2-chloroacetoxy-2-ethyladamantane | 625122-38-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 英文名称: 2-chloroacetoxy-2-ethyladamantane
• 英文别名: (2-Ethyl-2-adamantyl) 2-chloroacetate
• CAS: 625122-38-5
• 化学式: C₁₄H₂₁ClO₂
• 分子量: 256.773
• InChiKey: GREHYNDEUCGOIW-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  324.5±15.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.16±0.1 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.8
• 重原子数：
  17
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.93
• 拓扑面积：
  26.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-chloroacetoxy-2-ethyladamantane 在 potassium carbonate 、 N,N'-羰基二咪唑 作用下， 以 N,N-二甲基甲酰胺 、 乙腈 为溶剂， 反应 11.5h， 生成
  参考文献：
  名称：

  塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

  摘要：

  这是一个专利申请的描述，目的是提供一种可以制造出具有良好线边粗糙度的感光胶图案的盐、含有该盐的酸发生剂以及含有该酸发生剂的感光胶组合物。解决方案是一种由式（I）表示的盐。【式中，Q1和Q2分别表示氟原子或全氟烷基。R1和R2分别独立地表示氢原子、氟原子或全氟烷基。z表示0到6的整数。X1表示＊−CO−O−，＊−O−CO−等。L1和L2分别表示单键或饱和碳氢基。R3表示可能带有取代基的环状碳氢基。m3表示1到4的整数。R4表示卤原子或烷基。m4表示0到3的整数。Z＋表示有机阳离子。】

  公开号：

  JP2020059708A
• 作为产物：
  描述：

  2-乙基-2-金刚烷醇 、 氯乙酰氯 在 吡啶 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 反应 24.25h， 以22.2%的产率得到2-chloroacetoxy-2-ethyladamantane
  参考文献：
  名称：

  EP1516867

  摘要：

  公开号：

文献信息

• SALT, ACID GENERATOR, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：US20210371376A1

  公开（公告）日：2021-12-02

  A salt represented by formula (I): wherein R 1 and R 2 each independently represent a hydroxy group, —O—R 10 , —O—CO—O—R 10 or —O-L 1 -CO—O—R 10 ; L 1 represents an alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms; R 4 , R 5 , R 7 and R 8 each independently represent a halogen atom, an alkyl fluoride group having 1 to 12 carbon atoms or a hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, the hydrocarbon group may have a substituent, and —CH 2 — included in the hydrocarbon group may be replaced by —O—, —CO—, —S— or —SO 2 —; R 10 represents an acid-labile group; X 1 and X 2 each independently represent an oxygen atom or a sulfur atom; m1 represents an integer of 1 to 5, m2 and m8 represent an integer of 0 to 5, m4, m5 and m7 represent an integer of 0 to 4; and AI − represents an organic anion.

  一种由化学式（I）表示的盐：其中R1和R2分别代表一个羟基，-O-R10，-O-CO-O-R10或-O-L1-CO-O-R10；L1代表具有1至6个碳原子的烷二基基团；R4、R5、R7和R8分别独立地表示卤素原子，具有1至12个碳原子的烷基氟基团或具有1至18个碳原子的碳氢基团，碳氢基团可能有取代基，并且碳氢基团中包含的-CH2-可被-O-，-CO-，-S-或-SO2-取代；R10代表一个酸敏感基团；X1和X2分别独立地表示一个氧原子或一个硫原子；m1表示1至5的整数，m2和m8表示0至5的整数，m4、m5和m7表示0至4的整数；AI-代表一个有机阴离子。
• SALT, PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING PHOTORESIST PATTERN
  申请人：YOSHIDA Isao

  公开号：US20130052588A1

  公开（公告）日：2013-02-28

  A photoresist composition containing a resin that is hardly soluble or insoluble, but which is soluble in an aqueous alkali solution by action of an acid, and a salt represented by formula (I): wherein Q 1 , Q 2 , L 1 , W 1 , W 2 , R 1 , R 2 , t1 and t2 are defined in the specification, and Z + represents an organic cation.

  一种光刻胶组合物，包含一种树脂，该树脂几乎不溶解或不溶解，但在酸的作用下可溶解于水性碱溶液中，并且包含由式(I)表示的盐：其中Q1、Q2、L1、W1、W2、R1、R2、t1和t2在规范中定义，Z+代表有机阳离子。
• 化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
  申请人：住友化学株式会社

  公开号：JP2021165254A

  公开（公告）日：2021-10-14

  【課題】良好なＣＤ均一性（ＣＤＵ）を有するレジストパターンを製造することができる化合物、樹脂及びこれを含むレジスト組成物を提供することを目的とする。【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物、樹脂及びこれを含むレジスト組成物。［式中、Ｒ１は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基等を表す。Ｌ1は単結合又はアルカンジイル基を表す。Ａ１は置換基を有してもよい脂環式炭化水素基を表す。Ｌｃは単結合又はアルカンジイル基を表す。Ｘ１、Ｘ２及びＸ３は、それぞれ独立に、＊−ＣＯ−Ｏ−等を表す。Ｌ２は置換基を有してもよい炭化水素基を表す。Ａ２はアルカンジイル基を表す。Ｒ３は、置換基を有してもよい炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる−ＣＨ2−は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ２−又は−ＣＯ−に置き換わっていてもよい。］【選択図】なし

  这是一段关于制造具有良好CD均一性（CDU）的光刻胶图案的化合物、树脂以及包含它们的光刻胶组合物的描述。【解决方案】包括由式（I）表示的化合物、树脂以及包含它们的光刻胶组合物。【式中，R1代表氢原子、卤素原子、烷基等。L1代表单键或脂基。A1代表可能带有取代基的脂环烃基。Lc代表单键或脂基。X1、X2和X3分别独立地表示*−CO−O−等。L2代表可能带有取代基的烃基。A2代表脂基。R3代表可能带有取代基的烃基，其中包含的−CH2−可以被替换为−O−、−S−、−SO2−或−CO−。】【选择图】无
• POSITIVE RESIST COMPOSITION, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN, POLYMERIC COMPOUND, AND COMPOUND
  申请人：Shiono Daiju

  公开号：US20090312573A1

  公开（公告）日：2009-12-17

  A compound represented by general formula (I) shown below; and a polymeric compound having a structural unit (a0) represented by general formula (a0-1) shown below: wherein R 1 represents a hydrogen atom, a lower alkyl group or a halogenated lower alkyl group; A represents a divalent hydrocarbon group of 2 or more carbon atoms which may have a substituent; B represents a divalent hydrocarbon group of 1 or more carbon atoms which may have a substituent; and R 2 represents an acid dissociable, dissolution inhibiting group.

  一种化合物由下面的通式（I）表示；以及具有由下面的通式（a0-1）表示的结构单元（a0）的聚合物化合物： 其中，R1表示氢原子、低碳基或卤代低碳基；A表示具有2个或更多碳原子的二价碳氢基团，可以具有取代基；B表示具有1个或更多碳原子的二价碳氢基团，可以具有取代基；R2表示酸可解离、抑制溶解的基团。
• POSITIVE RESIST COMPOSITION, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN, AND POLYMERIC COMPOUND
  申请人：Shimizu Hiroaki

  公开号：US20090214982A1

  公开（公告）日：2009-08-27

  There is provided a positive resist composition, including a base component (A) which exhibits increased solubility in an alkali developing solution under action of an acid, and an acid generator component (B) which generates an acid upon exposure, wherein the base component (A) includes a polymeric compound (A1) containing a structural unit (a0) represented by the general formula (a0-1) shown below: (wherein, R 1 represents a hydrogen atom, a lower alkyl group or a halogenated lower alkyl group; A represents a bivalent linking group; B represents a bivalent linking group; and R 2 represents an acid dissociable, dissolution inhibiting group).

  提供了一种正性光刻胶组合物，包括一种基础组分(A)，在酸的作用下在碱性显影液中表现出增加的溶解度，以及一种酸发生剂组分(B)，在曝光时产生酸。其中，基础组分(A)包括一种聚合物化合物(A1)，其中包含一个由下式(a0-1)表示的结构单元(a0)：（其中，R1表示氢原子、低碳基或卤代低碳基；A表示双价连接基团；B表示双价连接基团；R2表示酸解离、抑制溶解的基团）。