2,2,4,8,8-pentamethyl-4-nonene | 73097-72-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 碳氢化合物 - 不饱和烃
• 英文名称: 2,2,4,8,8-pentamethyl-4-nonene
• 英文别名: PMN；2,2,4,8,8-Pentamethylnon-4-ene；2,2,4,8,8-pentamethylnon-4-ene
• CAS: 73097-72-0
• 化学式: C₁₄H₂₈
• 分子量: 196.376
• InChiKey: HUWNHPVXICKBLA-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  6.1
• 重原子数：
  14
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.86
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  0

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2,2,4,8,8-pentamethyl-4-nonene 在 1,3-二氯-5,5-二甲基海因 、 2,6-二叔丁基-4-甲基苯酚 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 反应 1.75h， 生成 5-Chloro-2,2,8,8-tetramethyl-4-methylidenenonane
  参考文献：
  名称：

  Halogenated poly(isobutylene-co-isoprene): influence of halogen leaving-group and polymer microstructure on chemical reactivity

  摘要：

  溴化（BIIR）和氯化（CIIR）聚（异丁烯-共异戊二烯）是市面上常见的材料，俗称卤化丁基橡胶。我们研究了残留基团能力对卤化聚（异丁烯-共异戊二烯）反应性的影响，以便将碘丁基橡胶的反应性与这些材料进行比较。通过与含有重新排列的卤代甲基（r-CIIR、r-BIIR 和 r-IIR）微结构的聚合物（由照样接收的 BIIR 制备）进行比较，研究了微结构对现有商用材料反应性的影响。研究人员考察了离去基团对热稳定性以及与醋酸盐、N-丁基咪唑和硫的亲核取代反应性的影响。含有碘甲基微结构（r-IIR）的材料在低温下很容易发生亲核取代反应；但在 65 ℃ 以上的温度下，它对脱氢卤化极为敏感。在 100 至 135 °C 的温度范围内，含有溴甲基微结构（r-BIIR）的材料在亲核取代反应性和脱氢消除反应性之间表现出最大的平衡。含有氯甲基微结构（r-CIIR）的材料在高达 190 ℃ 的温度下表现出卓越的热稳定性；然而，它对亲核物的反应性是可变的，并且取决于亲核物。硫硫化研究表明，微观结构对硫硫化能力有明显影响。虽然商用氯丁基橡胶无法单独使用硫磺硫化，但当其微观结构重新排列为氯甲基（r-CIIR）时，则很容易发生硫化。商用（BIIR）和重新排列（r-BIIR）的溴化丁基橡胶在有硫磺的情况下都很容易硫化，但 BIIR 的硫化程度更高。

  DOI：

  10.1139/cjc-2013-0068

文献信息

• Halogenated poly(isobutylene-co-isoprene): influence of halogen leaving-group and polymer microstructure on chemical reactivity
  作者：Joanne R. McNeish、J. Scott Parent、Ralph A. Whitney

  DOI：10.1139/cjc-2013-0068

  日期：2013.6

  Brominated (BIIR) and chlorinated (CIIR) poly(isobutylene-co-isoprene) are commercially available materials commonly known as halobutyl rubbers. The effect of leaving-group ability on the reactivity of halogenated poly(isobutylene-co-isoprene) was studied to place iodobutyl rubber reactivity into context with these materials. The effect of microstructure on reactivity of existing commercial materials was studied through comparison to that of polymers containing rearranged halomethyl (r-CIIR, r-BIIR, and r-IIIR) microstructure (prepared from as-received BIIR). The effect of leaving group on both thermal stability and reactivity towards nucleophilic substitution with acetate, N-butylimidazole, and sulfur was examined. The material containing the iodomethyl microstructure (r-IIIR) readily underwent nucleophilic substitution at low temperatures; however, it was extremely sensitive towards dehydrohalogenation at temperatures above 65 °C. At temperatures between 100 and 135 °C, the material containing the bromomethyl microstructure (r-BIIR) demonstrated the greatest balance between reactivity toward nucleophilic substitution and elimination through dehydrohalogenation. Exceptional thermal stability at temperatures up to 190 °C was displayed by the material containing the chloromethyl microstructure (r-CIIR); however, its reactivity towards nucleophiles was variable and nucleophile dependent. Sulfur vulcanization studies showed a clear effect of microstructure on the ability to cure with sulfur. While commercial chlorobutyl rubber has no ability to cure with sulfur alone, when rearranged to its chloromethyl microstructure (r-CIIR), curing occurs readily. Both commercial (BIIR) and rearranged (r-BIIR) bromobutyl rubber readily vulcanize in the presence of sulfur; however, BIIR cures to a greater extent.

  溴化（BIIR）和氯化（CIIR）聚（异丁烯-共异戊二烯）是市面上常见的材料，俗称卤化丁基橡胶。我们研究了残留基团能力对卤化聚（异丁烯-共异戊二烯）反应性的影响，以便将碘丁基橡胶的反应性与这些材料进行比较。通过与含有重新排列的卤代甲基（r-CIIR、r-BIIR 和 r-IIR）微结构的聚合物（由照样接收的 BIIR 制备）进行比较，研究了微结构对现有商用材料反应性的影响。研究人员考察了离去基团对热稳定性以及与醋酸盐、N-丁基咪唑和硫的亲核取代反应性的影响。含有碘甲基微结构（r-IIR）的材料在低温下很容易发生亲核取代反应；但在 65 ℃ 以上的温度下，它对脱氢卤化极为敏感。在 100 至 135 °C 的温度范围内，含有溴甲基微结构（r-BIIR）的材料在亲核取代反应性和脱氢消除反应性之间表现出最大的平衡。含有氯甲基微结构（r-CIIR）的材料在高达 190 ℃ 的温度下表现出卓越的热稳定性；然而，它对亲核物的反应性是可变的，并且取决于亲核物。硫硫化研究表明，微观结构对硫硫化能力有明显影响。虽然商用氯丁基橡胶无法单独使用硫磺硫化，但当其微观结构重新排列为氯甲基（r-CIIR）时，则很容易发生硫化。商用（BIIR）和重新排列（r-BIIR）的溴化丁基橡胶在有硫磺的情况下都很容易硫化，但 BIIR 的硫化程度更高。