4-[2-(tetrahydrofurfurylmethoxy)ethyl]-morpholine

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 恶嗪烷类
• 英文名称: 4-[2-(tetrahydrofurfurylmethoxy)ethyl]-morpholine
• 英文别名: 4-[2-[2-(oxolan-2-yl)ethoxy]ethyl]morpholine
• 化学式: C₁₂H₂₃NO₃
• 分子量: 229.32
• InChiKey: SCNXSVYJGASPDC-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.5
• 重原子数：
  16
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  30.9
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  2-溴甲基四氢呋喃 、 2-吗啉乙醇 在 sodium iodide 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 以56%的产率得到4-[2-(tetrahydrofurfurylmethoxy)ethyl]-morpholine
  参考文献：
  名称：

  Amine compounds, resist compositions and patterning process

  摘要：

  具有含氮环结构和含水基团（如羟基，醚，酯，酮，碳酸酯基团或内酯环）的新型胺化合物对于用于防止抗蚀膜变薄以及增强抗蚀的分辨率和焦点边缘的抗蚀组分非常有用。

  公开号：

  US20020098443A1
• 作为试剂：
  描述：

  sodium;hydride 、 2-吗啉乙醇 、 2-溴甲基四氢呋喃 、 碘化钠 、 四氢呋喃 在 氯化钠 、 4-[2-(tetrahydrofurfurylmethoxy)ethyl]-morpholine 作用下， 反应 100.0h， 以was obtained (boiling point 97° C./24 Pa, yield: 56%)的产率得到4-[2-(tetrahydrofurfurylmethoxy)ethyl]-morpholine
  参考文献：
  名称：

  Amine compounds, resist compositions and patterning process

  摘要：

  具有含氮环状结构和含水基团的新型胺类化合物，如羟基、醚基、酯基、羰基、碳酸酯基或内酯环，可用于制备抗蚀剂组合物，以防止抗蚀膜变薄，并增强抗蚀的分辨率和焦点余量。

  公开号：

  US20020098443A1

文献信息

• Amine compounds, resist compositions and patterning process
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US20020098443A1

  公开（公告）日：2002-07-25

  Novel amine compounds having a nitrogen-containing cyclic structure and a hydrating group such as a hydroxy, ether, ester, carbonyl, carbonate group or lactone ring are useful for use in resist compositions for preventing a resist film from thinning and also for enhancing the resolution and focus margin of resist.

  具有含氮环结构和含水基团（如羟基，醚，酯，酮，碳酸酯基团或内酯环）的新型胺化合物对于用于防止抗蚀膜变薄以及增强抗蚀的分辨率和焦点边缘的抗蚀组分非常有用。