4-氨基-3,5-二丙基-4H-1,2,4-三嗪 | 46054-70-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 唑类
• 中文名称: 4-氨基-3,5-二丙基-4H-1,2,4-三嗪
• 英文名称: 4-Amino-3,5-di-n-propyl-1,2,4-triazol
• 英文别名: 3,5-di(n-propyl)-4-amino-1,2,4-triazole；3,5-dipropyl-[1,2,4]triazol-4-ylamine；3,5-dipropyl4H-1,2,4-triazol4-amine；3,5-Dipropyl-1,2,4-triazol-4-ylamine；3,5-dipropyl-1,2,4-triazol-4-amine
• CAS: 46054-70-0
• 化学式: C₈H₁₆N₄
• mdl: MFCD00744864
• 分子量: 168.242
• InChiKey: QQHNFZBYCQMAOD-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  179 °C
• 密度：
  1.13±0.1 g/cm3(Predicted)
• 稳定性/保质期：
  常规情况下不会分解，没有危险反应。

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.6
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.75
• 拓扑面积：
  56.7
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  3

安全信息

• 海关编码：
  2933990090

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  4-氨基-3,5-二丙基-4H-1,2,4-三嗪 在 盐酸 、 2,4-二硝基苯基羟胺 作用下， 以 N,N-二甲基甲酰胺 为溶剂， 反应 48.0h， 生成 (3,5-Dipropyl-[1,2,4]triazol-1-yl)-[1-phenyl-meth-(E)-ylidene]-amine
  参考文献：
  名称：

  Synthesis of 1-Amino-1H-1,2,4-triazoles

  摘要：

  描述了一种从3,5-二烷基-4-氨基-4H-1,2,4-三嗪合成3,5-二烷基-1-氨基-1H-1,2,4-三嗪的一般过程，使用3,5-二烷基-1,4-二氨基-1,2,4-三嗪盐作为中间体。通过这种方法无法获得母体化合物1-氨基-1H-1,2,4-三嗪，但可以通过对1,2,4-三嗪离子进行电亲核单氨化反应来制备。

  DOI：

  10.1055/s-1989-27219
• 作为产物：
  描述：

  丁酰肼 生成 4-氨基-3,5-二丙基-4H-1,2,4-三嗪
  参考文献：
  名称：

  Stolle; Zinsser, Journal fur praktische Chemie (Leipzig 1954), 1904, vol. <2> 69, p. 491

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Influence of substituents on the structures of hybrid complexes constructed from tetranuclear copper(I) 1,2,4-triazolate clusters and octamolybdates
  作者：Quanguo Zhai、Canzhong Lu、Quanzheng Zhang、Xiaoyuan Wu、Xinjiang Xu、Shumei Chen、Lijuan Chen

  DOI：10.1016/j.ica.2006.04.039

  日期：2006.9

  and x = 4 for 5 ; L = 3,5-di( n -propyl)-4-amino-1,2,4-triazole (dpatrz) and x = 3 for 6 ), were obtained. The tetranuclear Cu(I) cluster in compound 1 acts as charge-compensating unit, which is the first polynuclear metal 1,2,4-triazole structure only with N1, N2 bridging mode. Compounds 2 , 4 , 5 and 6 are of polymeric 1D chains and 3 is of a 2D layer structure. In 2 , three distinct Cu(I)-coordination

  通过改变1,2,4-三唑环上的取代基，可以由四核1,2,4-三偶氮铜（I），八钼酸盐，[Cu 4（L）x} Mo 8 O 26]（L = 3,5-二氨基-1,2,4-三唑（datrz），x = 4表示1； L = 3-氨基-1,2,4-三唑（3atrz），x = 4表示2; L = 3,5-二甲基-1,2,4-三唑（dmtrz）和x = 4（3）; L = 3,5-二甲基-4-氨基-1,2,4-三唑（dmatrz）和x = 4代表6; L = 3,5-二乙基-4-氨基-1,2,4-三唑（deatrz）和x = 4代表5; L = 3,5-二（正丙基）-4-获得了氨基1，2，4-三唑（dpatrz），对于6，x = 3。化合物1中的四核Cu（I）团簇用作电荷补偿单元，这是仅具有N1，N2桥接模式的第一个多核金属1,2,4-三唑结构。化合物2、4、5和6具有聚合的1D链，而化合物3具有2D层
• Method for reducing a susceptibility to tumor formation induced by 3-deoxyglucosone and precursors thereof
  申请人：Brown R. Truman

  公开号：US20060089316A1

  公开（公告）日：2006-04-27

  Disclosed are methods of using various compounds, which are known to bind to 3-deoxyglucosone (3DG) or precursors thereof, in order to reduce a susceptibility to tumor formation and/or to prevent or delay onset of tumor formation induced by 3DG and its precursors. Also disclosed is the reduction of 3DG levels in high fructose corn syrop so that the high fructose corn syrup is less likely to induce tumor formation.

  公开了使用各种已知与3-脱氧葡萄糖酮（3DG）或其前体结合的化合物的方法，以减少对肿瘤形成的易感性和/或预防或延迟由3DG及其前体诱导的肿瘤形成。还公开了降低高果糖玉米糖浆中3DG水平的方法，以使高果糖玉米糖浆不太可能诱导肿瘤形成。
• Polishing composition and polishing method using the same
  申请人：FUJIMI INCORPORATED

  公开号：EP2348080A1

  公开（公告）日：2011-07-27

  A polishing composition of the present invention contains an oxidant, an anticorrosive, and a surfactant comprising a compound represented by Chemical Formula 1: One to three of R1 to R5 in Chemical Formula 1 are alkyl groups, alkynyl groups, alkenyl groups, aryl groups, or arylalkylene groups, one is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 9 carbon atoms, and the remainder are hydrogen atoms. OR6 is oxyethylene, oxypropylene, or a random or block conjugate of oxyethylene and oxypropylene. n is an integer of 1 or more. X is an OSO3- group, an OPO32- group, or an OH group.

  本发明的抛光组合物含有氧化剂、防腐剂和表面活性剂，其中表面活性剂由化学式 1 所代表的化合物组成： 化学式 1 中 R1 至 R5 的一至三个是烷基、炔基、烯基、芳基或芳基亚烷基，一个是氢原子或具有 1 至 9 个碳原子的烷基，其余是氢原子。OR6 是氧乙烯、氧丙烯或氧乙烯和氧丙烯的无规或嵌段共轭物。X 是 OSO3- 基团、OPO32- 基团或 OH 基团。
• Polishing composition and polishing method
  申请人：FUJIMI INCORPORATED

  公开号：EP2374852A1

  公开（公告）日：2011-10-12

  A polishing composition contains a polishing accelerator, a water-soluble polymer including a constitutional unit originating from a polymerizable compound having a guanidine structure such as dicyandiamide, and an oxidant. The water-soluble polymer may be a water-soluble polymer including a constitutional unit originating from dicyandiamide and a constitutional unit originating from formaldehyde, a diamine or a polyamine.

  一种抛光组合物含有一种抛光促进剂、一种水溶性聚合物（包括源自具有胍结构（如双氰胺）的可聚合化合物的构型单元）和一种氧化剂。水溶性聚合物可以是一种水溶性聚合物，包括源自双氰胺的构型单元和源自甲醛、二胺或多胺的构型单元。
• POLISHING COMPOSITION AND POLISHING METHOD
  申请人：Fujimi Incorporated

  公开号：EP2605270A1

  公开（公告）日：2013-06-19

  A polishing composition contains a water-soluble polymer, a polishing accelerator, and an oxidizing agent. The water-soluble polymer is a polyamide-polyamine polymer having an amine value of 150 mg KOH/1 g·solid or greater.

  一种抛光组合物含有一种水溶性聚合物、一种抛光促进剂和一种氧化剂。水溶性聚合物是一种聚酰胺-聚胺聚合物，其胺值为 150 毫克 KOH/1 克固体或更高。