N-Boc-D-glucosamine | 75251-80-8

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: N-Boc-D-glucosamine
• 英文别名: N-Boc glucosamine；tert-Butyl ((2R,3R,4S,5R)-3,4,5,6-tetrahydroxy-1-oxohexan-2-yl)carbamate；tert-butyl N-[(2R,3R,4S,5R)-3,4,5,6-tetrahydroxy-1-oxohexan-2-yl]carbamate
• CAS: 75251-80-8
• 化学式: C₁₁H₂₁NO₇
• 分子量: 279.29
• InChiKey: UVFWQBQMEQKTIY-JQCXWYLXSA-N

物化性质

• 熔点：
  194 °C (dec.) (lit.)
• 沸点：
  550.7±50.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.321±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -2
• 重原子数：
  19
• 可旋转键数：
  8
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.82
• 拓扑面积：
  136
• 氢给体数：
  5
• 氢受体数：
  7

安全信息

• 安全说明：
  S22,S24/25
• WGK Germany：
  3
• 储存条件：
  室温

SDS

1.1 产品标识符
: N-Boc-D-氨基葡萄糖
产品名称
1.2 鉴别的其他方法
N-(tert-Butoxycarbonyl)-D-glucosamine
1.3 有关的确定了的物质或混合物的用途和建议不适合的用途
仅供科研用途，不作为药物、家庭备用药或其它用途。

---

模块 2. 危险性概述
2.1 GHS分类
根据化学品全球统一分类与标签制度(GHS)的规定，不是危险物质或混合物。
2.3 其它危害物 - 无

---

模块 3. 成分/组成信息
3.1 物 质
: N-(tert-Butoxycarbonyl)-D-glucosamine
别名
: C11H21NO7
分子式
: 279.29 g/mol
分子量
无

---

模块 4. 急救措施
4.1 必要的急救措施描述
吸入
如果吸入,请将患者移到新鲜空气处。 如果停止了呼吸,给于人工呼吸。
皮肤接触
用肥皂和大量的水冲洗。
眼睛接触
用水冲洗眼睛作为预防措施。
食入
切勿给失去知觉者从嘴里喂食任何东西。 用水漱口。
4.2 主要症状和影响，急性和迟发效应
据我们所知，此化学，物理和毒性性质尚未经完整的研究。
4.3 及时的医疗处理和所需的特殊处理的说明和指示
无数据资料

---

模块 5. 消防措施
5.1 灭火介质
灭火方法及灭火剂
用水雾,耐醇泡沫,干粉或二氧化碳灭火。
5.2 源于此物质或混合物的特别的危害
碳氧化物, 氮氧化物
5.3 给消防员的建议
如必要的话,戴自给式呼吸器去救火。
5.4 进一步信息
无数据资料

---

模块 6. 泄露应急处理
6.1 人员的预防,防护设备和紧急处理程序
防止粉尘的生成。 防止吸入蒸汽、气雾或气体。
6.2 环境保护措施
不要让产物进入下水道。
6.3 抑制和清除溢出物的方法和材料
扫掉和铲掉。 存放进适当的闭口容器中待处理。
6.4 参考其他部分
丢弃处理请参阅第13节。

---

模块 7. 操作处置与储存
7.1 安全操作的注意事项
在有粉尘生成的地方,提供合适的排风设备。一般性的防火保护措施。
7.2 安全储存的条件,包括任何不兼容性
贮存在阴凉处。 容器保持紧闭，储存在干燥通风处。
7.3 特定用途
无数据资料

---

模块 8. 接触控制和个体防护
8.1 容许浓度
最高容许浓度
没有已知的国家规定的暴露极限。
8.2 暴露控制
适当的技术控制
常规的工业卫生操作。
个体防护设备
眼/面保护
请使用经官方标准如NIOSH (美国) 或 EN 166(欧盟) 检测与批准的设备防护眼部。
皮肤保护
戴手套取 手套在使用前必须受检查。
请使用合适的方法脱除手套(不要接触手套外部表面),避免任何皮肤部位接触此产品.
使用后请将被污染过的手套根据相关法律法规和有效的实验室规章程序谨慎处理. 请清洗并吹干双手
所选择的保护手套必须符合EU的89/686/EEC规定和从它衍生出来的EN 376标准。
身体保护
根据危险物质的类型，浓度和量，以及特定的工作场所来选择人体保护措施。,
防护设备的类型必须根据特定工作场所中的危险物的浓度和含量来选择。
呼吸系统防护
不需要保护呼吸。如需防护粉尘损害，请使用N95型（US）或P1型（EN 143)防尘面具。
呼吸器使用经过测试并通过政府标准如NIOSH（US）或CEN（EU）的呼吸器和零件。

---

模块 9. 理化特性
9.1 基本的理化特性的信息
a) 外观与性状
形状: 结晶
颜色: 白色
b) 气味
无数据资料
c) 气味阈值
无数据资料
d) pH值
无数据资料
e) 熔点/凝固点
熔点/凝固点: 194 °C - 分解
f) 起始沸点和沸程
无数据资料
g) 闪点
无数据资料
h) 蒸发速率
无数据资料
i) 易燃性(固体,气体)
无数据资料
j) 高的/低的燃烧性或爆炸性限度 无数据资料
k) 蒸汽压
无数据资料
l) 蒸汽密度
无数据资料
m) 相对密度
无数据资料
n) 水溶性
无数据资料
o) n-辛醇/水分配系数
无数据资料
p) 自燃温度
无数据资料
q) 分解温度
无数据资料
r) 粘度
无数据资料

---

模块 10. 稳定性和反应活性
10.1 反应性
无数据资料
10.2 稳定性
无数据资料
10.3 危险反应的可能性
无数据资料
10.4 应避免的条件
无数据资料
10.5 不兼容的材料
强氧化剂
10.6 危险的分解产物
其它分解产物 - 无数据资料

---

模块 11. 毒理学资料
11.1 毒理学影响的信息
急性毒性
无数据资料
皮肤刺激或腐蚀
无数据资料
眼睛刺激或腐蚀
无数据资料
呼吸道或皮肤过敏
无数据资料
生殖细胞突变性
无数据资料
致癌性
IARC:
此产品中没有大于或等于 0。1%含量的组分被 IARC鉴别为可能的或肯定的人类致癌物。
生殖毒性
无数据资料
特异性靶器官系统毒性（一次接触）
无数据资料
特异性靶器官系统毒性（反复接触）
无数据资料
吸入危险
无数据资料
潜在的健康影响
吸入 吸入可能有害。 可能引起呼吸道刺激。
摄入 如服入是有害的。
皮肤 如果通过皮肤吸收可能是有害的。 可能引起皮肤刺激。
眼睛 可能引起眼睛刺激。
接触后的征兆和症状
据我们所知，此化学，物理和毒性性质尚未经完整的研究。
附加说明
化学物质毒性作用登记: 无数据资料

---

模块 12. 生态学资料
12.1 生态毒性
无数据资料
12.2 持久存留性和降解性
无数据资料
12.3 潜在的生物蓄积性
无数据资料
12.4 土壤中的迁移性
无数据资料
12.5 PBT 和 vPvB的结果评价
无数据资料
12.6 其它不利的影响
无数据资料

---

模块 13. 废弃处置
13.1 废物处理方法
产品
将剩余的和未回收的溶液交给处理公司。
受污染的容器和包装
作为未用过的产品弃置。

---

模块 14. 运输信息
14.1 联合国危险货物编号
欧洲陆运危规: - 国际海运危规: - 国际空运危规: -
14.2 联合国（UN）规定的名称
欧洲陆运危规: 非危险货物
国际海运危规: 非危险货物
国际空运危规: 非危险货物
14.3 运输危险类别
欧洲陆运危规: - 国际海运危规: - 国际空运危规: -
14.4 包裹组
欧洲陆运危规: - 国际海运危规: - 国际空运危规: -
14.5 环境危险
欧洲陆运危规: 否 国际海运危规 海运污染物: 否 国际空运危规: 否
14.6 对使用者的特别提醒
无数据资料

---

模块 15 - 法规信息
N/A

---

模块16 - 其他信息
N/A

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  N-Boc-D-glucosamine 在 碘 、 sodium cyanoborohydride 、 三氟乙酸 作用下， 以 甲醇 、 水 、 溶剂黄146 、 二甲基亚砜 为溶剂， 生成 D,L-arabino-(pentahydroxy)-hexyl-D-N-glucosamino-NAIM
  参考文献：
  名称：

  用于 D-、L-构型分析的单糖-NAIM 衍生物。

  摘要：

  常见单糖（木糖、核糖、鼠李糖、阿拉伯糖、岩藻糖、葡萄糖、甘露糖、半乳糖、N-乙酰半乳糖胺、葡萄糖醛酸和半乳糖醛酸）的 D-、L-对映体对用 2,3-萘二胺衍生形成相应的D-, L-aldo-NAIM 衍生物。通过在高 pH 值（100 mM，pH 9.0）下使用硼酸盐缓冲液同时测定这些 aldo-NAIMs 的迁移时间，建立了一种简单易行的毛细管电泳方法用于糖成分分析。该方法也适用于唾液酸（酮糖单糖）。所提出方法的定量水平在 10~500 ppm 范围内，LOD 为 1 ppm。通过在磷酸盐缓冲液（300 mM，pH 3.0）中使用修饰的硫酸化-α-环糊精作为手性选择剂，还实现了 D、L 对醛基-NAIM 的对映分离。此外，通过氨基-醛基-NAIM 试剂和单糖的 D-、L-对映体对的还原胺化的组合形成用于糖构型分析的非对映体对。因此，Aldo-NAIM 衍生物被证明是通过毛细管电泳快速有效

  DOI：

  10.3390/molecules16010652

文献信息

• CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST MATERIAL, PATTERN-FORMING METHOD, COMPOUND, AND PRODUCTION METHOD OF COMPOUND
  申请人：OSAKA UNIVERSITY

  公开号：US20170052449A1

  公开（公告）日：2017-02-23

  A pattern-forming method comprises patternwise exposing a predetermined region of a resist material film made from a photosensitive resin composition comprising a chemically amplified resist material to a first radioactive ray that is ionizing radiation or nonionizing radiation having a wavelength of no greater than 400 nm. The resist material film patternwise exposed is floodwise exposed to a second radioactive ray that is nonionizing radiation having a wavelength greater than the wavelength of the nonionizing radiation for the patternwise exposing and greater than 200 nm. The chemically amplified resist material comprises a base component, and a generative component that is capable of generating a radiation-sensitive sensitizer and an acid upon an exposure. The generative component comprises a radiation-sensitive sensitizer generating agent. The radiation-sensitive sensitizer generating agent comprises a compound represented by formula (A).

  一种图案形成方法包括将一种化学放大型光刻胶材料制成的感光树脂组成物的预定区域图案暴露于第一种放射性射线中，该放射性射线是电离辐射或波长不大于400 nm的非电离辐射。图案化暴露的光刻胶材料膜被洪水式暴露于第二种放射性射线中，该放射性射线是波长大于图案化暴露的非电离辐射的波长和大于200 nm的非电离辐射。该化学放大型光刻胶材料包括基础组分和能够在暴露时生成辐射敏感的敏化剂和酸的生成组分。生成组分包括辐射敏感的敏化剂生成剂。辐射敏感的敏化剂生成剂包括由式(A)表示的化合物。
• 3-SUBSTITUTED-1,2,3-TRIAZIN-4-ONE'S AND 3 SUBSTITUTED 1,3-PYRIMIDINONE'S FOR ENHANCING GLUTAMATERGIC SYNAPTIC RESPONSES
  申请人：Mueller Rudolf

  公开号：US20100267728A1

  公开（公告）日：2010-10-21

  This invention relates to compounds, pharmaceutical compositions and methods for use in the prevention and treatment of cerebral insufficiency, including enhancement of receptor functioning in synapses in brain networks responsible for basic and higher order behaviors. These brain networks, which are involved in regulation of breathing, and cognitive abilities related to memory impairment, such as is observed in a variety of dementias, in imbalances in neuronal activity between different brain regions, as is suggested in disorders such as Parkinson's disease, schizophrenia, respiratory depression, sleep apneas, attention deficit hyperactivity disorder and affective or mood disorders, and in disorders wherein a deficiency in neurotrophic factors is implicated, as well as in disorders of respiration such as overdose of an alcohol, an opiate, an opioid, a barbiturate, an anesthetic, or a nerve toxin, or where the respiratory depression results form a medical condition such as central sleep apnea, stroke-induced central sleep apnea, obstructive sleep apnea, congenital hypoventilation syndrome, obesity hypoventilation syndrome, sudden infant death syndrome, Rett syndrome, spinal cord injury, traumatic brain injury, Cheney-Stokes respiration, Ondines curse, Prader-Willi's syndrome and drowning. In a particular aspect, the invention relates to compounds useful for treatment of such conditions, and methods of using these compounds for such treatment.

  本发明涉及化合物、药物组合物和方法，用于预防和治疗脑血液不足，包括增强大脑网络中负责基本和高级行为的突触中受体功能。这些大脑网络参与调节呼吸和认知能力，与记忆障碍相关，如多种痴呆症观察到的那样，以及在不同大脑区域之间的神经活动失衡中，如帕金森病、精神分裂症、呼吸抑制、睡眠呼吸暂停、注意力缺陷多动障碍和情感或情绪障碍中，以及神经营养因子缺乏有关的疾病，以及呼吸方面的疾病，如酒精、鸦片、阿片、巴比妥酸盐、麻醉剂或神经毒素过量，或呼吸抑制是由中枢性睡眠呼吸暂停、中风引起的中枢性睡眠呼吸暂停、阻塞性睡眠呼吸暂停、先天性低通气综合征、肥胖性低通气综合征、婴儿猝死综合征、雷特综合征、脊髓损伤、创伤性脑损伤、切尼-斯托克斯呼吸、温迪恩氏诅咒、普拉德-威利综合征和溺水等医学情况引起的。在特定方面，本发明涉及用于治疗此类疾病的化合物以及使用这些化合物进行此类治疗的方法。
• Chemically amplified resist material, pattern-forming method, compound, and production method of compound
  申请人：OSAKA UNIVERSITY

  公开号：US10073349B2

  公开（公告）日：2018-09-11

  A pattern-forming method comprises patternwise exposing a predetermined region of a resist material film made from a photosensitive resin composition comprising a chemically amplified resist material to a first radioactive ray that is ionizing radiation or nonionizing radiation having a wavelength of no greater than 400 nm. The resist material film patternwise exposed is floodwise exposed to a second radioactive ray that is nonionizing radiation having a wavelength greater than the wavelength of the nonionizing radiation for the patternwise exposing and greater than 200 nm. The chemically amplified resist material comprises a base component, and a generative component that is capable of generating a radiation-sensitive sensitizer and an acid upon an exposure. The generative component comprises a radiation-sensitive sensitizer generating agent. The radiation-sensitive sensitizer generating agent comprises a compound represented by formula (A).

  一种图案形成方法包括将由化学放大抗蚀剂材料组成的感光树脂组合物制成的抗蚀剂材料薄膜的预定区域图案化地暴露在第一种放射性射线下，该射线是波长不大于 400 纳米的电离辐射或非电离辐射。图案化曝光的抗蚀剂材料薄膜被淹没在第二种放射性射线下，该射线为非电离辐射，其波长大于图案化曝光的非电离辐射波长，且大于 200 纳米。化学放大抗蚀剂材料包括一个碱成分和一个生成成分，后者能够在曝光时生成辐射敏感敏化剂和酸。生成成分包括辐射敏感敏化剂生成剂。辐射敏感敏化剂生成剂包括一种由式（A）表示的化合物。
• A practical approach to regioselective O-benzylation of primary positions of polyols
  作者：Maddalena Giordano、Alfonso Iadonisi

  DOI：10.1016/j.tetlet.2013.01.023

  日期：2013.3

  Exposure of saccharide polyols to a moderate excess of benzyl bromide and DIPEA at 90 degrees C results in the regioselective O-benzylation of primary positions in moderate to good yields. The reactions can be performed without inert atmosphere and provide synthetically useful yields within a few hours. (c) 2013 Elsevier Ltd. All rights reserved.
• [EN] MONOMETHYL FUMARATE-CARRIER CONJUGATES AND METHODS OF THEIR USE<br/>[FR] CONJUGUÉS DE MONOMÉTHYL FUMARATE ET D'UN PORTEUR ET LEURS MÉTHODES D'UTILISATION
  申请人：FLAGSHIP PIONEERING INNOVATIONS V INC

  公开号：WO2020118178A8

  公开（公告）日：2020-07-16