1,1,1-Trifluor-2-trifluormethyl-2-pentanol | 10315-75-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: 1,1,1-Trifluor-2-trifluormethyl-2-pentanol
• 英文别名: 1,1,1-Trifluor-2-trifluormethyl-pentan-2-ol；1,1,1-trifluoro-2-(trifluoromethyl)pentan-2-ol；Pr(CF3)2COH
• CAS: 10315-75-0
• 化学式: C₆H₈F₆O
• 分子量: 210.119
• InChiKey: MMNYCAKHZCJYDH-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  145.4±35.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.330±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.9
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  20.2
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  7

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  三乙烯二胺 、 1,1,1-Trifluor-2-trifluormethyl-2-pentanol 反应 48.0h， 生成 Pr(CF3)2COH-DABCO
  参考文献：
  名称：

  多氟醇的结构对布朗斯台德酸度/氢键给体能力的影响及对启动子效应的影响

  摘要：

  研究了取代基对衍生自2,2,2-三氟乙醇（TFE）和1,1,1,3,3,3-六氟-2-丙醇（HFIP）的三氟和六氟醇性能的影响。特定溶剂-溶质相互作用的测量结果表明，氟化醇的H键捐赠（HBD）对OH基团的空间位阻敏感，而它们的布朗斯台德酸度仅取决于氟原子的数量。对于六氟醇（HFA），它们与以X射线衍射为特征的胺缔合表明，HBD和酸度之间的平衡受其结构影响。此外，HFA沿氢键（sc），沿上平面（sp）以及沿反平面（ap）构型提供氢键的能力也得到了体现。报道了在三个反应中氟化醇作为促进溶剂的作用的比较。速率常数与硫化物氧化和亚氨基Diels-Alder反应的H键供体能力之间的正相关关系揭示了该性质的作用，而酸度可能影响较小。在第三反应中，哌啶使环氧化物开环，在此阶段不能清楚地提出这些性质。

  DOI：

  10.1021/jo1023816
• 作为产物：
  描述：

  2-烯丙六氟异丙醇 在 palladium on carbon 、 氢气 作用下， 20.0 ℃ 、101.33 kPa 条件下， 反应 18.0h， 以90%的产率得到1,1,1-Trifluor-2-trifluormethyl-2-pentanol
  参考文献：
  名称：

  多氟醇的结构对布朗斯台德酸度/氢键给体能力的影响及对启动子效应的影响

  摘要：

  研究了取代基对衍生自2,2,2-三氟乙醇（TFE）和1,1,1,3,3,3-六氟-2-丙醇（HFIP）的三氟和六氟醇性能的影响。特定溶剂-溶质相互作用的测量结果表明，氟化醇的H键捐赠（HBD）对OH基团的空间位阻敏感，而它们的布朗斯台德酸度仅取决于氟原子的数量。对于六氟醇（HFA），它们与以X射线衍射为特征的胺缔合表明，HBD和酸度之间的平衡受其结构影响。此外，HFA沿氢键（sc），沿上平面（sp）以及沿反平面（ap）构型提供氢键的能力也得到了体现。报道了在三个反应中氟化醇作为促进溶剂的作用的比较。速率常数与硫化物氧化和亚氨基Diels-Alder反应的H键供体能力之间的正相关关系揭示了该性质的作用，而酸度可能影响较小。在第三反应中，哌啶使环氧化物开环，在此阶段不能清楚地提出这些性质。

  DOI：

  10.1021/jo1023816

文献信息

• [EN] AMINOPYRROLOTRIAZINES AS KINASE INHIBITORS<br/>[FR] AMINOPYRROLOTRIAZINES EN TANT QU'INHIBITEURS DE KINASE
  申请人：BRISTOL MYERS SQUIBB CO

  公开号：WO2019147782A1

  公开（公告）日：2019-08-01

  The disclosure relates to compounds of formula I which are useful as kinase modulators including RIPK1 modulation. The disclosure also provides methods of making and using the compounds for example in treatments related to necrosis or inflammation as well as other indications.

  该公开涉及到公式I的化合物，这些化合物可用作激酶调节剂，包括RIPK1调节。该公开还提供了制备和使用这些化合物的方法，例如在涉及坏死或炎症以及其他适应症的治疗中使用。
• Pyridine and Pyrazine derivative for the Treatment of CF
  申请人：BAETTIG Urs

  公开号：US20110230483A1

  公开（公告）日：2011-09-22

  The present invention provides pyridine and pyrazine derivatives which restore or enhance the function of mutant and/or wild type CFTR to treat cystic fibrosis, primary ciliary dyskinesia, chronic bronchitis, chronic obstructive pulmonary disease, asthma, respiratory tract infections, lung carcinoma, xerostomia and keratoconjunctivitis sire, or constipation (IBS, IBD, opioid induced). Pharmaceutical compositions comprising such derivatives are also encompassed.

  本发明提供吡啶和吡嗪衍生物，可恢复或增强突变型和/或野生型CFTR的功能，用于治疗囊性纤维化、原发性纤毛运动障碍、慢性支气管炎、慢性阻塞性肺疾病、哮喘、呼吸道感染、肺癌、口干症和角膜结膜炎，或便秘（肠易激综合征、炎症性肠病、阿片类药物诱导）。还包括含有这些衍生物的药物组合物。
• Fluorine-Containing Sulfonic Acid Salt, Fluorine-Containing Sulfonic Acid Salt Resin, Resist Composition, and Pattern Forming Method Using Same
  申请人：Central Glass Company, Limited

  公开号：US20150198879A1

  公开（公告）日：2015-07-16

  Disclosed is a fluorine-containing sulfonic acid salt resin having a repeating unit represented by the following general formula (3). In the formula, each A independently represents a hydrogen atom, a fluorine atom or a trifluoromethyl group, and n represents an integer of 1-10. W represents a bivalent linking group, R 01 represents a hydrogen atom or a monovalent organic group, and M + represents a monovalent cation. A resist composition containing this resin is further superior in sensitivity, resolution and reproducibility of mask pattern and is capable of forming a pattern with a low LER.

  本公开了一种含氟磺酸盐树脂，其具有以下通用式（3）所代表的重复单元。在该式中，每个A独立地表示氢原子、氟原子或三氟甲基基团，n表示1-10的整数。W表示二价连接基团，R01表示氢原子或一价有机基团，M+表示一价阳离子。含有该树脂的抗蚀组合物在感光性、分辨率和掩膜图案的重现性方面更加优越，并且能够形成具有较低LER的图案。
• Partially fluorinated alkanols having a tertiary structure
  申请人：Allied-Signal Inc.

  公开号：US05254755A1

  公开（公告）日：1993-10-19

  Novel partially fluorinated alkanes having the Formula: ##STR1## wherein each R is the same or different and is selected from the group consisting of CF.sub.3, CHF.sub.2, CH.sub.2 F, and CH.sub.3 CF.sub.2, and R' is an alkyl or fluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms have utility as solvents in a variety of industrial cleaning applications including cold cleaning, dry cleaning, and defluxing of printed circuit boards.

  具有以下式子的部分氟化烷类小说：##STR1## 其中每个R相同或不同，且选自CF.sub.3，CHF.sub.2，CH.sub.2 F和CH.sub.3 CF.sub.2的群组，而R'是具有1到6个碳原子的烷基或氟烷基。它们在各种工业清洗应用中具有溶剂的实用性，包括冷清洗、干洗和印刷电路板的去焊剂。
• PATTERNABLE LOW DIELECTRIC CONSTANT MATERIALS AND THEIR USE IN ULSI INTERCONNECTION
  申请人：Lin Qinghuang

  公开号：US20080063880A1

  公开（公告）日：2008-03-13

  The present invention relates to ultra-large scale integrated (ULSI) interconnect structures, and more particularly to patternable low dielectric constant (low-k) materials suitable for use in ULSI interconnect structures. The patternable low-k dielectrics disclosed herein are functionalized polymers that having one or more acid-sensitive imageable functional groups.

  本发明涉及超大规模集成（ULSI）互连结构，更具体地涉及适用于ULSI互连结构的可图案化低介电常数（低-k）材料。本发明所披露的可图案化低-k介电材料是具有一种或多种酸敏感可成像功能基团的功能化聚合物。