N-(1-adamantylcarbonyl)imidazole | 326488-61-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 唑类
• 英文名称: N-(1-adamantylcarbonyl)imidazole
• 英文别名: 1-(adamantane-1-carbonyl)imidazolide；1-Adamantyl(imidazol-1-yl)methanone
• CAS: 326488-61-3
• 化学式: C₁₄H₁₈N₂O
• 分子量: 230.31
• InChiKey: PUFWOWCNNBCWNM-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  384.3±25.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.42±0.1 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.2
• 重原子数：
  17
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  5.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.71
• 拓扑面积：
  34.9
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  N-(1-adamantylcarbonyl)imidazole 在 一水合肼 作用下， 反应 0.02h， 生成 金刚烷-1-甲酰肼
  参考文献：
  名称：

  Khan, Khalid Mohammed; Salar, Uzma; Fakhri, Muhammad Imran, Letters in Organic Chemistry, 2015, vol. 12, # 9, p. 637 - 644

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  1-金刚烷甲酸 、 草酰基二咪唑 以 乙腈 为溶剂， 生成 N-(1-adamantylcarbonyl)imidazole
  参考文献：
  名称：

  Kitagawa, Tokujiro; Kuroda, Hiroko; Sasaki, Hideaki, Chemical and pharmaceutical bulletin, 1987, vol. 35, # 10, p. 4294 - 4301

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Chemoselective acylation of 2-amino-8-quinolinol in the generation of C2-amides or C8-esters
  作者：Yongseok Park、Xiang Fei、Yue Yuan、Sanha Lee、Joonseong Hur、Sung Jean Park、Jae-Kyung Jung、Seung-Yong Seo

  DOI：10.1039/c7ra05287a

  日期：——

  Two different ways to carry out the chemoselective acylation of 2-amino-8-quinolinol with unique features to generate C2-amides or C8-esters were developed. The coupling reaction with a variety of carboxylic acids using EDCI and DMAP provided C8-ester derivatives, whereas N-heteroaromatic acids were not introduced on the C8-hydroxy group, but rather on the C2-amino group under the same conditions.

  开发了两种不同的方法来进行具有独特特征的2-氨基-8-喹啉醇的化学选择性酰化反应，以生成C2-酰胺或C8-酯。使用EDCI和DMAP与多种羧酸的偶联反应提供了C8-酯衍生物，而在相同条件下，N-杂芳族酸没有引入C8-羟基上，而是引入了C2-氨基上。为了选择性地获得C 2-酰胺，将来自2-氨基-8-喹啉醇的阴离子亲核试剂用反应性较小的酰基咪唑啉化物或酯处理。
• 塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
  申请人：住友化学株式会社

  公开号：JP2017057192A

  公开（公告）日：2017-03-23

  【課題】良好なＣＤ均一性でレジストパターンを製造できる塩、酸発生剤、レジスト組成物等を提供することを目的とする。【解決手段】式（Ｉ）で表される塩、これを含む酸発生剤及びレジスト組成物。［式中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、水素原子、ヒドロキシ基又は炭化水素基を表す。ｍ及びｎは、それぞれ独立に１又は２を表す。Ａｒは、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基又はヘテロ芳香族炭化水素基を表す。Ａ１はヒドロキシ基で置換されてもよい、（１＋ｓ）価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。Ｒ３は、ヒドロキシ基で置換されてもよい脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる水素原子２つがそれぞれ酸素原子に置換され、当該２つの酸素原子がアルカンジイル基と一緒になってフッ素原子を含んでもよいケタール環を形成してもよい。ｓは、１〜３の整数を表す。］【選択図】なし

  这段文字是关于专利申请的内容，描述了一种能够制造具有良好CD均一性的光刻胶模式的盐、酸发生剂、光刻胶组合物等。
• SALT, ACID GENERATOR, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：US20160168115A1

  公开（公告）日：2016-06-16

  A salt represented by formula (I): wherein R 1 and R 2 independently represent a hydrogen atom, a hydroxy group or a C 1 to C 12 hydrocarbon group in which a methylene group may be replaced by a —O— or —CO—; m and n independently represent 1 or 2; Ar represents an optionally substituted phenyl group; Q 1 and Q 2 independently represent a fluorine atom or a C 1 to C 6 perfluoroalkyl group, A 1 represents a single bond, a C 1 to C 24 alkanediyl group or the like, and Y represents an optionally substituted C 1 to C 18 alkyl group or monovalent C 3 to C 18 alicyclic hydrocarbon group, and a methylene group therein may be replaced by a —O—, O— or —SO 2 —, provided that the alkyl group or the alicyclic hydrocarbon group has at least one substituent, or at least one methylene group contained therein is replaced by a —O—, —CO— or —SO 2 —.

  一种由化学式（I）表示的盐：其中R1和R2分别表示氢原子、羟基或C1到C12的烃基，其中亚甲基可能被—O—或—CO—取代；m和n分别表示1或2；Ar表示可选取代的苯基；Q1和Q2分别表示氟原子或C1到C6的全氟烷基基团，A1表示单键，C1到C24的烷二基基团或类似物，Y表示可选取代的C1到C18的烷基基团或一价的C3到C18的脂环烃基团，其中的亚甲基团可能被—O—、O—或—SO2—取代，前提是烷基基团或脂环烃基团至少有一个取代基，或其中至少一个亚甲基团被—O—、—CO—或—SO2—取代。
• COMPOUND, RESIN AND PHOTORESIST COMPOSITION
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：US20160244400A1

  公开（公告）日：2016-08-25

  A compound represented by formula (I): wherein R 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C6 alkyl group where a hydrogen atom can be replaced by a halogen atom, L 1 represents a C1-C8 fluorinated alkanediyl group, X 1 represents *—CO—O—, *—O—CO—, *—O—CO—O— or *—O— where * represents a binding site to L 1 , and R 2 represents a C1-C18 hydrocarbon group in which a methylene group can be replaced by an oxygen atom, a carbonyl group or a sulfonyl group and in which a hydrogen atom can be replaced by a hydroxy group, or in which two hydrogen atoms can be each replaced by an oxygen atom forming one ketal structure together with a C1-C8 alkanediyl group bonded to the oxygen atom and a hydrogen atom in said ketal structure can be replaced by a fluorine atom.

  化合物的化学式（I）表示如下： 其中，R1代表氢原子、卤素原子或C1-C6烷基，其中氢原子可以被卤素原子取代，L1代表C1-C8氟代烷二基基团，X1代表*—CO—O—、*—O—CO—、*—O—CO—O—或*—O—，其中*代表与L1结合位点，R2代表C1-C18烃基团，其中亚甲基基团可以被氧原子、羰基团或磺酰基团取代，其中氢原子可以被羟基取代，或其中两个氢原子可以分别被氧原子取代，与氧原子结合形成一个与氧原子结合的C1-C8烷二基基团一起形成一个缩醛结构，所述缩醛结构中的氢原子可以被氟原子取代。
• SALT, PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING PHOTORESIST PATTERN
  申请人：MASUYAMA Tatsuro

  公开号：US20120315580A1

  公开（公告）日：2012-12-13

  A salt represented by formula (I): wherein Q 1 and Q 2 each independently represent a fluorine atom or a C1-C6 perfluoroalkyl group, A 1 represents a C1-C30 monovalent organic group, X 1 represents a C1-C10 aliphatic hydrocarbon group where a hydrogen atom may be replaced by a hydroxy group, m 1 and m 2 independently each represent an integer of 1 to 4, and Z + represents an organic cation.

  一种由化学式(I)表示的盐：其中Q1和Q2分别独立表示氟原子或C1-C6全氟烷基团，A1表示C1-C30单价有机基团，X1表示C1-C10脂肪烃基团，其中氢原子可能被羟基取代，m1和m2分别独立表示1到4的整数，Z+表示有机阳离子。