ethyl-decahydro[1]naphthyl ether | 21727-85-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: ethyl-decahydro[1]naphthyl ether
• 英文别名: Aethyl-decahydro[1]naphthyl-aether；Aethyl-α-dekalyl-aether；Naphthalene, 1-ethoxydecahydro-, trans-；1-ethoxy-1,2,3,4,4a,5,6,7,8,8a-decahydronaphthalene
• CAS: 21727-85-5
• 化学式: C₁₂H₂₂O
• 分子量: 182.306
• InChiKey: JBNXOCXFIBLXBR-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.8
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  9.2
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  1-乙氧基萘 在 溶剂黄146 、 铂 作用下， 生成 ethyl-decahydro[1]naphthyl ether
  参考文献：
  名称：

  Waser et al., Helvetica Chimica Acta, 1929, vol. 12, p. 441

  摘要：

  DOI：

文献信息

• 一种芳族化合物氢化及氢化脱氧的方法及其应用
  申请人：中国医学科学院药物研究所

  公开号：CN112851454B

  公开（公告）日：2022-11-04

  本发明属于医药技术领域，公开了一种在温和条件下芳族化合物氢化及氢化脱氧的方法以及该方法在芳族化合物及相关混合物氢化及氢化脱氧反应中的应用。具体而言，所述的方法为在合适的温度条件下使所述的芳族化合物或含有芳族化合物的混合物在溶剂中与催化剂及合适压力的氢气接触，使所述的氢、溶剂和芳族化合物在催化剂的作用下反应得到相应的氢化产物或/和脱除含氧取代基的氢化脱氧产物。本发明还公开了该方法的具体实施条件以及该方法适用的芳族化合物结构类型。本发明所用氢化及氢化脱氧反应方法反应条件温和，氢化脱氧效率高，底物适用性广泛，后处理方便，有良好的实验室和工业应用前景。
• ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE COMPOSITION
  申请人：INASAKI Takeshi

  公开号：US20130004888A1

  公开（公告）日：2013-01-03

  An object of the present invention is to provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition that can form independent line patterns with high resolution and excellent shapes and shows excellent resist performances including roughness characteristics, and to provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film and a pattern forming method using the composition. The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition contains a compound (P) that contains at least one phenolic hydroxyl group and at least one group in which a hydrogen atom of a phenolic hydroxyl group is substituted with a group represented by the following General Formula (1) (the respective symbols in the formula represent the same definitions as in the claims and the specification).

  本发明的目的是提供一种光致或辐射致敏树脂组合物，该组合物可以形成具有高分辨率和优秀形状的独立线型图案，并显示出包括粗糙特性在内的优异的抗阻性能，以及提供使用该组合物的光致或辐射致敏膜和图案形成方法。光致或辐射致敏树脂组合物包含一种化合物（P），该化合物含有至少一个酚羟基和至少一个氢原子被代表如下通式（1）的基团取代的酚羟基的基团（式中各符号与权利要求书和说明书中的定义相同）。
• US7241553B2
  申请人：——

  公开号：US7241553B2

  公开（公告）日：2007-07-10
• US8574814B2
  申请人：——

  公开号：US8574814B2

  公开（公告）日：2013-11-05
• Waser et al., Helvetica Chimica Acta, 1929, vol. 12, p. 441
  作者：Waser et al.

  DOI：——

  日期：——