1,4-dimethoxycubane | 118438-10-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: 1,4-dimethoxycubane
• 英文别名: 1,4-Dimethoxycubane
• CAS: 118438-10-1
• 化学式: C₁₀H₁₂O₂
• 分子量: 164.204
• InChiKey: BHILAYTWKQOKGJ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.1
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  6.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  18.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  1,4-立方烷二羧酸 在 次氯酸叔丁酯 、 mercury(II) iodide 作用下， 以 1,1,2-三氯三氟乙烷（CFC-113） 为溶剂， 反应 12.0h， 生成 1,4-dimethoxycubane
  参考文献：
  名称：

  Photolysis of cubyl iodides: access to the cubyl cation

  摘要：

  DOI：

  10.1021/jo00264a044

文献信息

• LOW DIELECTRIC CONSTANT SILICEOUS FILM MANUFACTURING COMPOSITION AND METHODS FOR PRODUCING CURED FILM AND ELECTRONIC DEVICE USING THE SAME
  申请人：Merck Patent GmbH

  公开号：EP4010441A1

  公开（公告）日：2022-06-15
• [EN] LOW DIELECTRIC CONSTANT SILICEOUS FILM MANUFACTURING COMPOSITION AND METHODS FOR PRODUCING CURED FILM AND ELECTRONIC DEVICE USING THE SAME<br/>[FR] COMPOSITION DE FABRICATION DE FILM SILICEUX À FAIBLE CONSTANTE DIÉLECTRIQUE ET PROCÉDÉS DE PRODUCTION DE FILM DURCI ET DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE L'UTILISANT
  申请人：MERCK PATENT GMBH

  公开号：WO2021028297A1

  公开（公告）日：2021-02-18

  To provide a low dielectric constant siliceous film manufacturing composition capable of forming a low dielectric constant siliceous film with dispersed pores having excellent mechanical properties and stable electrical properties. [Means] The present invention provides a low dielectric constant siliceous film manufacturing composition comprising: a polysiloxane, a pore-generating material, a condensation catalyst generator, and a solvent.
• Photolysis of cubyl iodides: access to the cubyl cation
  作者：D. Sivakumar Reddy、Gilbert P. Sollott、Philip E. Eaton

  DOI：10.1021/jo00264a044

  日期：1989.2