5-[(1,1,2,4,4,5,5,5-octafluoro-3-oxapentoxy)methyl]-bicyclo[2.2.1]hept-2-ene | 946075-15-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: 5-[(1,1,2,4,4,5,5,5-octafluoro-3-oxapentoxy)methyl]-bicyclo[2.2.1]hept-2-ene
• 英文别名: 5-[[1,1,2-Trifluoro-2-(1,1,2,2,2-pentafluoroethoxy)ethoxy]methyl]bicyclo[2.2.1]hept-2-ene；5-[[1,1,2-trifluoro-2-(1,1,2,2,2-pentafluoroethoxy)ethoxy]methyl]bicyclo[2.2.1]hept-2-ene
• CAS: 946075-15-6
• 化学式: C₁₂H₁₂F₈O₂
• 分子量: 340.213
• InChiKey: BBMITIRDMXEVDO-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.8
• 重原子数：
  22
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.83
• 拓扑面积：
  18.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  10

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  aqueous potassium hydroxide 、 全氟乙基乙烯基醚 、 5-降冰片烯-2-甲醇 生成 5-[(1,1,2,4,4,5,5,5-octafluoro-3-oxapentoxy)methyl]-bicyclo[2.2.1]hept-2-ene
  参考文献：
  名称：

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Norbornenylmethyl fluoroalkyl ethers
  申请人：Kipp Edward Brian

  公开号：US20070191560A1

  公开（公告）日：2007-08-16

  New monomers, norbornenylmethyl fluoroalkyl ethers, made by reaction of bicyclo(2,2,1)hept-5-ene-2-methanol with fluoro(alkyl vinyl ethers), are described. These monomers are useful in making polymers such as hydrophobic, hydrolytically-resistant polymers for photoresists, particularly for use in photoimaging by immersion lithography with 193 nm light.

  描述了通过将双环(2,2,1)庚-5-烯-2-甲醇与氟(烷基乙烯醚)反应制备的新单体，即新的莫诺烯基甲基氟烷基醚。这些单体在制备聚合物方面非常有用，例如用于光阻剂的疏水、耐水解性聚合物，特别适用于使用193纳米光进行浸没光刻的光刻影像技术。
• NORBORNENYLMETHYL FLUOROALKYL ETHERS
  申请人：E.I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY

  公开号：EP1984316A1

  公开（公告）日：2008-10-29
• [EN] NORBORNENYLMETHYL FLUOROALKYL ETHERS<br/>[FR] ETHERS DE NORBORNENYLMETHYL FLUOROALKYLE
  申请人：DU PONT

  公开号：WO2007095361A1

  公开（公告）日：2007-08-23

  [EN] New monomers, norbornenylmethyl fluoroalkyl ethers, made by reaction of bicyclo(2,2,1)hept-5-ene-2-methanol with fluoro(alkyl vinyl ethers), are described. These monomers are useful in making polymers such as hydrophobic, hydrolytically-resistant polymers for photoresists, particularly for use in photoimaging by immersion lithography with 193 nm light.
  [FR] L'invention concerne de nouveaux monomères, les éthers de norbornenylméthyl fluoroalkyle, obtenus par réaction de bicyclo(2,2,1)hept-5-ène-2-méthanol avec des éthers de fluoroalkylvinyle. Ces monomères sont utiles pour la fabrication de polymères tels des polymères hydrophobes résistants à l'électrolyse pour photorésines, en particulier pour une utilisation en photoimagerie par lithographie en immersion avec une lumière de 193 nm.