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1,4-bis-chloromethoxy-cyclohexane | 827033-30-7

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
1,4-bis-chloromethoxy-cyclohexane
英文别名
1,4-Bis-chlormethoxy-cyclohexan;Chinit-bis-chlormethyl-aether;1,4-Bis(chloromethoxy)cyclohexane
1,4-bis-chloromethoxy-cyclohexane化学式
CAS
827033-30-7
化学式
C8H14Cl2O2
mdl
——
分子量
213.104
InChiKey
ZUSIXQJWIFWRGY-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    2.6
  • 重原子数:
    12
  • 可旋转键数:
    4
  • 环数:
    1.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    1.0
  • 拓扑面积:
    18.5
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    2

上下游信息

  • 下游产品
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

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文献信息

  • COMPOUND, DISSOLUTION INHIBITOR, POSITIVE TYPE RESIST COMPOSITION, AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN
    申请人:Shiono Daiju
    公开号:US20090081580A1
    公开(公告)日:2009-03-26
    A positive type resist composition for forming a high resolution resist pattern and a method of forming a resist pattern are provided which use a low-molecular-weight material as a base component, and a compound and a dissolution inhibitor that are each suitable for the positive type resist composition. Here, the compound is a non-polymer having a molecular weight of 500 to 3000, and is decomposed under the action of an acid to produce two or more molecules of a decomposition product having a molecular weight of 200 or more; the dissolution inhibitor comprises the compound; the positive type resist composition comprises the compound and the acid generator component; and the method of forming a resist pattern uses the positive type resist composition.
  • US7943284B2
    申请人:——
    公开号:US7943284B2
    公开(公告)日:2011-05-17
  • US8304163B2
    申请人:——
    公开号:US8304163B2
    公开(公告)日:2012-11-06
  • Palfray; Sabetay, Bulletin de la Societe Chimique de France, 1928, vol. <4> 43, p. 900
    作者:Palfray、Sabetay
    DOI:——
    日期:——
  • Palfray; Sabetay, Bulletin de la Societe Chimique de France, 1928, vol. <4> 43, p. 901
    作者:Palfray、Sabetay
    DOI:——
    日期:——
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