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1-乙烯基喹啉-2-酮 | 109322-46-5

中文名称
1-乙烯基喹啉-2-酮
中文别名
——
英文名称
1-vinyl-quinolin-2(1H)-one
英文别名
1-vinylquinolin-2(1H)-one;1-vinyl-2-quinolone;1-vinyl-1H-quinolin-2-one;1-Vinyl-1H-chinolin-2-on;1-Ethenylquinolin-2(1H)-one;1-ethenylquinolin-2-one
1-乙烯基喹啉-2-酮化学式
CAS
109322-46-5
化学式
C11H9NO
mdl
——
分子量
171.199
InChiKey
QUBIIJHQDMXROU-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
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  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
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  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

物化性质

  • 沸点:
    134-135 °C(Press: 1 Torr)
  • 密度:
    1.1479 g/cm3

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    1.9
  • 重原子数:
    13
  • 可旋转键数:
    1
  • 环数:
    2.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.0
  • 拓扑面积:
    20.3
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    1

SDS

SDS:b03f69924b83b3b42939c20def524b90
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上下游信息

  • 下游产品
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    参考文献:
    名称:
    Ohki, Yakugaku Zasshi/Journal of the Pharmaceutical Society of Japan, 1950, vol. 70, p. 92,98
    摘要:
    DOI:
  • 作为产物:
    描述:
    2-(2-chloroethoxy)quinoline hydrochloride 在 sodium hydride 作用下, 以 N,N-二甲基甲酰胺 为溶剂, 反应 12.0h, 以42 mg的产率得到1-乙烯基喹啉-2-酮
    参考文献:
    名称:
    不含乙炔的乙烯氧基吡啶和喹啉的合成
    摘要:
    铜催化的2-和4-羟基吡啶和喹啉的乙烯基化仅提供N-乙烯基化产物。但是,可以通过三步法制备4-羟基吡啶和喹啉的乙烯基醚,该过程涉及相应的N-杂芳基溴化物与乙二醇的铜催化CO交叉偶联反应,末端醇的氯化和β的脱卤化氢。 -氯醚。尽管在2-羟基系列中效率不高,但是该方法可以方便地应用于以中等到良好的总产率制备各种氮杂-芳基乙烯基醚。
    DOI:
    10.1016/j.tetlet.2016.11.061
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文献信息

  • A New Method for the Preparation of Aryl Vinyl Ethers
    作者:Marc Blouin、Richard Frenette
    DOI:10.1021/jo016037z
    日期:2001.12.1
  • Afonin, A. V.; Andriyankov, M. A.; Pertsikov, B. Z., Journal of Organic Chemistry USSR (English Translation), 1986, vol. 22, # 11, p. 2202 - 2204
    作者:Afonin, A. V.、Andriyankov, M. A.、Pertsikov, B. Z.、Voronov, V. K.
    DOI:——
    日期:——
  • AFONIN A. V.; ANDRIYANKOV M. A.; PERTSIKOV B. Z.; VORONOV V. K., ZH. ORGAN. XIMII, 22,(1986) N 11, 2451-2454
    作者:AFONIN A. V.、 ANDRIYANKOV M. A.、 PERTSIKOV B. Z.、 VORONOV V. K.
    DOI:——
    日期:——
  • CuF<sub>2</sub>/DMAP-Catalyzed N-Vinylation: Scope and Mechanistic Study
    作者:Krishanu Mondal、Susanta Patra、Pallabi Halder、Narottam Mukhopadhyay、Parthasarathi Das
    DOI:10.1021/acs.orglett.2c03856
    日期:2023.3.3
  • Process for photopolymerization by exposure of a photosensitive lithographic printing plate
    申请人:FUJIFILM Corporation
    公开号:EP1273971B1
    公开(公告)日:2010-02-10
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