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1,3,5-trisilacyclohexane | 291-27-0

中文名称
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中文别名
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英文名称
1,3,5-trisilacyclohexane
英文别名
1,3,5-Trisilacyclohexan;1,3,5-Trisilinane
1,3,5-trisilacyclohexane化学式
CAS
291-27-0
化学式
C3H12Si3
mdl
——
分子量
132.385
InChiKey
LISDBLOKKWTHNH-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
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物化性质

  • 熔点:
    -10°C
  • 沸点:
    135°C
  • 密度:
    0.9001 g/cm3

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    -1.37
  • 重原子数:
    6
  • 可旋转键数:
    0
  • 环数:
    1.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    1.0
  • 拓扑面积:
    0
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    0

SDS

SDS:70427d3c98fd7906b94fd52ea62693fd
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反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    1,3,5-trisilacyclohexane 作用下, 以 正戊烷 为溶剂, 生成 1-bromo-1,3,5-trisilacyclohexane
    参考文献:
    名称:
    单取代-1,3,5-三硅杂环己烷的构象行为和结构:1-N,N-二甲氨基-1,3,5-三硅杂环己烷
    摘要:
    摘要 合成了1-二甲氨基-1,3,5-三硅杂环己烷,并通过气体电子衍射(GED)和量子化学(QC)计算确定了其结构和构象性质。分子可以以取代基位置不同的 3 或 4 种形式存在。QC 结果表明,赤道构象异构体比轴向形式更稳定,比率为 Eq:Ax=(75–58):(25–42)%(取决于方法和基组)。根据 GED 数据,发现构象异构体的摩尔分数在 272(3) K 时为 g-Eq:tr-E​​q:tr-Ax=40(4):31(8):29(9)%。在液相,根据红外测量,分子也可能以赤道和轴向形式存在。
    DOI:
    10.1016/j.molstruc.2020.129046
  • 作为产物:
    描述:
    参考文献:
    名称:
    Petrow; Ponomarenko, Doklady Akademii Nauk SSSR, 1953, vol. 90, p. 387,389
    摘要:
    DOI:
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文献信息

  • Improved synthesis and crystal structure of the parent 1,3,5-trisilacyclohexane
    作者:Eugen Weisheim、Hans-Georg Stammler、Norbert W. Mitzel
    DOI:10.1515/znb-2015-0147
    日期:2016.1.1
    Abstract

    The crystal structure and an improved synthesis of 1,3,5-trisilacyclohexane are reported. The solid state structure is compared with the reported structure determined in the gas phase by gas electron diffraction (GED). 1,3,5-Trisilacyclohexane adopts a chair conformation in the solid state. The Si–C bond lengths as well as all angles of 1,3,5-trisilacyclohexane in the solid state have similar dimensions compared to the structure in the gaseous phase.

    摘要:报道了1,3,5-三硅杂环己烷的晶体结构和改进的合成方法。将固态结构与气相电子衍射(GED)确定的报告结构进行比较。1,3,5-三硅杂环己烷在固态下采用椅式构象。与气态相比,1,3,5-三硅杂环己烷在固态下的Si-C键长以及所有角度具有相似的尺寸。
  • 製造方法、SiC系膜形成材料、及びSiC系膜
    申请人:株式会社トリケミカル研究所
    公开号:JP2017061434A
    公开(公告)日:2017-03-30
    【課題】SiC膜形成材料として有用なトリシラシクロヘキサンの高収率製法の提供。【解決手段】下式で示されるアルコキシトリシラシクロヘキサン誘導体をLiAlH4等の還元剤で還元する下式で示される1,3,5−トリシラシクロヘキサンの製造方法。【選択図】なし
    【问题】提供一种高收率制备三环己基三甲氧基硅烷膜形成材料的方法。 【解决方案】制备方法如下:用还原剂如LiAlH4还原以下式所示的烷氧基三环己基硅烷衍生物,制备1,3,5-三环己基三甲氧基硅烷。 【无选择图】
  • Gmelin Handbuch der Anorganischen Chemie, Gmelin Handbook: Si: MVol.C, 36, page 111 - 115
    作者:
    DOI:——
    日期:——
  • Petrov, A. D.; Ponomarenko, V. A., Doklady Akademii Nauk SSSR, 1953, vol. 90, p. 387 - 390
    作者:Petrov, A. D.、Ponomarenko, V. A.
    DOI:——
    日期:——
  • Fritz, G.; Hohenberger, K., Zeitschrift fur Anorganische und Allgemeine Chemie
    作者:Fritz, G.、Hohenberger, K.
    DOI:——
    日期:——
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