pentacyclo[4.2.0.0(2,5).0(3,8).0(4,7)]octane-1,4-diol | 133393-43-8

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: pentacyclo[4.2.0.0(2,5).0(3,8).0(4,7)]octane-1,4-diol
• 英文别名: 1,4-cubanediol；cubane-1,4-diol
• CAS: 133393-43-8
• 化学式: C₈H₈O₂
• 分子量: 136.15
• InChiKey: JAIUWYQLAJOXPR-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -1
• 重原子数：
  10
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  6.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  40.5
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  pentacyclo[4.2.0.0(2,5).0(3,8).0(4,7)]octanol 在 甲基(三氟甲基)-1,3-二环氧丙烷 作用下， 以 丙酮 为溶剂， 生成 pentacyclo[4.2.0.0(2,5).0(3,8).0(4,7)]octane-1,4-diol
  参考文献：
  名称：

  Dioxiranes对非天然目标的氧官能化作用。6.关于古巴烷的选择性羟基化

  摘要：

  通过使用甲基（三氟甲基）二环氧乙烷（TFDO），可以在非常温和的条件下以高收率实现古巴的直接单羟基和双羟基化。二环氧乙烷O插入速率与标准参考化合物（如金刚烷和环丙烷）的插入速率的比较以及从头算的计算为这些转化的机理提供了有用的提示。

  DOI：

  10.1021/ol901302d

文献信息

• LOW DIELECTRIC CONSTANT SILICEOUS FILM MANUFACTURING COMPOSITION AND METHODS FOR PRODUCING CURED FILM AND ELECTRONIC DEVICE USING THE SAME
  申请人：Merck Patent GmbH

  公开号：EP4010441A1

  公开（公告）日：2022-06-15
• JPS62285779A
  申请人：——

  公开号：JPS62285779A

  公开（公告）日：1987-12-11
• [EN] LOW DIELECTRIC CONSTANT SILICEOUS FILM MANUFACTURING COMPOSITION AND METHODS FOR PRODUCING CURED FILM AND ELECTRONIC DEVICE USING THE SAME<br/>[FR] COMPOSITION DE FABRICATION DE FILM SILICEUX À FAIBLE CONSTANTE DIÉLECTRIQUE ET PROCÉDÉS DE PRODUCTION DE FILM DURCI ET DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE L'UTILISANT
  申请人：MERCK PATENT GMBH

  公开号：WO2021028297A1

  公开（公告）日：2021-02-18

  To provide a low dielectric constant siliceous film manufacturing composition capable of forming a low dielectric constant siliceous film with dispersed pores having excellent mechanical properties and stable electrical properties. [Means] The present invention provides a low dielectric constant siliceous film manufacturing composition comprising: a polysiloxane, a pore-generating material, a condensation catalyst generator, and a solvent.