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2,2'-亚甲基双[6-(2-羟基-5-甲苄基)-对甲酚] | 20837-68-7

中文名称
2,2'-亚甲基双[6-(2-羟基-5-甲苄基)-对甲酚]
中文别名
2,2'-亚甲基双[6-(2-羟基-5-甲基苯甲基)-4-甲基苯酚]
英文名称
bis[3-(2-hydroxy-5-methylbenzyl)-2-hydroxy-5-methylphenyl]methane
英文别名
6,6′-methylenebis(2-(2-hydroxy-5-methylbenzyl)-4-methylphenol);bis-[2-hydroxy-3-(2-hydroxy-5-methyl-benzyl)-5-methyl-phenyl]-methane;Bis-[2-hydroxy-3-(2-hydroxy-5-methyl-benzyl)-5-methyl-phenyl]-methan;2,2'-methylenebis[6-(2-hydroxy-5-methylbenzyl)-4-methylphenol];3,3'-bis(2-hydroxy-5-methylbenzyl)-2,2'-dihydroxy-5,5'-dimethyldiphenylmethane;2,2'-Methylenebis[6-(2-hydroxy-5-methylbenzyl)-p-cresol];2-[[2-hydroxy-3-[(2-hydroxy-5-methylphenyl)methyl]-5-methylphenyl]methyl]-6-[(2-hydroxy-5-methylphenyl)methyl]-4-methylphenol
2,2'-亚甲基双[6-(2-羟基-5-甲苄基)-对甲酚]化学式
CAS
20837-68-7
化学式
C31H32O4
mdl
——
分子量
468.593
InChiKey
KYOZIVFRHLSSKN-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

物化性质

  • 熔点:
    185-188 °C
  • 沸点:
    656.4±50.0 °C(Predicted)
  • 密度:
    1.212±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    7.7
  • 重原子数:
    35
  • 可旋转键数:
    6
  • 环数:
    4.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.23
  • 拓扑面积:
    80.9
  • 氢给体数:
    4
  • 氢受体数:
    4

安全信息

  • 海关编码:
    2907299090

SDS

SDS:bd567f7494930af155b0712803fddb0f
查看
2,2'-亚甲基双[6-(2-羟基-5-甲苄基)-对甲酚] 修改号码:5

模块 1. 化学品
产品名称: 2,2'-Methylenebis[6-(2-hydroxy-5-methylbenzyl)-p-cresol]
修改号码: 5

模块 2. 危险性概述
GHS分类
物理性危害 未分类
健康危害
皮肤腐蚀/刺激 第2级
严重损伤/刺激眼睛 2A类
环境危害 未分类
GHS标签元素
图标或危害标志
信号词 警告
危险描述 造成皮肤刺激
造成严重眼刺激
防范说明
[预防] 处理后要彻底清洗双手。
穿戴防护手套/护目镜/防护面具。
[急救措施] 眼睛接触:用水小心清洗几分钟。如果方便,易操作,摘除隐形眼镜。继续冲洗。
眼睛接触:求医/就诊
皮肤接触:用大量肥皂和水轻轻洗。
若皮肤刺激:求医/就诊。
脱掉被污染的衣物,清洗后方可重新使用。

模块 3. 成分/组成信息
单一物质/混和物 单一物质
化学名(中文名): 2,2'-亚甲基双[6-(2-羟基-5-甲苄基)-对甲酚]
百分比: >85.0%(LC)
CAS编码: 20837-68-7
俗名: Bis[2-hydroxy-3-(2-hydroxy-5-methylbenzyl)-5-methylphenyl]methane , 6,6'-
Bis(2-hydroxy-5-methylbenzyl)-4,4'-dimethyl-2,2'-methylenediphenol
修改号码:5

模块 3. 成分/组成信息
分子式: C31H32O4

模块 4. 急救措施
吸入: 将受害者移到新鲜空气处,保持呼吸通畅,休息。若感不适请求医/就诊。
皮肤接触: 立即去除/脱掉所有被污染的衣物。用大量肥皂和水轻轻洗。
若皮肤刺激或发生皮疹:求医/就诊。
眼睛接触: 用水小心清洗几分钟。如果方便,易操作,摘除隐形眼镜。继续清洗。
如果眼睛刺激:求医/就诊。
食入: 若感不适,求医/就诊。漱口。
紧急救助者的防护: 救援者需要穿戴个人防护用品,比如橡胶手套和气密性护目镜。

模块 5. 消防措施
合适的灭火剂: 干粉,泡沫,雾状水,二氧化碳
特定方法: 从上风处灭火,根据周围环境选择合适的灭火方法。
非相关人员应该撤离至安全地方。
周围一旦着火:如果安全,移去可移动容器。
消防员的特殊防护用具: 灭火时,一定要穿戴个人防护用品。

模块 6. 泄漏应急处理
个人防护措施,防护用具, 使用个人防护用品。远离溢出物/泄露处并处在上风处。
紧急措施: 泄露区应该用安全带等圈起来,控制非相关人员进入。
环保措施: 防止进入下水道。
控制和清洗的方法和材料: 清扫收集粉尘,封入密闭容器。注意切勿分散。附着物或收集物应该立即根据合适的
法律法规处置。

模块 7. 操作处置与储存
处理
技术措施: 在通风良好处进行处理。穿戴合适的防护用具。防止粉尘扩散。处理后彻底清洗双手
和脸。
注意事项: 如果粉尘或浮质产生,使用局部排气。
操作处置注意事项: 避免接触皮肤、眼睛和衣物。
贮存
储存条件: 保持容器密闭。存放于凉爽、阴暗处。
远离不相容的材料比如氧化剂存放。
包装材料: 依据法律。

模块 8. 接触控制和个体防护
工程控制: 尽可能安装封闭体系或局部排风系统,操作人员切勿直接接触。同时安装淋浴器和洗
眼器。
个人防护用品
呼吸系统防护: 防尘面具。依据当地和政府法规。
手部防护: 防护手套。
眼睛防护: 安全防护镜。如果情况需要,佩戴面具。
皮肤和身体防护: 防护服。如果情况需要,穿戴防护靴。

模块 9. 理化特性
外形(20°C): 固体
外观: 晶体-粉末
颜色: 白色-极淡的黄色
修改号码:5

模块 9. 理化特性
气味: 无资料
pH: 无数据资料
熔点: 无资料
沸点/沸程 无资料
闪点: 无资料
爆炸特性
爆炸下限: 无资料
爆炸上限: 无资料
密度: 无资料
溶解度:
[水] 无资料
[其他溶剂]
溶于: 二甲基甲酰胺

模块 10. 稳定性和反应性
化学稳定性: 一般情况下稳定。
危险反应的可能性: 未报道特殊反应性。
须避免接触的物质 氧化剂
危险的分解产物: 一氧化碳, 二氧化碳

模块 11. 毒理学信息
急性毒性: 无资料
对皮肤腐蚀或刺激: 无资料
对眼睛严重损害或刺激: 无资料
生殖细胞变异原性: 无资料
致癌性:
IARC = 无资料
NTP = 无资料
生殖毒性: 无资料

模块 12. 生态学信息
生态毒性:
鱼类: 无资料
甲壳类: 无资料
藻类: 无资料
残留性 / 降解性: 无资料
潜在生物累积 (BCF): 无资料
土壤中移动性
log水分配系数: 无资料
土壤吸收系数 (Koc): 无资料
亨利定律 无资料
constant(PaM3/mol):

模块 13. 废弃处置
如果可能,回收处理。请咨询当地管理部门。建议在可燃溶剂中溶解混合,在装有后燃和洗涤装置的化学焚烧炉中
焚烧。废弃处置时请遵守国家、地区和当地的所有法规。

模块 14. 运输信息
联合国分类: 与联合国分类标准不一致
修改号码:5

模块 14. 运输信息
UN编号: 未列明

模块 15. 法规信息
《危险化学品安全管理条例》(2002年1月26日国务院发布,2011年2月16日修订): 针对危险化学品的安全使用、
生产、储存、运输、装卸等方面均作了相应的规定。


模块16 - 其他信息
N/A

上下游信息

  • 上游原料
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量
  • 下游产品
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

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文献信息

  • Resist lower-layer composition containing thermal acid generator, resist lower layer film-formed substrate, and patterning process
    申请人:Ohsawa Youichi
    公开号:US20100119970A1
    公开(公告)日:2010-05-13
    There is disclosed a resist lower-layer composition configured to be used by a multi-layer resist method used in lithography to form a layer lower than a photoresist layer acting as a resist upper layer film, wherein the resist lower-layer composition becomes insoluble or poorly-soluble in an alkaline developer after formation of the lower layer, and wherein the resist lower-layer composition comprises, at least, a thermal acid generator for generating an acid represented by the general formula (1) by heating at a temperature of 100° C. or higher. RCOO—CH 2 CF 2 SO 3 − H + (1) There can be provided a resist lower-layer composition in a multi-layer resist method (particularly, a two-layer resist method and a three-layer resist method), which composition is used to form a layer lower than a photoresist layer acting as a resist upper layer film, which composition becomes insoluble or poorly-soluble in an alkaline developer after formation of the lower layer, and which composition is capable of forming a resist lower layer film, intermediate-layered film, and the like having a higher anti-poisoning effect and exhibiting a lower load to the environment.
    揭示了一种抗性下层组合物,配置为在光刻中使用的多层抗性方法中使用,用于形成低于作为抗性上层膜的光刻胶层的一层,其中抗性下层组合物在形成下层后变得不溶解或难溶解于碱性显影剂中,且抗性下层组合物至少包括用于通过在100°C或更高温度下加热生成由通式(1)表示的酸的热酸发生剂。 可以提供一种抗性下层组合物,用于多层抗性方法(特别是双层抗性方法和三层抗性方法),该组合物用于形成低于作为抗性上层膜的光刻胶层的一层,该组合物在形成下层后变得不溶解或难溶解于碱性显影剂中,并且该组合物能够形成具有更高抗毒性效果并表现出对环境负荷较低的抗性下层膜、中间层膜等。
  • COMPOSITION CONTAINING VINYL-GROUP-CONTAINING COMPOUND
    申请人:TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
    公开号:US20160046552A1
    公开(公告)日:2016-02-18
    A composition containing a novel vinyl-group-containing compound. This composition contains a vinyl-group-containing compound represented by general formula (1). In the formula: W 1 and W 2 represent a group represented by general formula (2) (where a ring (Z) is an aromatic hydrocarbon ring, X is a single bond or —S—, R 1 is a single bond or a C1-4 alkylene group, R 2 is a specific substituent group such as a monovalent hydrocarbon, and m is an integer equal to 0 or higher), a group represented by general formula (4) (where the ring (Z), X, R 1 , R 2 , and m are as previously stated), a hydroxyl group, or a (meth)acryloyloxy group; rings (Y 1 , Y 2 ) are aromatic hydrocarbon rings; R represents a single bond or a specific divalent group; R 3a and R 3b represent a cyano group, a halogen atom, or a monovalent hydrocarbon group; and n1 and n2 are integers of 0-4.
    这个组合物包含一种含有新颖乙烯基团的化合物。该组合物包含一个由通式(1)表示的含有乙烯基团的化合物。在该式中:W1和W2代表由通式(2)表示的一个基团(其中环(Z)是芳香烃环,X是一个单键或—S—,R1是一个单键或C1-4烷基基团,R2是特定的取代基团,如一价碳氢化合物,m是大于或等于0的整数),一个由通式(4)表示的基团(其中环(Z)、X、R1、R2和m如前述),一个羟基,或一个(甲基)丙烯酰氧基团;环(Y1、Y2)是芳香烃环;R代表一个单键或一个特定的二价基团;R3a和R3b代表氰基、卤素原子或一价碳氢基团;n1和n2是0-4的整数。
  • Synthesis of Azacalixarenes through Dihydrobenzoxazine Derivatives of Phenols
    作者:Hiroyuki Takemura、Asuka Takahashi、Haruka Suga、Mika Fukuda、Tetsuo Iwanaga
    DOI:10.1002/ejoc.201001688
    日期:2011.6
    series of azacalix[n]arenes were synthesized by the reaction between the benzoxazine derivatives of phenols and the phenol oligomers. The reaction should be carried out at 40–80 °C, because scrambling of the phenol units occurs at higher temperatures. The appropriate reaction conditions afforded the desired azacalixarene which was asymmetrical along the N···N′ or N···CH2 axis.
    通过苯酚的苯并恶嗪衍生物与苯酚低聚物之间的反应合成了一系列新的氮杂杯[n]芳烃。反应应在 40–80 °C 下进行,因为苯酚单元在较高温度下会发生混乱。适当的反应条件提供了所需的氮杂杯芳烃,其沿 N...N' 或 N...CH2 轴不对称。
  • Syntheses of Chiral Homoazacalix[4]arenes Incorporating Amino Acid Residues:  Molecular Recognition for Racemic Quaternary Ammonium Ions
    作者:Kazuaki Ito、Motoyoshi Noike、Atsushi Kida、Yoshihiro Ohba
    DOI:10.1021/jo020300u
    日期:2002.10.1
    Chiral calixarene analogues incorporating amino acid residues into the macrocyclic rings were prepared from the cyclization reactions of bis(chloromethyl)phenol-formaldehyde tetramer with amino acid methyl ester in moderate yields. The macrocycles form a chiral concavity, which is induced by the chiral transmission from the point chirality of the amino acid residues to the phenol-formaldehyde tetramer
    通过双(氯甲基)苯酚甲醛四聚体与氨基酸甲酯的环化反应,以中等收率制备了将氨基酸残基掺入大环的手性杯芳烃类似物。大环形成手性凹度,其由氨基酸残基的点手性向苯酚-甲醛四聚体单元的手性传递引起。由于阳离子-π相互作用,大环具有足够的π碱性腔,可以包含季铵离子,并且可以在1H NMR分析中用作外消旋铵离子的移位剂。
  • Method for producing 1,2-naphthoquinonediazide photosensitive agent
    申请人:——
    公开号:US20010049433A1
    公开(公告)日:2001-12-06
    A method for producing a high-purity 1,2-naphthoquinonediazide photosensitive agent containing a low level of impurities, by condensing, in an organic solvent other than amide, polyhydric phenolic compound and 1,2-naphthoquinonediazide-sulfonic acid halide in the presence of organic amine; subsequently adding amide solvent to the resultant reaction mixture; and separating the resulting organic amine acid salt through filtration.
    一种生产高纯度的1,2-萘醌二氮化酯感光剂的方法,其中含有低水平的杂质,通过在除酰胺以外的有机溶剂中,将多羟基酚类化合物和1,2-萘醌二氮化酯磺酸氯化物在有机胺的存在下缩合;随后向所得反应混合物中加入酰胺溶剂;并通过过滤分离产生的有机胺酸盐。
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