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(R)-1-{(2R,5S,7R,8S)-2-Butyl-7-[2-(tert-butyl-dimethyl-silanyloxy)-ethyl]-8-methyl-1,6-dioxa-spiro[4.5]dec-2-yl}-prop-2-yn-1-ol | 187218-81-1

中文名称
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中文别名
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英文名称
(R)-1-{(2R,5S,7R,8S)-2-Butyl-7-[2-(tert-butyl-dimethyl-silanyloxy)-ethyl]-8-methyl-1,6-dioxa-spiro[4.5]dec-2-yl}-prop-2-yn-1-ol
英文别名
(1R)-1-[(2R,5S,8S,9R)-2-butyl-9-[2-[tert-butyl(dimethyl)silyl]oxyethyl]-8-methyl-1,10-dioxaspiro[4.5]decan-2-yl]prop-2-yn-1-ol
(R)-1-{(2R,5S,7R,8S)-2-Butyl-7-[2-(tert-butyl-dimethyl-silanyloxy)-ethyl]-8-methyl-1,6-dioxa-spiro[4.5]dec-2-yl}-prop-2-yn-1-ol化学式
CAS
187218-81-1
化学式
C24H44O4Si
mdl
——
分子量
424.696
InChiKey
YNAOORIUFADSMJ-CNSORXHKSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
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  • 制备方法与用途
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  • 反应信息
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计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    5.64
  • 重原子数:
    29
  • 可旋转键数:
    9
  • 环数:
    2.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.92
  • 拓扑面积:
    47.9
  • 氢给体数:
    1
  • 氢受体数:
    4

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    (R)-1-{(2R,5S,7R,8S)-2-Butyl-7-[2-(tert-butyl-dimethyl-silanyloxy)-ethyl]-8-methyl-1,6-dioxa-spiro[4.5]dec-2-yl}-prop-2-yn-1-ol 在 camphor-10-sulfonic acid 作用下, 以 氘代氯仿 为溶剂, 反应 24.0h, 以40%的产率得到(2R,3R,6S,8R,9S)-3-Butyl-8-[2-(tert-butyl-dimethyl-silanyloxy)-ethyl]-2-ethynyl-9-methyl-1,7-dioxa-spiro[5.5]undecan-3-ol
    参考文献:
    名称:
    表皮生长因子抑制剂(-)-reveromycin B的全合成。
    摘要:
    描述了由手性亚甲基吡喃13在25个线性步骤中表皮生长因子抑制剂reveromycin B(2)的总合成。关键步骤涉及亲二烯体13和二烯12之间的逆电子需求异Diels-Alder反应,以构建6,6-螺酮11,在被二甲基二环氧乙烷氧化和酸催化的重排后,得到5,6-螺酮醛9。乙炔化锂加入后再进行氧化/还原和保护基操作,提供了白霉素B螺环酮核心8,将其转化为白霉素A(1)衍生物6以确认螺环酮区段的立体化学。C1-C10侧链的引入始于连续的Wittig反应,以形成C8-C9和C7-C6键,锡介导的不对称羟醛反应安装了C4和C5立体中心。靶分子2的最终关键步骤涉及Stille偶联以引入C21-C22键,琥珀酰化,选择性脱保护,氧化和Wittig缩合以形成最终的C2-C3键。通过在DMF中的TBAF进行脱保护,以72%的收率得到Reveromycin B(2)。
    DOI:
    10.1021/jo001646c
  • 作为产物:
    参考文献:
    名称:
    表皮生长因子抑制剂(-)-reveromycin B的全合成。
    摘要:
    描述了由手性亚甲基吡喃13在25个线性步骤中表皮生长因子抑制剂reveromycin B(2)的总合成。关键步骤涉及亲二烯体13和二烯12之间的逆电子需求异Diels-Alder反应,以构建6,6-螺酮11,在被二甲基二环氧乙烷氧化和酸催化的重排后,得到5,6-螺酮醛9。乙炔化锂加入后再进行氧化/还原和保护基操作,提供了白霉素B螺环酮核心8,将其转化为白霉素A(1)衍生物6以确认螺环酮区段的立体化学。C1-C10侧链的引入始于连续的Wittig反应,以形成C8-C9和C7-C6键,锡介导的不对称羟醛反应安装了C4和C5立体中心。靶分子2的最终关键步骤涉及Stille偶联以引入C21-C22键,琥珀酰化,选择性脱保护,氧化和Wittig缩合以形成最终的C2-C3键。通过在DMF中的TBAF进行脱保护,以72%的收率得到Reveromycin B(2)。
    DOI:
    10.1021/jo001646c
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文献信息

  • Synthetic Studies toward the Reveromycins:  Asymmetric Synthesis of the Spiroketal Segment of Reveromycin B
    作者:Kenneth J. McRae、Mark A. Rizzacasa
    DOI:10.1021/jo962316o
    日期:1997.3.1
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