4-methoxyphenyl 4,6-O-benzylidene-2-deoxy-2-phthalimido-β-D-glucopyranoside | 889453-93-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 异吲哚及其衍生物
• 英文名称: 4-methoxyphenyl 4,6-O-benzylidene-2-deoxy-2-phthalimido-β-D-glucopyranoside
• 英文别名: p-methoxyphenyl 4,6-O-benzylidene-2-deoxy-2-phthalimido-β-D-glucopyranoside；para-Methoxyphenyl 4,6-O-benzylidene-2-deoxy-2-phthalimido-β-D-glucopyranoside；2-((4AR,6S,7R,8R,8aS)-8-hydroxy-6-(4-methoxyphenoxy)-2-phenylhexahydropyrano[3,2-d][1,3]dioxin-7-yl)isoindoline-1,3-dione；2-[(4aR,6S,7R,8R,8aS)-8-hydroxy-6-(4-methoxyphenoxy)-2-phenyl-4,4a,6,7,8,8a-hexahydropyrano[3,2-d][1,3]dioxin-7-yl]isoindole-1,3-dione
• CAS: 889453-93-4
• 化学式: C₂₈H₂₅NO₈
• 分子量: 503.508
• InChiKey: SHSWKRFHEJOKLK-XSVWMRDFSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3
• 重原子数：
  37
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  6.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.29
• 拓扑面积：
  104
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  8

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  4-methoxyphenyl 4,6-O-benzylidene-2-deoxy-2-phthalimido-β-D-glucopyranoside 在 sodium tetrahydroborate 、 偶氮二异丁腈 、 三正丁基氢锡 、 triethylamine tris(hydrogen fluoride) 作用下， 以 四氢呋喃 、 吡啶 、 水 、 异丙醇 、 甲苯 、 1,1,2,2-四氯乙烷 为溶剂， 反应 70.5h， 生成 4-methoxyphenyl 4-O-benzoyl-2,6-dideoxy-2-trichloroacetamido-β-D-glucopyranoside
  参考文献：
  名称：

  志贺氏志贺氏菌的两性离子多糖：由两种稀有的氨基糖制成的易于低聚的合成构件的合成研究

  摘要：

  作为第26届法日医学与精细化学研讨会特别部分的一部分出版。 抽象的 志贺氏菌病是一种由名为志贺氏菌的革兰氏阴性细菌引起的地方性腹泻病。痢疾志贺菌的最暴露多糖表现出由两种稀有氨基糖组成的两性离子二糖重复单元（AB）：[4）-α- l- Alt p NAcA-（1→3）-β- d- Fuc p NAc4N-（ 1→]。报道了一种易于低聚的AB二糖的原始合成方法，由1-葡萄糖和四-O-乙酰基-β - d-葡萄糖胺合成了有针对性的正交保护的二糖，挑战性地引入了4 B在二糖阶段，通过两步法（三氟甲基磺酸酯化，然后用NaN 3进行亲核置换）进行掩蔽AAT残基氨基部分的叠氮基。采用糖基化后的氧化策略来访问阿糖醛酸酯部分。 志贺氏菌病是一种由名为志贺氏菌的革兰氏阴性细菌引起的地方性腹泻病。痢疾志贺菌的最暴露多糖表现出由两种稀有氨基糖组成的两性离子二糖重复单元（AB）：[4）-α- l- Alt p NAcA-（1→3）-β-

  DOI：

  10.1055/s-0037-1609719
• 作为产物：
  描述：

  4-甲氧基苯酚 在 三氟化硼乙醚 、 sodium methylate 作用下， 以 甲醇 、 1,2-二氯乙烷 、 N,N-二甲基甲酰胺 为溶剂， 反应 4.5h， 生成 4-methoxyphenyl 4,6-O-benzylidene-2-deoxy-2-phthalimido-β-D-glucopyranoside
  参考文献：
  名称：

  志贺氏志贺氏菌的两性离子多糖：由两种稀有的氨基糖制成的易于低聚的合成构件的合成研究

  摘要：

  作为第26届法日医学与精细化学研讨会特别部分的一部分出版。 抽象的 志贺氏菌病是一种由名为志贺氏菌的革兰氏阴性细菌引起的地方性腹泻病。痢疾志贺菌的最暴露多糖表现出由两种稀有氨基糖组成的两性离子二糖重复单元（AB）：[4）-α- l- Alt p NAcA-（1→3）-β- d- Fuc p NAc4N-（ 1→]。报道了一种易于低聚的AB二糖的原始合成方法，由1-葡萄糖和四-O-乙酰基-β - d-葡萄糖胺合成了有针对性的正交保护的二糖，挑战性地引入了4 B在二糖阶段，通过两步法（三氟甲基磺酸酯化，然后用NaN 3进行亲核置换）进行掩蔽AAT残基氨基部分的叠氮基。采用糖基化后的氧化策略来访问阿糖醛酸酯部分。 志贺氏菌病是一种由名为志贺氏菌的革兰氏阴性细菌引起的地方性腹泻病。痢疾志贺菌的最暴露多糖表现出由两种稀有氨基糖组成的两性离子二糖重复单元（AB）：[4）-α- l- Alt p NAcA-（1→3）-β-

  DOI：

  10.1055/s-0037-1609719

文献信息

• Preparation of Thiosugars and Their Use
  申请人：Davis Benjamin Guy

  公开号：US20090176970A1

  公开（公告）日：2009-07-09

  A process for the preparation of a thiosaccharide represented by Saccharide-S-H wherein Saccharide comprises at least 4 sugar units, comprises subjecting a corresponding compound of the formula (P)Saccharide-S-(P) wherein (P) represents an O- or S-protecting group(s), to Birch reduction.

  一种制备由糖硫代糖（Saccharide-S-H）表示的硫代糖的方法，其中糖代表至少4个糖单元，包括将具有以下结构的相应化合物（P）糖硫代糖（P）进行桦还原：（P）糖硫代糖（P），其中（P）代表一个或多个O-或S-保护基。
• POLISHING COMPOSITION AND POLISHING METHOD USING THE SAME
  申请人：FUJIMI INCORPORATED

  公开号：EP2237311A1

  公开（公告）日：2010-10-06

  A polishing composition according to a first aspect of the present invention contains a nitrogen-containing compound and abrasive grains, and the pH of the composition is in the range of 1 to 7. The nitrogen-containing compound in the polishing composition preferably has a structure expressed by a formula: R1-N(-R2)-R3 in which R1, R2, and R3 each represent an alkyl group with or without a characteristic group, two of R1 to R3 may form a part of a heterocycle, and two of R1 to R3 may be identical and form a part of a heterocycle with the remaining one, Alternatively, the nitrogen-containing compound is preferably selected from a group consisting of a carboxybetaine type ampholytic surfactant, a sulfobetaine type ampholytic surfactant, an imidazoline type ampholytic surfactant, and an amine oxide type ampholytic surfactant. A polishing composition according to a second aspect of the present invention contains a water-soluble polymer and abrasive grains, and the pH of the composition is in the range of 1 to 8.

  根据本发明第一方面的抛光组合物含有含氮化合物和磨粒，组合物的 pH 值在 1 至 7 之间。抛光组合物中的含氮化合物最好具有由式表示的结构：R1-N(-R2)-R3，其中 R1、R2 和 R3 各代表一个带或不带特征基团的烷基，R1 至 R3 中的两个可构成杂环的一部分，R1 至 R3 中的两个可相同并与其余一个构成杂环的一部分，或者，R1 至 R3 中的两个可相同并与其余一个构成杂环的一部分，或者，R1 至 R3 中的两个可相同并与其余一个构成杂环的一部分、含氮化合物最好选自由羧基甜菜碱型两性表面活性剂、磺基甜菜碱型两性表面活性剂、咪唑啉型两性表面活性剂和氧化胺型两性表面活性剂组成的组。根据本发明第二方面的抛光组合物含有水溶性聚合物和磨粒，组合物的 pH 值在 1 至 8 之间。
• Polishing composition and polishing method using the same
  申请人：Mizuno Takahiro

  公开号：US10144849B2

  公开（公告）日：2018-12-04

  A polishing composition contains a nitrogen-containing compound and abrasive grains, and the pH of the composition is in the range of 1 to 7. The nitrogen-containing compound in the polishing composition preferably has a structure expressed by a formula: R1—N(—R2)—R3 in which R1, R2, and R3 each represent an alkyl group with or without a characteristic group, two of R1 to R3 may form a part of a heterocycle, and two of R1 to R3 may be identical and form a part of a heterocycle with the remaining one. Alternatively, the nitrogen-containing compound is preferably selected from a group consisting of a carboxybetaine type ampholytic surfactant, a sulfobetaine type ampholytic surfactant, an imidazoline type ampholytic surfactant, and an amine oxide type ampholytic surfactant. A polishing composition may contain a water-soluble polymer and abrasive grains, and the pH of the composition is in the range of 1 to 8.

  一种抛光组合物含有一种含氮化合物和磨粒，组合物的 pH 值在 1 至 7 之间。抛光组合物中的含氮化合物最好具有由式表示的结构：R1-N(-R2)-R3，其中 R1、R2 和 R3 各代表一个带或不带特征基团的烷基，R1 至 R3 中的两个可构成杂环的一部分，R1 至 R3 中的两个可相同并与其余一个构成杂环的一部分。另外，含氮化合物最好选自羧基甜菜碱型两性表面活性剂、磺基甜菜碱型两性表面活性剂、咪唑啉型两性表面活性剂和氧化胺型两性表面活性剂组成的组。抛光组合物可包含水溶性聚合物和磨粒，组合物的 pH 值范围为 1 至 8。
• Synthesis and cytotoxic activity of the N-acetylglucosamine-bearing triterpenoid saponins
  作者：Peng Wang、Jun Wang、TianTian Guo、Yingxia Li

  DOI：10.1016/j.carres.2010.01.002

  日期：2010.3

  Fourteen ursolic acid and oleanolic acid saponins with N-acetyl-beta-D-glucosamine, and (1 -> 4)-linked and (1 6)-linked N-acetyl-beta-D-glucosamine oligosaccharide residues were synthesized in a convergent manner. The structures of all compounds were confirmed by (1)H NMR and (13)C NMR spectroscopy and by mass spectrometry, and their cytotoxic activities were assayed in three cancer cell lines. Only oleanolic acid-3-yl beta-D-GluNAc showed significant cytotoxicity against HL-60 and BGC-823. (C) 2010 Published by Elsevier Ltd.
• Polishing Composition and Polishing Method Using the Same
  申请人：Mizuno Takahiro

  公开号：US20100301014A1

  公开（公告）日：2010-12-02

  A polishing composition contains a nitrogen-containing compound and abrasive grains, and the pH of the composition is in the range of 1 to 7. The nitrogen-containing compound in the polishing composition preferably has a structure expressed by a formula: R 1 —N(—R 2 )—R 3 in which R 1 , R 2 , and R 3 each represent an alkyl group with or without a characteristic group, two of R 1 to R 3 may form a part of a heterocycle, and two of R 1 to R 3 may be identical and form a part of a heterocycle with the remaining one. Alternatively, the nitrogen-containing compound is preferably selected from a group consisting of a carboxybetaine type ampholytic surfactant, a sulfobetaine type ampholytic surfactant, an imidazoline type ampholytic surfactant, and an amine oxide type ampholytic surfactant. A polishing composition may contain a water-soluble polymer and abrasive grains, and the pH of the composition is in the range of 1 to 8.