2-异丙氧基丙酸 | 79885-46-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 中文名称: 2-异丙氧基丙酸
• 英文名称: 2-isopropoxypropionic acid
• 英文别名: 2-Isopropoxypropanoic acid；2-propan-2-yloxypropanoic acid
• CAS: 79885-46-4
• 化学式: C₆H₁₂O₃
• mdl: MFCD09864396
• 分子量: 132.159
• InChiKey: MWDCBSZUHUONCE-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.9
• 重原子数：
  9
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.833
• 拓扑面积：
  46.5
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  3

安全信息

• 海关编码：
  2918990090

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-异丙氧基丙酸 、 9-(2,6-dimethyl-4-prop-1-ynylphenyl)-3-azaspiro[5.5]undecane-8,10-dione hydrochloride 在 三乙胺 、 Methanaminium,N-[(dimethylamino)(3H-1,2,3-triazolo[4,5-b]pyridin-3-yloxy)methylene]-N-methyl-, hexafluorophosphate(1-) 作用下， 以 N,N-二甲基甲酰胺 为溶剂， 反应 1.0h， 生成 9-(2,6-dimethyl-4-prop-1-ynylphenyl)-3-(2-isopropoxypropanoyl)-3-azaspiro[5.5]undecane-8,10-dione
  参考文献：
  名称：

  [EN] HERBICIDAL COMPOUNDS
  [FR] COMPOSÉS HERBICIDES

  摘要：

  本发明涉及式（I）的化合物，其中R1、R2、R3、R4和G如本文所定义。该发明还涉及含有式（I）化合物的除草剂组合物，以及它们用于控制杂草的用途，特别是在有用植物作物中。

  公开号：

  WO2019170745A1
• 作为产物：
  描述：

  2-溴丙酸乙酯 在 sodium hydroxide 作用下， 以 异丙醇 为溶剂， 生成 2-异丙氧基丙酸
  参考文献：
  名称：

  Herbicidal substituted

  摘要：

  本发明涉及某些具有除草活性的取代的1,3,4-噻二唑-2-基-4-羟基-1-甲基-2-咪唑啉酮，它们的制备以及用于控制杂草。

  公开号：

  US04314842A1
• 作为试剂：
  描述：

  钠 、 2-溴丙酸乙酯 、 、 水 、 sodium hydroxide 、 异丙醇 在 氮气 、 ice 、 二氯甲烷 、 magnesium sulfate 、 2-异丙氧基丙酸 作用下， 反应 18.33h， 以to yield 27.8 grams of a pale yellow viscous liquid of 2-(1-methylethoxy)propanoic acid的产率得到2-异丙氧基丙酸
  参考文献：
  名称：

  Herbicidal substituted

  摘要：

  本发明涉及具有除草活性的某些取代的1,3,4-噻二唑-2-基-4-羟基-1-甲基-2-咪唑啉酮，其制备以及用于控制杂草。

  公开号：

  US04314842A1

文献信息

• Chemical amplification type resist composition
  申请人：Yamada Airi

  公开号：US20080269506A1

  公开（公告）日：2008-10-30

  The present invention provides a sulfonium salt of the formula (Ia) a polymeric compound comprising a structural unit of the formula (Ib) and a chemical amplification type positive resist composition comprising (A) an acid generator comprising at least one compound selected from the group consisting of a sulfonium salt of the formula (Ia), a polymeric compound comprising a structural unit of the formula (Ib), and a sulfonium salt of the formula (Ic); and (B) resin which contains a structural unit having an acid labile group and which itself is insoluble or poorly soluble in an alkali aqueous solution but becomes soluble in an alkali aqueous solution by the action of an acid.

  本发明提供了一种公式(Ia)的硫鎓盐，包括一个结构单元的聚合物化合物的公式(Ib)，以及一种化学放大型正性光刻胶组合物，包括(A)至少选择自硫鎓盐的公式(Ia)、一个结构单元的聚合物化合物的公式(Ib)和硫鎓盐的公式(Ic)组成的酸发生剂；以及(B)含有酸敏感基团的结构单元的树脂，本身在碱性水溶液中不溶或难溶，但在酸的作用下变得可溶于碱性水溶液。
• Photoresist composition for deep ultraviolet lithography comprising a mixture of photoactive compounds
  申请人：——

  公开号：US20030235782A1

  公开（公告）日：2003-12-25

  The present invention relates to a novel photoresist composition that can be developed with an aqueous alkaline solution, and is capable of being imaged at exposure wavelengths in the deep ultraviolet. The invention also relates to a process for imaging the novel photoresist as well as novel photoacid generators.

  本发明涉及一种新型光刻胶组合物，可以用水性碱性溶液进行显影，并且能够在深紫外曝光波长下成像。该发明还涉及一种成像新型光刻胶的方法以及新型光酸发生剂。
• [EN] POLYMER COMPOSITIONS FOR SELF-ASSEMBLY APPLICATIONS<br/>[FR] COMPOSITIONS POLYMÈRES POUR APPLICATIONS D'AUTO-ASSEMBLAGE
  申请人：AZ ELECTRONIC MAT LUXEMBOURG SARL

  公开号：WO2018033559A1

  公开（公告）日：2018-02-22

  The present invention relates to a composition comprises at least one random copolymer having at least one repeat unit of structure (1 ), The present invention also relates to novel processes for forming patterns using this novel crosslinked layer on a substrate by enable a film of a block copolymer coated on the novel crosslinked layer to undergo self-assembly.

  本发明涉及一种组合物，其中包括至少一种具有结构（1）的随机共聚物重复单元。本发明还涉及使用这种新型交联层在基底上形成图案的新型工艺，通过使涂覆在新型交联层上的嵌段共聚物薄膜进行自组装。
• PHOTOLYTIC ACID-GENERATING POLYMERS AND MONOMERS FOR THEIR CONSTRUCTION
  申请人：BRAINARD Robert L.

  公开号：US20110130538A1

  公开（公告）日：2011-06-02

  Polymers for photoresists and monomers for incorporation into those polymers are disclosed. The polymers comprise a photoacid generator (PAG) component and at least a second component that is photolytically stable and acid-stable. The polymers may also contain a third, acid-labile component. The photoacid generator is based on N-sulfoxyimides and related moieties that contain photolabile oxygen-heteroatom and oxygen-aromatic carbon bonds.

  本发明揭示了用于光刻胶的聚合物和用于纳入这些聚合物的单体。聚合物包括光酸发生器（PAG）组分和至少第二个组分，该组分具有光解稳定性和酸稳定性。聚合物还可以包含第三种酸不稳定的组分。光酸发生器基于N-磺酰氧亚胺和相关的含有光敏氧杂原子和氧芳香碳键的基团。
• Photoactive compounds
  申请人：——

  公开号：US20040229155A1

  公开（公告）日：2004-11-18

  The present invention relates to a novel photoactive compounds that can be used in formulating photoresist compositions.

  本发明涉及一种新型光敏化合物，可用于制备光刻胶组成。