2-Methoxy-1-[[2-methoxy-3-[(2-methoxy-5-methylphenyl)methyl]-5-methylphenyl]methyl]-3-[(2-methoxy-5-methylphenyl)methyl]-5-methylbenzene | 2120-95-8

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯丙烷和聚酮 - 二芳基庚烷
• 英文名称: 2-Methoxy-1-[[2-methoxy-3-[(2-methoxy-5-methylphenyl)methyl]-5-methylphenyl]methyl]-3-[(2-methoxy-5-methylphenyl)methyl]-5-methylbenzene
• CAS: 2120-95-8
• 化学式: C₃₅H₄₀O₄
• 分子量: 524.7
• InChiKey: WZNAIQMTODUTDD-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  9
• 重原子数：
  39
• 可旋转键数：
  10
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.31
• 拓扑面积：
  36.9
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  2,2'-亚甲基双[6-(2-羟基-5-甲苄基)-对甲酚] 、 硫酸二甲酯 在 barium dihydroxide 、 barium(II) oxide 作用下， 以 二甲基亚砜 、 N,N-二甲基甲酰胺 为溶剂， 生成 2-Methoxy-1-[[2-methoxy-3-[(2-methoxy-5-methylphenyl)methyl]-5-methylphenyl]methyl]-3-[(2-methoxy-5-methylphenyl)methyl]-5-methylbenzene
  参考文献：
  名称：

  Die vollst�ndige Methylierung phenolischer Hydroxylgruppen in Mehrkernverbindungen mit aromatisch gebundenem Chlor

  摘要：

  DOI：

  10.1007/bf01152074

文献信息

• PHOTOSENSITIVE COMPOUND AND PHOTORESIST COMPOSITION INCLUDING THE SAME
  申请人：LEE Jae-Woo

  公开号：US20090155714A1

  公开（公告）日：2009-06-18

  A photosensitive compound whose size is smaller than conventional polymer for photoresist, and which has well-defined (uniform) structure, and a photoresist composition including the same are disclosed. The photosensitive compound represented by the following formula. Also, the present invention provides a photoresist composition comprising 1 to 85 wt % (weight %) of the photosensitive compound; 0.05 to weight parts of a photo-acid generator with respect to 100 weight parts of the photosensitive compound; and 10 to 5000 weight parts of an organic solvent. In the formula, n is 0 or 1, x is 1, 2, 3, 4 or 5, y is 2, 3, 4, 5 or 6, z is 0, 1, 2, 3 or 4, R, R′ and R″ are independently hydrocarbon group of 1 to 30 carbon atoms, preferably 2 to 20 carbon atoms, and R′″ is a hydrogen atom or hydrocarbon group of 1 to 30 carbon atoms, preferably 2 to 20 carbon atoms.

  本发明揭示了一种比传统光刻胶更小的大小，具有明确定义（均匀）结构的光敏化合物，以及包括该光敏化合物的光刻胶组合物。该光敏化合物由以下公式表示。此外，本发明提供了一种光刻胶组合物，包括1至85重量％（重量％）的光敏化合物；相对于100重量部的光敏化合物0.05至重量份的光酸发生剂；以及10至5000重量部的有机溶剂。在公式中，n为0或1，x为1、2、3、4或5，y为2、3、4、5或6，z为0、1、2、3或4，R、R'和R"分别为1至30碳原子的烃基，优选为2至20碳原子，R'"为氢原子或1至30碳原子的烃基，优选为2至20碳原子。
• US8043789B2
  申请人：——

  公开号：US8043789B2

  公开（公告）日：2011-10-25