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1-(4-azidophenyl)-1H-pyrrole-2,5-dione | 50684-67-8

中文名称
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中文别名
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英文名称
1-(4-azidophenyl)-1H-pyrrole-2,5-dione
英文别名
1-(4-azidophenyl)pyrrole-2,5-dione
1-(4-azidophenyl)-1H-pyrrole-2,5-dione化学式
CAS
50684-67-8
化学式
C10H6N4O2
mdl
——
分子量
214.183
InChiKey
FTPGFMCVBBDGGG-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
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计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    2
  • 重原子数:
    16
  • 可旋转键数:
    2
  • 环数:
    2.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.0
  • 拓扑面积:
    51.7
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    4

上下游信息

  • 上游原料
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

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文献信息

  • Controlled Covalent Functionalization of 2 H‐MoS <sub>2</sub> with Molecular or Polymeric Adlayers
    作者:Ramiro Quirós‐Ovies、Manuel Vázquez Sulleiro、Mariano Vera‐Hidalgo、Javier Prieto、I. Jénnifer Gómez、Víctor Sebastián、Jesús Santamaría、Emilio M. Pérez
    DOI:10.1002/chem.202000068
    日期:2020.5.20
    hardly any reliable methods for the covalent modification of 2 H-MoS2 . An ideal method for the chemical functionalization of such materials should be both mild, not requiring the introduction of a large number of defects, and versatile, allowing for the decoration with as many different functional groups as possible. Herein, a comprehensive study on the covalent functionalization of 2 H-MoS2 with maleimides
    大多数空气稳定的2D材料是相对惰性的,这使得它们的化学改性变得困难。特别地,在MoS 2的情况下,半导体2 H-MoS 2的反应性比其属对应物1T-MoS 2少得多。结果,几乎没有任何可靠的方法可以共价修饰2 H-MoS2。用于这种材料的化学功能化的理想方法应该是温和的,不需要引入大量缺陷的通用方法以及通用的方法,以允许使用尽可能多的不同官能团进行装饰。在此,对2 H-MoS2与马来酰亚胺的共价官能化进行了全面的研究。碱(Et 3 N)的使用导致原位形成与MoS 2共价连接的琥珀酰亚胺聚合物层。相反,在没有基础的情况下,功能化在分子平上停止。此外,功能化方案温和(在室温下发生),快速(在1小时内几乎完成)和非常灵活(已测试11种不同的溶剂和10种不同的马来酰亚胺)。实际上,这里描述的程序允许化学家以非常灵活的方式操纵2 H-MoS 2,用聚合物或分子以及广泛的官能团修饰它以进行后续修饰
  • Verfahren zur phototechnischen Herstellung von Reliefstrukturen
    申请人:SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT
    公开号:EP0019122A2
    公开(公告)日:1980-11-26
    Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur phototechnischen Herstellung von Reliefstrukturen aus olefinisch ungesättigte Polymere und Azide als Photoinitiatoren enthaltenden Gemischen. Dieses Verfahren soll derart ausgestaltet werden, daß die phototechnische Herstellung von Reliefstrukturen noch rationeller gestaltet wird. Die Erfindung sieht dazu die Verwendung aromatischer Azidomaleinimide als Photoinitiatoren vor. Das erfindungsgemäße Verfahren eignet sich insbesondere zur phototechnischen Strukturierung von Isolierstoffen sowie Halbleiter- und Leiterwerkstoffen.
    本发明涉及一种利用含有烯烃不饱和聚合物和叠氮化物作为光引发剂的混合物,通过光技术生产浮雕结构的工艺。该工艺的设计将使浮雕结构的光技术生产更加合理化。为此,本发明使用芳香族叠氮马来酰亚胺作为光引发剂。根据本发明的工艺特别适用于绝缘材料以及半导体和导体材料的光技术结构。
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