α-(n-butylthio)isobutyrophenone

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: α-(n-butylthio)isobutyrophenone
• 英文别名: 2-Butylsulfanyl-2-methyl-1-phenylpropan-1-one
• 化学式: C₁₄H₂₀OS
• 分子量: 236.378
• InChiKey: XFEYGSIMOGIGSA-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.1
• 重原子数：
  16
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.5
• 拓扑面积：
  42.4
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  丁硫醇 、 2-氯-2-甲基苯丙酮 在 potassium tert-butylate 作用下， 以 二甲基亚砜 为溶剂， 反应 2.0h， 以67%的产率得到α-(n-butylthio)isobutyrophenone
  参考文献：
  名称：

  电子转移过程。34. α-卤代酮与亲核试剂的反应

  摘要：

  关于对硝基苯甲酰氯苯甲酰氯苯甲酰苯甲酰氯的研究反应，衍生二甲基-1,1 avec divers 亲核试剂

  DOI：

  10.1021/ja00294a050

文献信息

• Photosensitive composition, pattern-forming method using the photosensitive composition and compounds used in the photosensitive composition
  申请人：Wada Kenji

  公开号：US20070148592A1

  公开（公告）日：2007-06-28

  A photosensitive composition containing a compound having a specific structure, a pattern-forming method using the photosensitive composition, and a compound having a specific structure used in the photosensitive composition.

  一种含有特定结构化合物的光敏组合物，使用该光敏组合物的图案形成方法，以及用于该光敏组合物的特定结构化合物。
• RUSSELL, G. A.;ROS, F., J. AMER. CHEM. SOC., 1985, 107, N 8, 2506-2511
  作者：RUSSELL, G. A.、ROS, F.

  DOI：——

  日期：——
• PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN-FORMING METHOD USING THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, AND COMPOUND USED IN THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION
  申请人：FUJIFILM Corporation

  公开号：EP2192134B1

  公开（公告）日：2014-02-26
• ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
  申请人：FUJIFILM Corporation

  公开号：EP2356517B1

  公开（公告）日：2017-01-25
• Photosensitive composition, pattern forming method using the photosensitive composition and compound for use in the photosensitive composition
  申请人：Fujifilm Corporation

  公开号：EP2426154B1

  公开（公告）日：2013-01-09