(4-(2-hydroxyethyl)phenyl)diphenylsulfonium trifluoromethanesulfonate

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 有机磺酸及其衍生物
• 英文名称: (4-(2-hydroxyethyl)phenyl)diphenylsulfonium trifluoromethanesulfonate
• 英文别名: [4-(2-Hydroxyethyl)phenyl]-diphenylsulfanium;trifluoromethanesulfonate；[4-(2-hydroxyethyl)phenyl]-diphenylsulfanium;trifluoromethanesulfonate
• 化学式: CF₃O₃S*C₂₀H₁₉OS
• 分子量: 456.507
• InChiKey: TYMDGBSXEVBBRV-UHFFFAOYSA-M

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.37
• 重原子数：
  30
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.14
• 拓扑面积：
  86.8
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  7

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  (4-(2-hydroxyethyl)phenyl)diphenylsulfonium trifluoromethanesulfonate 在 N,N-二异丙基乙胺 作用下， 以 四氢呋喃 、 甲醇 、 水 为溶剂， 反应 4.0h， 生成 [4-(2-cyclohexyloxymethoxyethyl)phenyl]diphenylsulfonium 1,1,2,2,3,3-hexafluoro-3-(piperidine-1-sulfonyl)-propane-1-sulfonate
  参考文献：
  名称：

  Pattern forming method, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and resist film

  摘要：

  一种形成图案的方法包括：(i) 使用一种含有（A）一种能够在受到光或辐射照射时生成酸并通过酸的作用分解以降低该化合物（A）对有机溶剂的溶解度的光敏或辐射敏感树脂组合物形成薄膜；(ii) 曝光薄膜；和(iii) 使用含有有机溶剂的显影剂进行显影。

  公开号：

  US10248019B2
• 作为产物：
  描述：

  三氟甲磺酸 、 二苯基亚砜 、 乙酸苯乙酯 在 三氟乙酸酐 、 水 、 sodium hydroxide 作用下， 以 甲醇 为溶剂， 反应 3.5h， 生成 (4-(2-hydroxyethyl)phenyl)diphenylsulfonium trifluoromethanesulfonate
  参考文献：
  名称：

  Pattern forming method, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and resist film

  摘要：

  一种形成图案的方法包括：(i) 使用一种含有（A）一种能够在受到光或辐射照射时生成酸并通过酸的作用分解以降低该化合物（A）对有机溶剂的溶解度的光敏或辐射敏感树脂组合物形成薄膜；(ii) 曝光薄膜；和(iii) 使用含有有机溶剂的显影剂进行显影。

  公开号：

  US10248019B2

文献信息

• Pattern forming method, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and resist film
  申请人：FUJIFILM CORPORATION

  公开号：US10248019B2

  公开（公告）日：2019-04-02

  A pattern forming, method, includes: (i) forming a film from an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition that contains (A) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation and decomposing by an action of an acid to decrease a solubility of the compound (A) for an organic solvent; (ii) exposing the film; and (iii) performing development by using a developer containing an organic solvent.

  一种形成图案的方法包括：(i) 使用一种含有（A）一种能够在受到光或辐射照射时生成酸并通过酸的作用分解以降低该化合物（A）对有机溶剂的溶解度的光敏或辐射敏感树脂组合物形成薄膜；(ii) 曝光薄膜；和(iii) 使用含有有机溶剂的显影剂进行显影。