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2,5-bis-(2-hydroxy-ethoxy)-2,5-dimethyl-hex-3-yne | 25597-35-7

中文名称
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中文别名
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英文名称
2,5-bis-(2-hydroxy-ethoxy)-2,5-dimethyl-hex-3-yne
英文别名
2,5-Bis-(2-hydroxy-aethoxy)-2,5-dimethyl-hex-3-in;2-[5-(2-Hydroxyethoxy)-2,5-dimethylhex-3-yn-2-yl]oxyethanol
2,5-bis-(2-hydroxy-ethoxy)-2,5-dimethyl-hex-3-yne化学式
CAS
25597-35-7
化学式
C12H22O4
mdl
——
分子量
230.304
InChiKey
ZGHJPJFFXATTLQ-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
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  • 表征谱图
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计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    -0.2
  • 重原子数:
    16
  • 可旋转键数:
    8
  • 环数:
    0.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.83
  • 拓扑面积:
    58.9
  • 氢给体数:
    2
  • 氢受体数:
    4

反应信息

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文献信息

  • Lagutschewa; Petrow, Sb. Statei Obshch. Khim., 1953, p. 1347,1350
    作者:Lagutschewa、Petrow
    DOI:——
    日期:——
  • Mono-adducts of ethylene oxide and acetylenic glycols
    申请人:AIR REDUCTION
    公开号:US02863926A1
    公开(公告)日:1958-12-09
  • COMPOSITIONS AND PROCESSES FOR PHOTOLITHOGRAPHY
    申请人:Wang Deyan
    公开号:US20130017487A1
    公开(公告)日:2013-01-17
    Topcoat layer compositions are provided that are applied above a photoresist composition. The compositions find particular applicability to immersion lithography processing.
  • Petrow; Lagutschewa, Zhurnal Prikladnoi Khimii, 1955, vol. 28, p. 111,113;engl.Ausg.S.103
    作者:Petrow、Lagutschewa
    DOI:——
    日期:——
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