Study of a Two-Stage Photobase Generator for Photolithography in Microelectronics
作者:Nicholas J. Turro、Yongjun Li、Steffen Jockusch、Yuji Hagiwara、Masahiro Okazaki、Ryan A. Mesch、David I. Schuster、C. Grant Willson
DOI:10.1021/jo302149u
日期:2013.3.1
production of microelectronic chips. In the present system, the excitation of 1 results in a Norrish type II intramolecular hydrogen abstraction to generate a 1,4-biradiacal that undergoes cleavage to form 2 and acetophenone (Φ ∼ 0.04). In the second step, excitation of 2 causes cleavage of the oxime ester (Φ = 0.56) followed by base generation after reaction with water.
描述了对两级光碱产生剂(PBG)的光化学的研究。潜在的PBG(1)吸收光子(第一步)会产生PBG(2)。在水的存在下照射2会产生碱(第二步)。此双光子序列(1个+ ħ ν→ 2 + ħ ν→碱)是光致抗蚀剂的设计间距分割技术,即加倍投影光刻法用于生产微电子芯片的分辨率的方法的一个重要组成部分。在本系统中,1的激发会导致Norrish II型分子内氢提取,从而生成1,4-双radi醛,然后裂解形成2和苯乙酮(Φ〜0.04 )。在第二步中,激发2会裂解肟酯(Φ= 0.56),然后在与水反应后生成碱。