2,3,6-三甲基辛烷-2-醇 | 106594-86-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 中文名称: 2,3,6-三甲基辛烷-2-醇
• 英文名称: 2,3,6-Trimethyl-octanol-2
• 英文别名: 2,3,6-trimethyl-octan-2-ol；2,3,6-Trimethyloctan-2-ol；2,3,6-trimethyloctan-2-ol
• CAS: 106594-86-9
• 化学式: C₁₁H₂₄O
• 分子量: 172.311
• InChiKey: VPNGEXMALDCQCU-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.7
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  20.2
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  2,3,6-Trimethyl-octin-(4)-triol-(2,3,6) 在 Lindlar's catalyst 氢气 、 对甲苯磺酸 、 邻苯三酚 作用下， 以 甲醇 为溶剂， 生成 2,3,6-三甲基辛烷-2-醇
  参考文献：
  名称：

  Nikitin,V.I.; Glazunova,E.M., Journal of general chemistry of the USSR, 1960, vol. 30, p. 3863 - 3871

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Positive resist composition, resin used for the positive resist composition, compound used for synthesis of the resin and pattern forming method using the positive resist composition
  申请人：Fujifilm Corporation

  公开号：EP1795960A2

  公开（公告）日：2007-06-13

  A positive resist composition comprises: (A) a resin of which solubility in an alkali developer increases under an action of an acid; (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with actinic rays or radiation; (C) a resin having at least one of a fluorine atom and a silicon atom; and (D) a solvent; and a pattern forming method using the positive resist composition.

  一种正抗蚀剂组合物包括：(A) 在酸的作用下，其在碱显影剂中的溶解度增加的树脂；(B) 在光射线或辐射照射下能够产生酸的化合物；(C) 具有至少一个氟原子和一个硅原子的树脂；以及 (D) 溶剂；以及使用正抗蚀剂组合物的图案形成方法。
• Nikitin,V.I.; Glazunova,E.M., Journal of general chemistry of the USSR, 1960, vol. 30, p. 3863 - 3871
  作者：Nikitin,V.I.、Glazunova,E.M.

  DOI：——

  日期：——