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Methylenglyol-ethylether-cyclohexylether | 54699-29-5

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
Methylenglyol-ethylether-cyclohexylether
英文别名
Cyclohexane, (ethoxymethoxy)-;ethoxymethoxycyclohexane
Methylenglyol-ethylether-cyclohexylether化学式
CAS
54699-29-5
化学式
C9H18O2
mdl
——
分子量
158.241
InChiKey
YFNOBFTWZJIECI-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    2.2
  • 重原子数:
    11
  • 可旋转键数:
    4
  • 环数:
    1.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    1.0
  • 拓扑面积:
    18.5
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    2

反应信息

  • 作为产物:
    描述:
    二乙氧基甲烷环己醇 在 Nafion-H SAC-13 silica nanocomposite 作用下, 以 甲苯 为溶剂, 以83%的产率得到Methylenglyol-ethylether-cyclohexylether
    参考文献:
    名称:
    Efficient and Selective Formation of Mixed Acetals by Nafion‐H SAC‐13 Silica Nanocomposite Solid Acid Catalyst
    摘要:
    Various types of hydroxy compounds can readily be converted to the corresponding mixed acetals with dialkoxymethanes in the presence of SAC-13 solid superacid. The transformation is almost instantaneous, product acetals are isolated in good to excellent yields, and the catalyst can be reused with minor loss of activity. Comparative studies were also carried out with p-toluenesulfonic acid and BF3 (.) OEt2.
    DOI:
    10.1081/scc-200032419
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文献信息

  • Mamedov,S.; Avanesyan,M.A., Journal of general chemistry of the USSR, 1961, vol. 31, p. 3317 - 3320
    作者:Mamedov,S.、Avanesyan,M.A.
    DOI:——
    日期:——
  • (Meth)Acrylate, Polymer and Resist Composition
    申请人:Ootake Atsushi
    公开号:US20080003529A1
    公开(公告)日:2008-01-03
    A polymer contains a constituent unit having a specific acetal skeleton. This polymer is able to be used as a resist resin in DUV excimer laser lithography, electron beam lithography, EUV lithography, or the like.
  • (METH)ACRYLATE, POLYMER AND RESIST COMPOSITION
    申请人:Ootake Atsushi
    公开号:US20090226851A1
    公开(公告)日:2009-09-10
    A polymer contains a constituent unit having a specific acetal skeleton. This polymer is able to be used as a resist resin in DUV excimer laser lithography, electron beam lithography, EUV lithography, or the like.
  • US8088875B2
    申请人:——
    公开号:US8088875B2
    公开(公告)日:2012-01-03
  • US8114949B2
    申请人:——
    公开号:US8114949B2
    公开(公告)日:2012-02-14
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