1-(4-甲基-环己基)-乙醇 | 34884-20-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 中文名称: 1-(4-甲基-环己基)-乙醇
• 英文名称: 1-(4-methylcyclohexyl)ethanol
• CAS: 34884-20-3
• 化学式: C₉H₁₈O
• 分子量: 142.241
• InChiKey: KAUADGCMTGZSPE-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.6
• 重原子数：
  10
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  20.2
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  1

安全信息

• 海关编码：
  2906199090

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1-(4-甲基-环己基)-乙醇 在 chromium(III) oxide 、 硫酸 作用下， 生成 1-(4-甲基环己基)乙酮
  参考文献：
  名称：

  van Woerden, Recueil des Travaux Chimiques des Pays-Bas, 1926, vol. 45, p. 137

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  对甲基苯乙酮 在 氢气 作用下， 以 正庚烷 为溶剂， 100.0 ℃ 、5.0 MPa 条件下， 反应 18.0h， 以90%的产率得到1-(4-甲基-环己基)-乙醇
  参考文献：
  名称：

  使用Rh @ SILP催化剂将芳香族酮选择性加氢和加氢脱氧为环己烷衍生物。

  摘要：

  固定在无酸三苯基phosph基支持的离子液相（Rh @ SILP（Ph 3 -P-NTf 2））上的铑纳米颗粒能够选择性氢化和芳族酮加氢脱氧。用于组装各个催化剂组分（SiO 2，离子液体，纳米颗粒）的灵活分子方法导致了出色的催化性能。特别地，纳米颗粒与phospho离子液体之间的紧密接触对于脱氧反应性是必需的。Rh @ SILP（Ph 3 -PNTf 2）催化剂在温和条件下对苄基酮的加氢脱氧具有活性，并且通过调节反应温度以高选择性控制氢化（醇）和加氢脱氧（烷烃）之间非苄基酮的产物分布。多功能的Rh @ SILP（Ph 3 -P-NTf 2）催化剂为Friedel-Crafts酰化产物和木质素衍生的芳族酮的加氢和/或加氢脱氧开辟了生产各种高价值环己烷衍生物的途径。 。

  DOI：

  10.1002/anie.201916385

文献信息

• DERIVATIVES OF 1-(4-METHYLCYCLOHEXYL)-ETHANOLS
  申请人：Symrise AG

  公开号：US20170002294A1

  公开（公告）日：2017-01-05

  The invention relates to mixtures having: components (a) having at least one fragrance of the formula (I) where R1=OC-R2, CH 2 OR3, C1-C8 open-chain or branched aliphatic radical, optionally substituted and/or unsaturated, with R2=an open-chain or branched aliphatic radical, optionally substituted and/or unsaturated, having 2-10 C atoms, with R3=an open-chain or branched aliphatic radical, optionally substituted and/or unsaturated, having 1-8 C atoms, and components (b) having at least one fragrance, different from the fragrances of component a, characterized in that the weight ratio of all components (a) to all components (b) is from 1:10 to 1:10000.

  该发明涉及具有以下特征的混合物：组分(a)至少具有一个符合以下式(I)的香料，其中R1=OC-R2，CH2OR3，C1-C8开链或支链脂肪基，可选择地取代和/或不饱和，其中R2=一个开链或支链脂肪基，可选择地取代和/或不饱和，含有2-10个碳原子，其中R3=一个开链或支链脂肪基，可选择地取代和/或不饱和，含有1-8个碳原子，以及组分(b)至少具有一个与组分a的香料不同的香料，其特征在于所有组分(a)与所有组分(b)的重量比为1:10至1:10000。
• 一种酮、醛加氢还原制备醇类化合物的方法
  申请人：大连理工大学

  公开号：CN110724032A

  公开（公告）日：2020-01-24

  本发明属于医药和天然化合物化工中间体及相关化学技术领域，提供了一种酮、醛加氢还原制备醇类化合物的方法。本发明以酮、醛及其衍生物为原料、纳米多孔钯为催化剂、氢气为氢源，高效地加氢还原酮、醛化合物，其中氢气的压力为0.1～0.5MPa；酮、醛及其衍生物在溶剂中的摩尔浓度为0.01～2mmol/mL。所采用的催化剂孔骨架大小为1‑50nm之间，酮、醛及其衍生物与所用催化剂摩尔比为1：0.01～1：0.5。本发明的有益效果是该产物产率高，反应条件非常温和，操作和后处理简单，催化剂重复性好，且多次使用催化效果没有明显降低，为其实现工业化提供可能。
• Fluorine-Containing Compound, Fluorine-Containing Polymer Compound, Resist Composition, Top Coat Composition And Pattern Formation Method
  申请人：Mori Kazunori

  公开号：US20120077126A1

  公开（公告）日：2012-03-29

  A fluorine-containing polymer of the present invention contains a repeating unit (a) of the general formula (2) and has a mass-average molecular weight of 1,000 to 1,000,000. This polymer is suitably used in a resist composition for pattern formation by high energy ray radiation of 300 nm or less wavelength or electron beam radiation or a top coat composition for liquid immersion lithography and is characterized as having high water repellency, notably high receding contact angle. In the formula, R 1 represents a polymerizable double bond-containing group; R 2 represents a fluorine atom or a fluorine-containing alkyl group; R 8 represents a substituted or unsubstituted alkyl group or the like; and W 1 represents a single bond, a substituted or unsubstituted methylene group or the like.

  本发明的含氟聚合物包含通式（2）的重复单元（a），其具有1,000至1,000,000的质量平均分子量。该聚合物适用于抗高能辐射（波长小于或等于300nm的高能射线辐射或电子束辐射）的光阻组合物，或用于液体浸没光刻的面涂层组合物，并具有高水珠性，尤其是高后退接触角。在公式中，R1表示可聚合的双键含有的基团；R2表示氟原子或含氟烷基；R8表示取代或未取代的烷基或类似物；W1表示单键，取代或未取代的亚甲基或类似物。
• POLYMER, CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING PROCESS
  申请人：Masunaga Keiichi

  公开号：US20110212391A1

  公开（公告）日：2011-09-01

  A polymer comprising recurring units having a fluorinated carboxylic acid onium salt structure on a side chain is used to formulate a chemically amplified positive resist composition. When the composition is processed by lithography to form a positive pattern, the diffusion of acid in the resist film is uniform and slow, and the pattern is improved in LER.

  使用含有氟化羧基离子盐结构的重复单元的聚合物作为侧链，用于配制化学增感正型光刻胶组分。当该组分通过光刻工艺形成正型图案时，胶膜中的酸扩散均匀缓慢，从而改善LER。
• CHEMICALLY AMPLIFIED NEGATIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Masunaga Keiichi

  公开号：US20110212390A1

  公开（公告）日：2011-09-01

  A chemically amplified negative resist composition is provided comprising (A) an alkali-soluble base polymer, (B) an acid generator, and (C) a nitrogen-containing compound, the base polymer (A) turning alkali insoluble under the catalysis of acid. A polymer having a fluorinated carboxylic acid onium salt on a side chain is included as the base polymer. Processing the negative resist composition by a lithography process may form a resist pattern with advantages including uniform low diffusion of acid, improved LER, and reduced substrate poisoning.

  提供了一种化学放大负型光刻胶组合物，包括（A）一种可溶于碱性溶液的基础聚合物，（B）一种酸发生剂，和（C）一种含氮化合物，基础聚合物（A）在酸的催化下变为碱不溶性。在侧链上含有氟化羧酸亚烷基盐的聚合物被包括在基础聚合物中。通过光刻工艺处理负型光刻胶组合物可以形成具有以下优点的光刻图案：酸的扩散均匀低、LER改善和减少衬底污染。