4-(甲氧基甲基)二环[2.2.1]庚-2-烯 | 89570-98-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 中文名称: 4-(甲氧基甲基)二环[2.2.1]庚-2-烯
• 英文名称: (2-norbornen-1-yl) methyl ether
• 英文别名: 1-(Methoxymethyl)bicyclo[2.2.1]hept-2-ene
• CAS: 89570-98-9
• 化学式: C₉H₁₄O
• 分子量: 138.21
• InChiKey: UXLFNMJTGIDIMV-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  162.2±9.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.007±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.9
• 重原子数：
  10
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.78
• 拓扑面积：
  9.2
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  4-(甲氧基甲基)二环[2.2.1]庚-2-烯 在 sodium hydroxide 、 硼烷四氢呋喃络合物 、 双氧水 、 pyridinium chlorochromate 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 反应 4.5h， 生成 4-(甲氧基甲基)二环[2.2.1]庚烷-2-酮
  参考文献：
  名称：

  某些1-取代的Norborn-2-enes的硼氢化和加氢氧合†

  摘要：

  在动力学控制下，1-取代的降冰片-2-烯11-13和18与亲电试剂优先在2位反应。氧化汞化中的区域选择性高于氢硼化和与氯化钯水溶液反应中的区域选择性。

  DOI：

  10.1002/hlca.19830660842
• 作为产物：
  描述：

  1-Jod-norbornen 在 叔丁基锂 、 sodium hydride 作用下， 反应 4.5h， 生成 4-(甲氧基甲基)二环[2.2.1]庚-2-烯
  参考文献：
  名称：

  某些1-取代的Norborn-2-enes的硼氢化和加氢氧合†

  摘要：

  在动力学控制下，1-取代的降冰片-2-烯11-13和18与亲电试剂优先在2位反应。氧化汞化中的区域选择性高于氢硼化和与氯化钯水溶液反应中的区域选择性。

  DOI：

  10.1002/hlca.19830660842

文献信息

• POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US20150064626A1

  公开（公告）日：2015-03-05

  A positive resist composition is provided comprising a polymer comprising recurring units having a carboxyl and/or phenolic hydroxyl group substituted with an acid labile group and recurring units of tert-butyl or tert-amyl-substituted hydroxyphenyl methacrylate and having a weight average molecular weight of 1,000-500,000. The resist composition has a satisfactory effect of suppressing acid diffusion and a high resolution, and forms a pattern of good profile and minimal edge roughness after exposure.
• US9335632B2
  申请人：——

  公开号：US9335632B2

  公开（公告）日：2016-05-10
• US9846360B2
  申请人：——

  公开号：US9846360B2

  公开（公告）日：2017-12-19
• [EN] HIGH ETCH RESISTANT UNDERLAYER COMPOSITIONS FOR MULTILAYER LITHOGRAPHIC PROCESSES<br/>[FR] COMPOSITIONS POUR SOUS-COUCHES EXTRÊMEMENT RÉSISTANTES À LA CORROSION POUR PROCÉDÉS LITHOGRAPHIQUES MULTICOUCHES
  申请人：FUJIFILM ELECTRONIC MATERIALS

  公开号：WO2008140846A1

  公开（公告）日：2008-11-20

  [EN] An etch resistant thermally curable Underlayer for use in a multiplayer liyhographic process to produce a photolithographic bilayer coated substrate, the composition having: (a) at least one cycloolefin polymer comprising at least one repeating unit of Structure (I), and at least one repeating unit of Structure (II), and optionally at least one repeating unit of Structure (III) with the proviso that neither Structure (I) nor Structure (II) nor Structure (III) contains acid sensitive groups. b) at least one cross-linking agent selected from the group consisting of an amino or phenolic cross-linking agent; c) a least one thermal acid generator (TAG); d) at lest one solvent; and e) optionally, at least one surfactant.
  [FR] Cette invention a trait à une sous-couche vulcanisable par voie thermique résistante à la corrosion à utiliser dans un procédé lithographique multicouche pour produire un substrat recouvert d'une double couche photolithographique, ladite composition comportant : (a) au moins un polymère cyclooléfinique comportant au moins une unité répétée de structure (I), et au moins une unité répétée de structure (II), et éventuellement au moins une unité répétée de structure (III), à condition que ni la structure (I), ni la structure (II), ni la structure (III) ne contient de groupes sensibles à l'acide ; b) au moins un agent de réticulation choisi parmi le groupe constitué par un agent de réticulation amino ou phénolique ; c) au moins un générateur d'acide thermique ; d) au moins un solvant ; et e) éventuellement au moins un tensioactif.
• Hydroboration and Oxymercuration of Some 1-Substituted Norborn-2-enes
  作者：Wolfgang Luef、Ulrich-Christian Vögeli、Reinhart Keese

  DOI：10.1002/hlca.19830660842

  日期：1983.12.14

  The 1-substituted norborn-2-enes 11–13 and 18 react with electrophiles under kinetic control preferentially in 2-position. The regioselectivity in oxymercuration is higher than in hydroboration and reaction with aqueous palladium chloride.

  在动力学控制下，1-取代的降冰片-2-烯11-13和18与亲电试剂优先在2位反应。氧化汞化中的区域选择性高于氢硼化和与氯化钯水溶液反应中的区域选择性。