1-ethyl-1-methoxycyclopentane | 30226-10-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: 1-ethyl-1-methoxycyclopentane
• 英文别名: 1-Methoxy-1-ethyl-cyclopentan；1-Ethyl-1-methoxy-cyclopentan；1-Ethyl-cyclopentyl methyl ether
• CAS: 30226-10-9
• 化学式: C₈H₁₆O
• 分子量: 128.214
• InChiKey: SUTBBADFKCKKBQ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.1
• 重原子数：
  9
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  9.2
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  1-乙炔基环戊醇 在 5%-palladium/activated carbon 、 氢气 、 sodium hydride 作用下， 以 四氢呋喃 、 甲醇 为溶剂， 80.0 ℃ 、3.0 MPa 条件下， 反应 22.5h， 生成 1-ethyl-1-methoxycyclopentane
  参考文献：
  名称：

  [EN] ETHERS AND ESTERS OF 1-SUBSTITUTED CYCLOALKANOLS FOR USE AS AROMA CHEMICALS
  [FR] ÉTHERS ET ESTERS DE CYCLOALCANOLS SUBSTITUÉS EN POSITION 1 DESTINÉS À ÊTRE UTILISÉS EN TANT QUE PRODUITS CHIMIQUES AROMATIQUES

  摘要：

  本发明涉及使用1-取代环烷醇的醚或酯，或两种或两种以上的1-取代环烷醇的醚或酯的混合物，或其立体异构体，或两种或两种以上的其立体异构体作为香气化学品的用途；用于修改香味组合物的气味特性；以及含有1-取代环烷醇的醚或酯，或两种或两种以上的1-取代环烷醇的醚或酯的混合物，或其立体异构体，或两种或两种以上的其立体异构体的香气化学品组合物；以及制备香味组合物或修改香味组合物的气味特性的方法。该发明还涉及特定的1-取代环烷醇的醚或酯。

  公开号：

  WO2020079007A1

文献信息

• SALT AND PHOTORESIST COMPOSITION CONTAINING THE SAME
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：US20190112265A1

  公开（公告）日：2019-04-18

  A salt comprising a group represented by the formula (aa): wherein X a and X b independently each represent an oxygen atom or a sulfur atom, and X 1 represents a C1-C12 saturated hydrocarbon group which has a moiety represented by formula (1 a ) or (2 a ):

  一种盐，其由公式（aa）表示的基团组成：其中Xa和Xb分别独立地表示氧原子或硫原子，而X1表示具有由公式（1a）或（2a）表示的基团的C1-C12饱和碳氢基团。
• [EN] HEPATITIS C VIRUS NS3/4A PROTEASE INHIBITORS<br/>[FR] INHIBITEURS DE PROTÉASE NS3/4A DU VIRUS DE L'HÉPATITE C
  申请人：UNIV MASSACHUSETTS

  公开号：WO2020247736A1

  公开（公告）日：2020-12-10

  The invention provides novel classes of HCV therapeutics that are orally available, safe and effective HCV NS3/4A protease inhibitors and are less susceptible to drug resistance than existing therapeutics. The invention also relates to pharmaceutical composition of these compounds and methods of preparation and use thereof.

  该发明提供了一类新型的HCV治疗药物，这些药物是口服可用的，安全有效的HCV NS3/4A蛋白酶抑制剂，并且比现有治疗药物更不容易产生药物抗性。该发明还涉及这些化合物的药物组合物、制备方法和使用方法。
• ONIUM SALT COMPOUND, CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US20210149301A1

  公开（公告）日：2021-05-20

  An onium salt having formula (1) serving as an acid diffusion inhibitor and a chemically amplified resist composition comprising the acid diffusion inhibitor are provided. When processed by lithography, the resist composition exhibits dissolution contrast, acid diffusion suppressing effect, and excellent lithography performance factors such as CDU, LWR and sensitivity.

  提供具有公式（1）的醇铵盐，作为酸扩散抑制剂和化学增强型抗蚀剂组合物。当通过光刻加工时，该抗蚀剂组合物表现出溶解对比度，抑制酸扩散效果以及出色的光刻性能因素，例如CDU，LWR和灵敏度。
• COMPOUND, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM, AND PATTERN FORMATION METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE USING SAME, AND ELECTRONIC DEVICE
  申请人：FUJIFILM CORPORATION

  公开号：US20160024005A1

  公开（公告）日：2016-01-28

  There is provided an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition containing a compound represented by the following formula (1) or (2), and the formula (1) and (2) are defined as herein, and a resist film comprising the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, and a pattern forming method comprising a step of exposing the resist film, and a step of developing the exposed film, and a method for manufacturing an electronic device, comprising the pattern forming method, and an electronic device manufactured by the manufacturing method of an electronic device.

  提供了一种包含下列式子（1）或（2）所代表的化合物的光致射线敏感或辐射敏感的树脂组合物，其中式（1）和（2）的定义如本文所述，以及包括该光致射线敏感或辐射敏感的树脂组合物的光阻膜，以及包括曝光光阻膜的步骤和显影曝光膜的步骤的图案形成方法，以及包括图案形成方法的制造电子装置的方法，以及由电子装置的制造方法制造的电子装置。
• PATTERN FORMING METHOD, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND RESIST FILM
  申请人：Enomoto Yuichiro

  公开号：US20120282548A1

  公开（公告）日：2012-11-08

  Provided is a pattern forming method comprising (i) a step of forming a film from an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, (ii) a step of exposing the film, and (iii) a step of developing the exposed film by using an organic solvent-containing developer, wherein the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition comprises (A) a resin capable of decreasing the solubility for an organic solvent-containing developer by the action of an acid, (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, (D) a solvent, and (G) a compound having at least either one of a fluorine atom and a silicon atom and having basicity or being capable of increasing the basicity by the action of an acid.

  提供的是一种形成图案的方法，包括(i)使用光致或辐射敏感树脂组成物形成薄膜的步骤，(ii)曝光薄膜的步骤，以及(iii)使用有机溶剂含有的显影剂显影曝光后的薄膜的步骤，其中光致或辐射敏感树脂组成物包括(A)一种能够通过酸的作用降低有机溶剂含有的显影剂的溶解度的树脂，(B)一种能够在光致或辐射照射下生成酸的化合物，(D)一种溶剂，以及(G)一种具有氟原子和硅原子中的至少一种，并具有碱性或能够通过酸的作用增加碱性的化合物。