3-重氮-4-氧-3,4-二氢-1-萘磺酰氯 | 36451-09-9

• 物质功能分类: 有机原料 - 重氮、偶氮或氧化偶氮化合物
• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 萘
• 中文名称: 3-重氮-4-氧-3,4-二氢-1-萘磺酰氯
• 中文别名: 2-重氮-1-萘酚-4-磺酰氯；2.1.4磺酰氯；1,2-萘醌-2-二叠氮基-4-磺酰氯
• 英文名称: 2-diazo-1-naphthoquinone-4-sulfonyl chloride
• 英文别名: 2-Diazo-1,2-dihydro-1-oxo-4-naphthalenesulfonyl chloride；(3E)-3-diazo-4-oxonaphthalene-1-sulfonyl chloride
• CAS: 36451-09-9
• 化学式: C₁₀H₅ClN₂O₃S
• 分子量: 268.68
• InChiKey: HAGVXVSNIARVIZ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.1
• 重原子数：
  17
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  93.7
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

安全信息

• 危险等级：
  4.1
• 危险品运输编号：
  3222
• 海关编码：
  2927000090
• 包装等级：
  III
• 危险类别：
  4.1

SDS

1,2-萘醌-2-二叠氮基-4-磺酰氯 修改号码：5

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模块 1. 化学品
产品名称： 1,2-Naphthoquinone-2-diazido-4-sulfonyl Chloride
修改号码： 5

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模块 2. 危险性概述
GHS分类
物理性危害
自反应物质和混和物 D型
健康危害
皮肤腐蚀/刺激 第2级
严重损伤/刺激眼睛 2A类
环境危害 未分类
GHS标签元素
图标或危害标志
信号词 危险
危险描述 加热可能起火
造成皮肤刺激
造成严重眼刺激
防范说明
[预防] 远离热源/火花/明火/热表面。禁烟。
远离不相容的物质比如氧化剂。
只可存放于原用的容器内。
处理后要彻底清洗双手。
穿戴防护手套/护目镜/防护面具。
[急救措施] 眼睛接触：用水小心清洗几分钟。如果方便，易操作，摘除隐形眼镜。继续冲洗。
眼睛接触：求医/就诊
皮肤接触：用大量肥皂和水轻轻洗。
若皮肤刺激：求医/就诊。
脱掉被污染的衣物，清洗后方可重新使用。
[储存] 远离其他物质存放。
存放于通风良好处。保持凉爽。
[废弃处置] 根据当地政府规定把物品/容器交与工业废弃处理机构。
1,2-萘醌-2-二叠氮基-4-磺酰氯 修改号码：5

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模块 3. 成分/组成信息
单一物质/混和物 单一物质
化学名(中文名)： 1,2-萘醌-2-二叠氮基-4-磺酰氯
百分比： >98.0%(T)
CAS编码： 36451-09-9
俗名： 3-Diazo-3,4-dihydro-4-oxo-1-naphthalenesulfonyl Chloride
分子式： C10H5ClN2O3S

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模块 4. 急救措施
吸入： 将受害者移到新鲜空气处，保持呼吸通畅，休息。若感不适请求医/就诊。
皮肤接触： 立即去除/脱掉所有被污染的衣物。用大量肥皂和水轻轻洗。
若皮肤刺激或发生皮疹：求医/就诊。
眼睛接触： 用水小心清洗几分钟。如果方便，易操作，摘除隐形眼镜。继续清洗。
如果眼睛刺激：求医/就诊。
食入： 若感不适，求医/就诊。漱口。
紧急救助者的防护： 救援者需要穿戴个人防护用品，比如橡胶手套和气密性护目镜。

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模块 5. 消防措施
合适的灭火剂： 干粉，二氧化碳
不适用的灭火剂： 水
特殊危险性： 一旦发生火警，有爆炸的危险。由于爆炸的危险，远距离灭火。
小心，燃烧或高温下可能分解产生毒烟。
特定方法： 从上风处灭火，根据周围环境选择合适的灭火方法。
非相关人员应该撤离至安全地方。
周围一旦着火：喷水,保持容器冷却，注意切勿直接接触水。如果安全，消除一切火源
。
消防员的特殊防护用具： 灭火时，一定要穿戴个人防护用品。

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模块 6. 泄漏应急处理
个人防护措施，防护用具， 使用个人防护用品。远离溢出物/泄露处并处在上风处。
紧急措施： 泄露区应该用安全带等圈起来，控制非相关人员进入。
环保措施： 防止进入下水道。
控制和清洗的方法和材料： 清扫收集粉尘，封入密闭容器。注意切勿分散。附着物或收集物应该立即根据合适的
法律法规处置。
副危险性的防护措施 切勿与水接触。移除所有火源。一旦发生火灾应该准备灭火器。使用防火花工具和防
爆设备。

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模块 7. 操作处置与储存
处理
技术措施： 在通风良好处进行处理。穿戴合适的防护用具。切勿引起泄漏、溢出或分散。切勿产
生不必要的蒸气。远离热源/火花/明火/热表面。禁烟。采取措施防止静电积累。使用
防爆设备。避免冲击和摩擦。处理后彻底清洗双手和脸。
注意事项： 如果粉尘或浮质产生，使用局部排气。
操作处置注意事项： 避免接触皮肤、眼睛和衣物。
可能产生高压。小心打开。
贮存
储存条件： 保持容器密闭。冷藏储存。
1,2-萘醌-2-二叠氮基-4-磺酰氯 修改号码：5

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模块 7. 操作处置与储存
存放于惰性气体环境中。
防湿。
确保容器不会受到未测影响，比如跌落或脱落。
远离其他材料存放。
热敏, 潮敏
包装材料： 依据法律。只可存放在原用的容器內。

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模块 8. 接触控制和个体防护
工程控制： 尽可能安装封闭体系或局部排风系统，操作人员切勿直接接触。同时安装淋浴器和洗
眼器。
个人防护用品
呼吸系统防护： 防尘面具。依据当地和政府法规。
手部防护： 防护手套。
眼睛防护： 安全防护镜。如果情况需要，佩戴面具。
皮肤和身体防护： 防护服。如果情况需要，穿戴防护靴。

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模块 9. 理化特性
外形（20°C）： 固体
外观： 晶体-粉末
颜色： 浅黄色-灰红黄色
气味： 无味
pH: 无数据资料
熔点： 无资料
沸点/沸程 无资料
闪点： 无资料
爆炸特性
爆炸下限： 无资料
爆炸上限： 无资料
密度： 无资料
溶解度：
[水] 无资料
[其他溶剂]
溶于： 二氧六环
微溶于： 氯仿

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模块 10. 稳定性和反应性
化学稳定性： 一般情况下稳定。
危险反应的可能性： 热、撞击、摩擦等条件下可能爆炸分解。
与水接触分解并产生有毒气体。
避免接触的条件： 热, 火花, 明火, 冲击, 摩擦, 湿气
须避免接触的物质 氧化剂, 碱, 金属
危险的分解产物: 一氧化碳, 二氧化碳, 氮氧化物 (NOx), 硫氧化物, 氯化氢

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模块 11. 毒理学信息
急性毒性： 无资料
对皮肤腐蚀或刺激： 无资料
对眼睛严重损害或刺激： 无资料
生殖细胞变异原性： 无资料
致癌性：
IARC = 无资料
1,2-萘醌-2-二叠氮基-4-磺酰氯 修改号码：5

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模块 11. 毒理学信息
NTP = 无资料
生殖毒性： 无资料

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模块 12. 生态学信息
生态毒性：
鱼类： 无资料
甲壳类： 无资料
藻类： 无资料
残留性 / 降解性： 无资料
潜在生物累积 （BCF): 无资料
土壤中移动性
log水分配系数： 无资料
土壤吸收系数 （Koc）： 无资料
亨利定律 无资料
constant(PaM3/mol):

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模块 13. 废弃处置
如果可能，回收处理。请咨询当地管理部门和专家。建议在可燃溶剂中溶解混合，然后在装有后燃和洗涤装置的化
学焚烧炉中慢慢焚烧。如果一次性焚烧大量物质，可能发生爆炸。废弃处置时请遵守国家、地区和当地的所有法规
。

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模块 14. 运输信息
联合国分类： 第1项 易燃固体。
UN编号： 3226
正式运输名称： 自反应固体 类型 D

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模块 15. 法规信息
《危险化学品安全管理条例》（2002年1月26日国务院发布，2011年2月16日修订）: 针对危险化学品的安全使用、
生产、储存、运输、装卸等方面均作了相应的规定。

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模块16 - 其他信息
N/A

制备方法与用途

用途

• 用于半导体、液晶显示器和PS版感光剂等
• 包括PS版感光胶和光致抗蚀剂

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  3-重氮-4-氧-3,4-二氢-1-萘磺酰氯 生成 methyl 4-[(3E)-3-diazo-4-oxonaphthalen-1-yl]sulfonyloxybenzoate
  参考文献：
  名称：

  MISTR, ADOLF;BLUCHOVA, LENKA;PICHLER, JIRI

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  4-氨基-3-羟基-1-萘磺酸 在 氯磺酸 、 copper(II) sulfate 、 sodium nitrite 作用下， 以 水 为溶剂， 反应 5.17h， 生成 3-重氮-4-氧-3,4-二氢-1-萘磺酰氯
  参考文献：
  名称：

  Sauer, E.; Polz, K.; Schopf, G., Journal fur praktische Chemie (Leipzig 1954), 1991, vol. 333, # 3, p. 467 - 473

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Pretreatment compositions
  申请人：Powell B. David

  公开号：US20060286484A1

  公开（公告）日：2006-12-21

  A pretreatment composition of: (a) at least one compound having structure VI V 1 —Y—V 2 VI wherein Y is selected from the group consisting of S, O, NR 2 , (HOCH) p , and each R 1 is independently selected from H, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an alkoxy group or a halogen, each R 2 is independently H, SH, CH 3 , C 2 H 5 , and a linear or branched C 1 -C 4 alkyl group containing a thiol group; and wherein V 1 and V 2 are independently selected from wherein, m is independently an integer from 0 to 4 with the proviso that m can =0 only when Y═ n is an integer from 1 to 5; p is an integer of from 1 to 4, and each R 1 is defined as above; (b) at least one organic solvent, and optionally, (c) at least one adhesion promoter; wherein the amount of the compound of Structure VI present in the composition is effective to inhibit residue from forming when the photosensitive composition is coated on a substrate and the coated substrate is processed to form an image thereon.

  预处理组合物包括：(a)至少一种具有结构VIV1—Y—V2VI的化合物，其中Y选自S、O、NR2、(HOCH)p和each R1，每个R1独立选自H、烷基、烯基、炔基、烷氧基或卤素，每个R2独立为H、SH、CH3、C2H5和含巯基的直链或支链C1-C4烷基；其中V1和V2独立选自，其中m独立为0到4的整数，条件是m只能为0当Y=n为1到5的整数；p为1到4的整数，每个R1如上定义；(b)至少一种有机溶剂，以及可选地(c)至少一种促进粘附的物质；其中，组合物中存在的结构VI化合物的量足以抑制光敏组合物涂布在基材上并在涂覆的基材上形成图像时形成残留物。
• Single Pot Process For The Preparation Of Diazonaphthoquinonesulfonyl Ester
  申请人：Reddy Venkat Vummadi

  公开号：US20070049742A1

  公开（公告）日：2007-03-01

  The present invention provides a single pot process for the preparation of diazonaphthoquinonesulfonyl ester, a useful organic material for micro electronic and dye industry. This study pertains to the one pot preparation of diazonaphthoquinonesulfonyl esters using the corresponding diazonaphthoquinine sulfonic acid or its sodium salt, diphosgene or triphosgene, variety of hydroxy compounds and tertiary organic base in an organic solvent medium.

  本发明提供了一种单锅法制备二氮基萘醌磺酰酯的方法，这是微电子和染料工业中有用的有机材料。本研究涉及使用相应的二氮基萘醌磺酸或其钠盐、二膦酰氯或三膦酰氯、各种羟基化合物和三级有机碱在有机溶剂介质中进行单锅制备二氮基萘醌磺酰酯的方法。
• Light-sensitive diazoketone and azide compositions and photographic
  申请人：Eastman Kodak Company

  公开号：US03984250A1

  公开（公告）日：1976-10-05

  Light-sensitive compositions including a polymer of the type that is reactable with an azide sensitizer when exposed to light and a sensitizing amount of a naphthalene sensitizer having ortho diazo and oxo substituents at the 1,2 or the 2,1 positions of the naphthalene nucleus and further having an azidosulfonyl substituent group of which the sulfonyl moiety is bonded directly to the naphthalene nucleus at the 4 or the 5-position, are advantageous in the preparation of positive-working photolithographic materials. IN the azidosulfonyl group, the azido moiety can be linked directly or indirectly to the sulfonyl moiety, such as in the compounds 2-diazo-1,2-dihydro-1-oxo-5(4'-azidophenoxysulfonyl)naphthalene and 5-azidosulfonyl-2-diazo-1,2-dihydro-1-oxonaphthalene. The light-sensitive compositions can be coated on support materials to prepare composite photographic elements having utility as photolithographic printing masters and photoresists for etching operations.

  敏感于光的组合物包括一种聚合物，当暴露在光线下并与偶氮敏化剂反应时，该聚合物可以与偶氮敏化剂反应，并且还包括足够敏化的萘敏化剂，该敏化剂在萘核的1,2或2,1位置具有ortho diazo和oxo取代基，并且在4或5位置直接与萘核结合的azidosulfonyl取代基。在azidosulfonyl基团中，偶氮基团可以直接或间接地与磺酰基团连接，例如在化合物2-偶氮基-1,2-二氢-1-氧-5（4'-偶氮苯氧基磺酰基）萘和5-偶氮基磺酰基-2-偶氮基-1,2-二氢-1-氧萘中。这些敏感于光的组合物可以涂覆在支撑材料上，制备复合摄影元素，用作光刻印刷母版和用于蚀刻操作的光阻剂。
• A positive lithographic resist composition
  申请人：International Business Machines Corporation

  公开号：EP0147596A2

  公开（公告）日：1985-07-10

  A positive lithographic resist compositions comprises a phenol resin and a sensitizer having the structure wherein n is an integer from 1 to 5, each of R and R' is and D is -CH2-CH2-,

  一种正性平版印刷抗蚀剂组合物包括苯酚树脂和敏化剂，其结构如下 n 为 1 至 5 的整数，R 和 R' 均为，D 为-CH2-CH2-、
• Sulfonic acid esters useful as sensitizers for positive resists
  申请人：International Business Machines Corporation

  公开号：EP0328824A2

  公开（公告）日：1989-08-23

  Esters of 1-oxo-2-diazo-naphthalene sulfonic acid wherein the sulfonic acid group is at either the 4 or the 5 position of a hydroxymethyl-tricyclo [5.2.1.0²ʼ⁶] decane wherein the hydroxy group is either at the 3 or 4 position and useful as sensitizers for positive resists, particularly relatively thick resists at 365 nm.

  1-oxo-2-diazo-naphthalene sulfonic acid 的酯类，其中磺酸基位于羟甲基三环 [5.2.1.0²ʼ⁶] 癸烷的 4 位或 5 位，羟基位于 3 位或 4 位，可用作正向抗蚀剂的敏化剂，特别是在 365 纳米波长下相对较厚的抗蚀剂。

表征谱图