四氟乙醇 | 855719-07-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机卤素化合物 - 卤代醇
• 中文名称: 四氟乙醇
• 英文名称: 1,2,2,2-tetrafluoroethanol
• CAS: 855719-07-2
• 化学式: C₂H₂F₄O
• 分子量: 118.031
• InChiKey: YXQBLRACMQTNQR-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  58.9±35.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.452±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.2
• 重原子数：
  7
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  20.2
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  5

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  六氟丙烯 、 四氟乙醇 在 五氟化锑 作用下， 以82%的产率得到trans-perfluoro-2-pentene
  参考文献：
  名称：

  Fluorovinylketones from perfluoropentene-2

  摘要：

  DOI：

  10.1016/s0022-1139(00)81132-x
• 作为产物：
  描述：

  1,1,1,2-四氟乙烷 在 大鼠1,25-二羟基维生素D(1,25(OH)2D)试剂盒 作用下， 生成 四氟乙醇
  参考文献：
  名称：

  羟基与乙烷，1,1,1-三氯乙烷，1,1,2-三氯乙烷，1,1-二氟-1,2-二氯乙烷和1,1,1,2-四氟乙烷的反应动力学

  摘要：

  DOI：

  10.1021/j150650a041

文献信息

• [EN] FLUORINATED DIAMINE OR SALT THEREOF, METHOD FOR PRODUCING FLUORINATED DIAMINE OR SALT THEREOF, POLYAMIDE, METHOD FOR PRODUCING POLYAMIDE, POLYAMIDE SOLUTION, CYCLIZED POLYAMIDE, METHOD FOR PRODUCING CYCLIZED POLYAMIDE, INSULATING MATERIAL FOR HIGH-FREQUENCY ELECTRONIC COMPONENT, METHOD FOR PRODUCING INSULATING MATERIAL FOR HIGH-FREQUENCY ELECTRONIC COMPONENT, HIGH-FREQUENCY ELECTRONIC COMPONENT, HIGH-FREQUENCY APPLIANCE, AND INSULATING MATERIAL FOR PRODUCING HIGH-FREQUENCY ELECTRONIC COMPONENT<br/>[FR] DIAMINE FLUORÉE OU SON SEL, PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UNE DIAMINE FLUORÉE OU D'UN SEL DE CELLE-CI, POLYAMIDE, PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE POLYAMIDE, SOLUTION DE POLYAMIDE, POLYAMIDE CYCLISÉ, PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE POLYAMIDE CYCLISÉ, MATÉRIAU ISOLANT POUR COMPOSANT ÉLECTRONIQUE HAUTE FRÉQUENCE, PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN MATÉRIAU ISOLANT POUR COMPOSANT ÉLECTRONIQUE HAUTE FRÉQUENCE, COMPOSANT ÉLECTRONIQUE HAUTE FRÉQUENCE, APPAREIL HAUTE FRÉQUENCE ET MATÉRIAU ISOLANT POUR PRODUIRE UN COMPOSANT ÉLECTRONIQUE HAUTE FRÉQUENCE<br/>[JA] 含フッ素ジアミンまたはその塩、含フッ素ジアミンまたはその塩の製造方法、ポリアミド、ポリアミドの製造方法、ポリアミド溶液、ポリアミド環化体、ポリアミド環化体の製造方法、高周波電子部品用絶縁材、高周波電子部品用絶縁材の製造方法、高周波電子部品、高周波機器および高周波電子部品製造用絶縁材料
  申请人：CENTRAL GLASS CO LTD

  公开号：WO2022030447A1

  公开（公告）日：2022-02-10

  以下一般式［１Ａ］で表される含フッ素ジアミンまたはその塩、このジアミンまたはその塩に由来する構造単位を含むポリアミド、ポリアミド環化体など。一般式［１Ａ］中、Ｒ１は、複数存在する場合はそれぞれ独立に、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ハロアルキル基およびハロアルコキシ基からなる群より選ばれる少なくともいずれかであり、２つのｎは、それぞれ独立して０～３の整数である。

  这段文字描述的是一种化学物质，其一般式为［１Ａ］，包含含氟二胺或其盐、含有该二胺或其盐来源的结构单元的聚酰胺、聚酰胺环化物等。在一般式［１Ａ］中，当Ｒ１为多个基团时，它们各自独立地选择自由基为烷基、烷氧基、卤素原子、卤代烷基和卤代烷氧基中的至少一个。两个n分别独立地是0到3之间的整数。
• Flash photolysis-time-resolved UV spectroscopy of the 1,2,2,2-tetrafluoroethylperoxy radical self-reaction
  作者：M. Matti Maricq、Joseph J. Szente

  DOI：10.1021/j100205a048

  日期：1992.12

  The self-reaction of CF3CFHO2 has been studied via time-resolved ultraviolet spectroscopy over the temperature range 211-372 K. The absorption spectrum of CF3CFHO2 extends from 190 to 275 nm with a maximum cross section of (5.2 +/- 0.3) x 10(-18) cm2 molecule-1 at 213 nm. The UV absorbance of the reaction mixture decreases and shifts to the blue as the reaction progresses. This is consistent with the CF3CFHO2 self-reaction producing CF3CFHO, the alkoxy radical then decomposing to yield CF3, which adds molecular oxygen to form CF3O2. The CF3CFHO2 self-reaction has a negative temperature dependence with rate constant given by k1 = (7.8 +/- 1.3) X 10(-13)e(605+/-40)/T cm3 s-1. The rate of alkoxy radical dissociation, at 230 Torr of total pressure, is k2a = (3.7 +/- 0.7) X 10(7)e-(2200+/-150)/T s-1 . The rate constants for CF3O2 reaction with CF3CFHO2 and itself are determined to be k8 = (8 +/- 3) x 10(-12) and k9 = (1.8 +/- 0.5) x 10(-12) cm3 s-1, respectively, at 297 K.
• Absolute rate constants for the self reactions of HO2, CF3CFHO2, and CF3O2 radicals and the cross reactions of HO2 with FO2, HO2 with CF3CFHO2, and HO2 with CF3O2 at 295 K
  作者：Jens Sehested、Trine M�gelberg、Kjell Fagerstr�m、Gharib Mahmoud、Timothy J. Wallington

  DOI：10.1002/(sici)1097-4601(1997)29:9<673::aid-kin4>3.0.co;2-r

  日期：——

  The kinetics of the self-reactions of HO2, CF3CFHO2, and CF3O2 radicals and the cross reactions of HO2 with FO2, HO2 with CF3CFHO2, and HO2 with CF3O2 radicals, were studied by pulse radiolysis combined with time resolved UV absorption spectroscopy at 295 K. The rate constants for these reactions were obtained by computer,simulation of absorption transients monitored at 220, 230, and 240 nm. The following rate constants were obtained at 295 K and 1000 mbar total pressure of SF6 (unit: 1O(-12) cm(3) molecule(-1) s(-1)): k(HO2 + HO2) = 3.5 +/- 1.0, k(CF3CFHO2 + CF3CFHO2) = 3.5 +/- 0.8, k(CF3O2 +/- CF3O2) = 2.25 +/- 0.30, k(HO2 + FO2) = 9 +/- 4, k(CF,CFHO, + HO2) = 5.0 +/- 1.5, and k(CF3O2 + HO2) = 4.0 +/- 2.0. In addition, the decomposition rate of CF3CFHO radicals was estimated to be (0.2-2) X 10(3) s(-1) in 1000 mbar of SF6. Results are discussed in the context of the atmospheric chemistry of hydrofluorocarbons. (C) 1997 John Wiley & Sons, Inc.