[1,4-dioxaspiro[4.5]decan-2-yl]methyl methacrylate | 85266-53-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: [1,4-dioxaspiro[4.5]decan-2-yl]methyl methacrylate
• 英文别名: (1,4-Dioxaspiro[4.5]decan-2-yl)methyl 2-methylprop-2-enoate；1,4-dioxaspiro[4.5]decan-3-ylmethyl 2-methylprop-2-enoate
• CAS: 85266-53-1
• 化学式: C₁₃H₂₀O₄
• 分子量: 240.299
• InChiKey: QCYRRLREHQZCCZ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.4
• 重原子数：
  17
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.77
• 拓扑面积：
  44.8
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  1,4-二氧杂螺(4.5)癸基-3-甲醇 、 甲基丙烯酸甲酯 在 bis(1-oxyl-2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl)phthalate 、 氧化二辛基锡 作用下， 反应 6.0h， 以89%的产率得到[1,4-dioxaspiro[4.5]decan-2-yl]methyl methacrylate
  参考文献：
  名称：

  ジオキソラン（メタ）アクリル酸エステルの製造方法、ジオキソラン（メタ）アクリル酸エステル、及びその組成物

  摘要：

  【问题】制造具有高透明性和高纯度的二氧化硅（甲基）丙烯酸酯。 【解决方法】在酯交换催化剂和分子量大于300的N-氧化物类化合物作为聚合抑制剂的存在下，将1,3-二氧化硅-4-甲醇衍生物与（甲基）丙烯酸烷基酯反应，并添加聚合抑制剂，或在与N-氧化物类化合物不同的聚合抑制剂存在下蒸馏制备二氧化硅（甲基）丙烯酸酯的方法。 【选项图】无

  公开号：

  JP2018020993A

文献信息

• 环己基二恶戊烷醇甲基丙烯酸甲酯单体及应用
  申请人：桂林理工大学

  公开号：CN106588864A

  公开（公告）日：2017-04-26

  本发明公开了一种具有紫外光固化作用的环己基二恶戊烷醇甲基丙烯酸甲酯单体及其应用，环己基二恶戊烷醇甲基丙烯酸甲酯单体的结构式为：所述环己基二恶戊烷醇甲基丙烯酸甲酯单体是良好的光固化剂，可利用于紫外光固化改性环氧丙烯酸树脂低聚物，使之形成固化膜。
• Photoresist composition
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：US10564544B2

  公开（公告）日：2020-02-18

  A photoresist composition comprising an acid generator and a resin which comprises one or more structural units (a1) derived from a monomer (a1) having an acid-liable group, all of monomers (a1) showing a distance of Hansen solubility parameters between the monomer (a1) and butyl acetate in the range of 3 to 5, the distance being calculated from formula (1): R=(4×(δdm−15.8)2+(δpm−3.7)2+(δhm−6.3)2)1/2  (1) in which δdm represents a dispersion parameter of a monomer, δpm represents a polarity parameter of a monomer, δhm represents a hydrogen bonding parameter of a monomer, and R represents a distance of Hansen solubility parameters, and at least one of the monomers (a1) showing a difference of R between the monomer (a1) and a compound in which an acid is removed from the monomer (a1) in the range of not less than 5.

  一种光致抗蚀剂组合物，包括一种酸发生器和一种树脂，该树脂由一个或多个结构单元（a1）组成，这些结构单元（a1）由具有酸性基团的单体（a1）衍生而来，所有单体（a1）与乙酸丁酯之间的汉森溶解度参数距离在 3 至 5 之间，该距离由式（1）计算得出： R=(4×(δdm-15.8)2+(δpm-3.7)2+(δhm-6.3)2)1/2 (1) 其中，δdm 代表单体的分散参数，δpm 代表单体的极性参数，δhm 代表单体的氢键参数，R 代表汉森溶解度参数的距离，单体（a1）中至少有一种单体（a1）与从单体（a1）中除去一种酸的化合物之间的 R 差的范围不小于 5。
• PHOTORESIST COMPOSITION
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：US20170329223A1

  公开（公告）日：2017-11-16

  A photoresist composition comprising an acid generator and a resin which comprises one or more structural units (a1) derived from a monomer (a1) having an acid-liable group, all of monomers (a1) showing a distance of Hansen solubility parameters between the monomer (a1) and butyl acetate in the range of 3 to 5, the distance being calculated from formula (1): R =(4×(δ d m −15.8) 2 +(δ p m −3.7) 2 +(δ h m −6.3) 2 ) 1/2 (1) in which δd m represents a dispersion parameter of a monomer, δp m represents a polarity parameter of a monomer, δh m represents a hydrogen bonding parameter of a monomer, and R represents a distance of Hansen solubility parameters, and at least one of the monomers (a1) showing a difference of R between the monomer (a1) and a compound in which an acid is removed from the monomer (a1) in the range of not less than 5.
• ジオキソラン（メタ）アクリル酸エステルの製造方法、ジオキソラン（メタ）アクリル酸エステル、及びその組成物
  申请人：ＭＲＣユニテック株式会社

  公开号：JP2018020993A

  公开（公告）日：2018-02-08

  【課題】高い透明性と高い純度とを備えたジオキソラン（メタ）アクリル酸エステルを製造する。【解決手段】エステル交換触媒と、重合禁止剤である分子量３００以上のＮ−オキシル系化合物との存在下において、１，３−ジオキソラン−４−イル−メタノール誘導体と、（メタ）アクリル酸アルキルエステルとを反応させ、前記重合禁止剤を追加して、又は、前記Ｎ−オキシル系化合物とは別の重合禁止剤の存在下にて蒸留するジオキソラン（メタ）アクリル酸エステルの製造方法。【選択図】なし

  【问题】制造具有高透明性和高纯度的二氧化硅（甲基）丙烯酸酯。 【解决方法】在酯交换催化剂和分子量大于300的N-氧化物类化合物作为聚合抑制剂的存在下，将1,3-二氧化硅-4-甲醇衍生物与（甲基）丙烯酸烷基酯反应，并添加聚合抑制剂，或在与N-氧化物类化合物不同的聚合抑制剂存在下蒸馏制备二氧化硅（甲基）丙烯酸酯的方法。 【选项图】无