2-chloro-3-methyl-anthraquinone | 14684-09-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 蒽
• 英文名称: 2-chloro-3-methyl-anthraquinone
• 英文别名: 2-Chlor-3-methyl-anthrachinon；2-chloro-3-methylanthraquinone；2-Chloro-3-methylanthracene-9,10-dione
• CAS: 14684-09-4
• 化学式: C₁₅H₉ClO₂
• 分子量: 256.688
• InChiKey: YQZHOBBQNFBTJE-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.9
• 重原子数：
  18
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.07
• 拓扑面积：
  34.1
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-chloro-3-methyl-anthraquinone 在 sodium dichromate 、 硫酸 、 溴 、 potassium acetate 、 copper (I) acetate 、 溶剂黄146 、 硝基苯 作用下， 生成 3-anilino-9,10-dioxo-9,10-dihydro-anthracene-2-carboxylic acid
  参考文献：
  名称：

  Ullmann; Dasgupta, Chemische Berichte, 1914, vol. 47, p. 565

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  2-甲基蒽醌 在 硫酸 作用下， 生成 2-chloro-3-methyl-anthraquinone
  参考文献：
  名称：

  Hayashi; Yoshida; Nagai, The journal of the Society of Chemical Industry, Japan. Supplemental binding., 1942, vol. 45, p. 40

  摘要：

  DOI：

文献信息

• HOMOLOGS OF CHLOROPRENE AND THEIR POLYMERS (SECOND PAPER ON NEW SYNTHETIC RUBBERS)
  作者：Wallace H. Carothers、Donald D. Coffman

  DOI：10.1021/ja01349a035

  日期：1932.10

  iene-1,3 polymerized very rapidly and yielded a rubber-like polymer, which alter vulcanization was less extensible than the corresponding product obtained from chloroprene (chloro-2-butadiene-1,3). Chloro-2-dimethyl-3,4-butadiene-1,3 polymerized very slowly and the product, even alter vulcanization, was soft and lacking in nerve. Chloro-2-tetramethylene-3,4-butadiene-1,3 also polymerized very slowly

  摘要 三种取代的乙烯基乙炔用氯化氢处理，转化为相应的氯丁二烯。Chloro-2-methyl-3-butadiene-1,3 非常迅速地聚合并产生橡胶状聚合物，其硫化后的延展性低于从氯丁二烯 (chloro-2-butadiene-1,3) 获得的相应产品。Chloro-2-dimethyl-3,4-butadiene-1,3 聚合非常缓慢，产品即使在硫化后也很柔软，缺乏神经。Chloro-2-tetramethylene-3,4-butadiene-1,3 也非常缓慢地聚合并且产物非常柔软、可塑性和粘性。这三种新的氯丁二烯的结构是通过它们与 α-萘醌反应形成结晶加成产物而建立的，这些加成产物被氧化成相应的蒽醌。
• PHOTOACID-GENERATING COMPOUND AND ASSOCIATED POLYMER, PHOTORESIST COMPOSITION, AND METHOD OF FORMING A PHOTORESIST RELIEF IMAGE
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials LLC

  公开号：US20180095363A1

  公开（公告）日：2018-04-05

  A photoacid-generating compound has the structure wherein m, n, R 1 , R 2 , X, Y, and Z − are defined herein. The photoacid-generating compound exhibits strong absorption and chemical sensitivity to extreme ultraviolet radiation, while also absorbing longer wavelengths with desirably reduced chemical sensitivity. Also described are a polymer incorporating the residue of a polymerizable version of the photoacid-generating compound, a photoresist composition that includes the photoacid-generating compound, the polymer, or a combination thereof, and a method of forming a photoresist relief image using the photoresist composition.

  一种光酸生成化合物具有结构，其中m、n、R1、R2、X、Y和Z−在此处定义。该光酸生成化合物对极紫外辐射具有强吸收和化学敏感性，同时还吸收较长波长并具有较低的化学敏感性。还描述了一种聚合物，其中包含可聚合版本的光酸生成化合物的残留物，一种包含该光酸生成化合物、聚合物或两者组合的光阻剂组合物，以及使用该光阻剂组合物形成光阻剂
• Two-photon absorption dye-containing material, three-dimensional refractive index modulation material, three-dimensional absorption index modulation material and three-dimensional optical recording material
  申请人：Takizawa Hiroo

  公开号：US20050019711A1

  公开（公告）日：2005-01-27

  To provide a two-photon absorption dye-containing material having a great off-resonant two-photon absorption cross section and comprising a two-photon absorption dye capable of decoloring itself through off-resonant two-photon absorption, useful for a three-dimensional refractive index or absorption index modulation material, a three-dimensional optical recording medium, three-dimensional refractive index modulation method and recording and reproducing method for a three-dimensional optical recording medium a two-photon absorption dye-containing material comprising at least a two-photon absorption dye capable of decoloring itself through two-photon absorption.

  提供一种具有较大离共振双光子吸收截面的含有双光子吸收染料的材料，包括能够通过离共振双光子吸收脱色的双光子吸收染料，适用于三维折射率或吸收率调制材料，三维光学记录介质，三维折射率调制方法以及三维光学记录介质的记录和再现方法，其中包括至少一种能够通过双光子吸收脱色的双光子吸收染料的双光子吸收染料含材料。
• PHOTOACID-GENERATING COMPOUND, POLYMER DERIVED THEREFROM, PHOTORESIST COMPOSITION INCLUDING THE PHOTOACID-GENERATING COMPOUND OR POLYMER, AND METHOD OF FORMING A PHOTORESIST RELIEF IMAGE
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials LLC

  公开号：US20180059542A1

  公开（公告）日：2018-03-01

  A photoacid-generating compound has the structure where R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , Q, and X are defined herein. The photoacid-generating compound can be used as a component of a photoresist composition, or as a monomer incorporated into a polymer useful in a photoresist composition. The photoacid-generating compound provides a desired balance of solubility and line width roughness.

  一种具有以下结构的光酸发生化合物，其中R1、R2、R3、R4、Q和X在此定义。该光酸发生化合物可以用作光阻组分，或作为单体并入到聚合物中，用于光阻组分。该光酸发生化合物提供所需的溶解度和线宽粗糙度的平衡。
• Strahlungsempfindliche Überzugsmasse und Verfahren zur Herstellung eines negativen Photoresistbildes
  申请人：International Business Machines Corporation

  公开号：EP0003040A2

  公开（公告）日：1979-07-25

  Die Erfindung betrifft eine strahlungsempfindliche Überzugsmasse und deren Verwendung als negativer Resist. Sie betrifft auch ein Verfahren zur Hsrstellung eines negativen Resistbildes. Die strahlungaempfindliche Überzugsmasse umfaßt Reaktionsprodukte einer monoäthylenisch ungeaattigten Carbonsäure mit einem Epoxidharz, vorzugsweise mit einem Epichiorhydrin-2.2·Bis(4-hvdroxypheny)tpropan-Diglycidyläther-Epoxid und einem epoxidierten Novolak. harz; einer polyäthylenisch ungesättigten Verbindung; einem Photoinitiator und ggf. einem nichtreaktiven Verdünnungsmittel. Die Überzugsmasse kann zusätzlich ein Phenoxyharz enthalten. Die erndungsgemäßen Überrugsmsssen weisen ausgezeichnete bilderzeugende und filmbildende Eigenschsften auf, so daß sie gleichzeitig als negative Resistmaterialien und zur Herstellung permanenter Schuttüberzüga verwendet werden können.

  本发明涉及一种辐射敏感涂层材料及其作为底片抗蚀剂的用途。本发明还涉及一种制作底片抗蚀剂图像的工艺。 辐射敏感涂层组合物包括单乙烯不饱和羧酸与环氧树脂的反应产物，最好是环氧表酸酐-2,2-双（4-hvdroxypheny）丙烷二缩水甘油醚环氧化物和环氧化酚醛树脂；聚乙烯不饱和化合物；光引发剂和可选的非反应性稀释剂。涂料组合物还可能含有苯氧基树脂。 本发明的涂料具有优异的成象和成膜性能，因此可同时用作底片抗蚀剂材料和生产永久性碎片涂料。