辅助胺，其中所述共同引发剂在UV固化树脂中的反应性和溶解性足够高，以至于该共同引发剂可以用于UV辐射固化工艺中。式（I）中，R1和R2分别代表甲基或乙基基团；j、k、l和m独立地为0至20。
• NOVEL COMPOUND, POLYIMIDE RESIN AND METHOD OF PRODUCING THE SAME, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERNING METHOD AND METHOD OF FORMING CURED FILM, INTERLAYER INSULATING FILM, SURFACE PROTECTIVE FILM, AND ELECTRONIC COMPONENT
  申请人：International Business Machines Corporation

  公开号：US20210317270A1

  公开（公告）日：2021-10-14

  Provided is a compound that can be used as a base resin for a photosensitive resin composition. The photosensitive resin can form a fine pattern and can achieve high resolution without impairing mechanical strength and solubility. The compound is represented by the general formula (1): wherein Z represents a linear, branched or cyclic divalent hydrocarbon group having 2 to 30 carbon atoms; X 1 to X 3 represent any of —CO 2 —, —CONR X1 —, —O—, —NR X1 —, —S—, —SO 2 —, —SO 3 — and —SO 2 NR X1 — and may be the same as or different from each other, provided that R X1 is a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms; Ar represents a divalent aromatic group having 2 to 30 carbon atoms; L 1 and L 2 independently represent a divalent hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms; and x and y are each independently 0 or 1.

  提供的是一种可以用作光敏树脂组合物的基树脂的化合物。这种光敏树脂可以形成精细图案，并且可以在不影响机械强度和溶解性的情况下实现高分辨率。该化合物由通式（1）表示：其中Z代表具有2到30个碳原子的线性、支链或环状二价碳氢基团；X1到X3代表任何一种—CO2—、—CONRX1—、—O—、—NRX1—、—S—、—SO2—、—SO3—和—SO2NRX1—中的一种，并且它们可以相同也可以不同，只要RX1是氢原子或具有1到30个碳原子的一价碳氢基团；Ar代表具有2到30个碳原子的二价芳香基团；L1和L2分别代表具有1到30个碳原子的二价碳氢基团；x和y分别独立地为0或1。
• TETRACARBOXYLIC ACID DIESTER COMPOUND, POLYMER OF POLYIMIDE PRECURSOR AND METHOD FOR PRODUCING SAME, NEGATIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERNING PROCESS, AND METHOD FOR FORMING CURED FILM
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US20180120702A1

  公开（公告）日：2018-05-03

  The present invention provides a tetracarboxylic acid diester compound represented by the following general formula (1), wherein, X 1 represents a tetravalent organic group, and R 1 represents a group represented by the following general formula (2), wherein, the dotted line represents a bonding, Y 1 represents an organic group with a valency of k+1, Rs represents a group containing at least one silicon atom, “k” represents 1, 2 or 3, and “n” represents 0 or 1. There can be provided a tetracarboxylic acid diester compound which can lead a polymer of a polyimide precursor capable of using a base resin of a negative photosensitive resin composition which is capable of forming a fine pattern and giving high resolution, a polymer of a polyimide precursor obtained by using the tetracarboxylic acid diester compound and a method for producing the same.

  本发明提供了一种四羧酸二酯化合物，其表示为以下通式（1）：其中，X1表示四价有机基团，R1表示以下通式（2）所表示的基团：其中，虚线表示键合，Y1表示具有k+1价的有机基团，Rs表示含有至少一个硅原子的基团，“k”表示1、2或3，“n”表示0或1。可以提供一种四羧酸二酯化合物，该化合物能够引导聚合物的形成，该聚合物是由使用负光敏树脂组合物的基树脂制成的，该组合物能够形成细微图案并具有高分辨率，使用四羧酸二酯化合物制得的聚酰亚胺前体聚合物以及其制备方法。
• Materials leading to improved dental composites and dental composites made therefrom
  申请人：Anton Robert Douglas

  公开号：US20060258770A1

  公开（公告）日：2006-11-16

  This invention relates to composite materials for restorative dentistry. More particularly, it relates to new components for dental composites, which impart an attractive combination of good mechanical properties and low shrinkage.

  本发明涉及修复牙科的复合材料。更具体地说，它涉及用于牙科复合材料的新组分，这些组分赋予了良好的机械性能和低收缩率的有吸引力的组合。